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一种石柱水磨抛光装置制造方法及图纸

技术编号:13488027 阅读:102 留言:0更新日期:2016-08-06 18:54
本实用新型专利技术公开了一种石柱水磨抛光装置,包括台面、防水罩、保护外壳、石柱、抛光片、第二台面和集水箱,所述台面的靠近电机的一侧设有一个凹槽,凹槽的三个侧边设有挡水板,凹槽内设有第二台面,第二台面的左侧设有一个下沉的集水箱,第二台面的中央处设有伸缩旋转台,伸缩旋转台上设有夹紧装置,此外,集水箱的底部设有回水管,台面靠近集水箱的位置设有水泵,水泵上连接喷水管,喷水管的喷头对着抛光片和石柱。本实用新型专利技术设置的集水箱和水泵使得喷水管喷出的水能够回收利用,从而节约了水资源,设置的伸缩旋转座不需要人工转动石柱也能够实现石柱的抛光,提高了工作效率,节省了大量的时间,降低了工人劳动强度。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种石柱水磨抛光装置,包括台面、防水罩、保护外壳、石柱、抛光片、第二台面和集水箱,所述台面的靠近电机的一侧设有一个凹槽,凹槽的三个侧边设有挡水板,凹槽内设有第二台面,第二台面的左侧设有一个下沉的集水箱,第二台面的中央处设有伸缩旋转台,伸缩旋转台上设有夹紧装置,此外,集水箱的底部设有回水管,台面靠近集水箱的位置设有水泵,水泵上连接喷水管,喷水管的喷头对着抛光片和石柱。本技术设置的集水箱和水泵使得喷水管喷出的水能够回收利用,从而节约了水资源,设置的伸缩旋转座不需要人工转动石柱也能够实现石柱的抛光,提高了工作效率,节省了大量的时间,降低了工人劳动强度。【专利说明】一种石柱水磨抛光装置
本技术涉及一石材加工领域,具体是一种石柱水磨抛光装置。
技术介绍
当前,随着社会生活水平的提高,人们也越来越注重生活品质,有时会使用石柱来进行装饰,这些石柱一般装饰在庭院的道路或平台旁,随着石柱的吃香,也有更多的工厂开始生产石柱。而在石柱的加工过程中,需要对石柱的表面进行打磨处理,最后在进行抛光,而现有的石柱抛光,一般采用的是手持式抛光机,这样抛光石柱会增加工人的劳动强度,同时,采用人工进行抛光,由于人力会有用尽时,这样就会增加抛光时间,从而降低了石柱的抛光效率。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种结构简单、使用方便的石柱水磨抛光装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:—种石柱水磨抛光装置,包括台面、防水罩、保护外壳、石柱、抛光片、第二台面和集水箱,所述台面的中间设有竖直向上的固定架,固定架的左右两端均设有一个通孔,固定架的一侧固设有电机,固定架的另一侧设有保护外壳,电机连接转轴,转轴穿过固定架左侧的通孔进入保护外壳内,固定架右侧的通孔内设有从动轴,从动轴上设有从动带轮,转轴在保护外壳内的那端设有主带轮,主带轮通过皮带带传动连接从带轮,从动轴的另一端连接有抛光片;所述台面的靠近电机的一侧设有一个凹槽,凹槽的三个侧边设有挡水板,凹槽内设有第二台面,第二台面的左侧设有一个下沉的集水箱,第二台面的中央处设有伸缩旋转台,伸缩旋转台上设有夹紧装置,此外,集水箱的底部设有回水管,台面靠近集水箱的位置设有水栗,水栗上连接喷水管,喷水管的喷头对着抛光片和石柱。进一步的:所述第二台面的左侧设有过滤网。进一步的:所述电机周围设有防水罩。与现有技术相比,本技术的结构简单、使用方便,设置的集水箱和水栗使得喷水管喷出的水能够回收利用,从而节约了水资源,同时,设置的伸缩旋转座不需要人工转动石柱也能够实现石柱的抛光,提高了工作效率,节省了大量的时间,降低了工人劳动强度。【附图说明】图1为一种石柱水磨抛光装置的俯视结构示意图。【具体实施方式】下面结合【具体实施方式】对本专利的技术方案作进一步详细地说明。请参阅图1,一种石柱水磨抛光装置,包括台面1、防水罩6、保护外壳5、石柱16、抛光片12、第二台面17和集水箱19,所述台面I的中间设有竖直向上的固定架4,固定架4的左右两端均设有一个通孔,固定架4的一侧固设有电机2,电机2周围设有防水罩6,固定架4的另一侧设有保护外壳5,电机2连接转轴3,转轴3穿过固定架4左侧的通孔进入保护外壳5内,固定架4右侧的通孔内设有从动轴11,从动轴11上设有从动带轮10,转轴3在保护外壳5内的那端设有主带轮8,主带轮8通过皮带9带传动连接从带轮10,从动轴11的另一端连接有抛光片12;所述台面I的靠近电机2的一侧设有一个凹槽,凹槽的三个侧边设有挡水板13,凹槽内设有第二台面17,第二台面17的左侧设有一个下沉的集水箱19,第二台面17的左侧设有过滤网18,第二台面17的中央处设有伸缩旋转台14,伸缩旋转台14上设有夹紧装置15,石柱16通过夹紧装置15固定在伸缩旋转台14上方,此外,集水箱19的底部设有回水管20,台面I靠近集水箱19的位置设有水栗21,水栗21上连接喷水管22,喷水管22的喷头对着抛光片12和石柱16;使用过程中,先将石柱16固定在伸缩旋转台14上,然后水栗21,使得水栗对着石柱16喷水,然后启动电机2,电机2带动抛光片12转动,在抛光过程中,石柱16对着伸缩旋转台14而转动,伸缩旋转台14还能够升降,从而使得抛光片能够将石柱的侧面都抛光。上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明,但是本专利并不限于上述实施方式,在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本专利宗旨的前提下作出各种变化。【主权项】1.一种石柱水磨抛光装置,包括台面(I)、防水罩(6)、保护外壳(5)、石柱(16)、抛光片(12)、第二台面(17)和集水箱(19),其特征在于,所述台面(I)的中间设有竖直向上的固定架(4),固定架(4)的左右两端均设有一个通孔,固定架(4)的一侧固设有电机(2),固定架(4)的另一侧设有保护外壳(5),电机(2)连接转轴(3),转轴(3)穿过固定架(4)左侧的通孔进入保护外壳(5)内,固定架(4)右侧的通孔内设有从动轴(11),从动轴(11)上设有从动带轮(10),转轴(3)在保护外壳(5)内的那端设有主带轮(8),主带轮(8)通过皮带(9)带传动连接从带轮(10),从动轴(11)的另一端连接有抛光片(12);所述台面(I)的靠近电机(2)的一侧设有一个凹槽,凹槽的三个侧边设有挡水板(I3),凹槽内设有第二台面(I7),第二台面(17)的左侧设有一个下沉的集水箱(I9),第二台面(I7)的中央处设有伸缩旋转台(I4),伸缩旋转台(14)上设有夹紧装置(15),此外,集水箱(19)的底部设有回水管(20),台面(I)靠近集水箱(19)的位置设有水栗(21),水栗(21)上连接喷水管(22),喷水管(22)的喷头对着抛光片(12)和石柱(16)。2.根据权利要求1所述的一种石柱水磨抛光装置,其特征在于,所述第二台面(17)的左侧设有过滤网(18)。3.根据权利要求1所述的一种石柱水磨抛光装置,其特征在于,所述电机(2)周围设有防水罩(6)。【文档编号】B24B55/02GK205415266SQ201620233210【公开日】2016年8月3日【申请日】2016年3月24日【专利技术人】张辉煌 【申请人】张辉煌本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种石柱水磨抛光装置,包括台面(1)、防水罩(6)、保护外壳(5)、石柱(16)、抛光片(12)、第二台面(17)和集水箱(19),其特征在于,所述台面(1)的中间设有竖直向上的固定架(4),固定架(4)的左右两端均设有一个通孔,固定架(4)的一侧固设有电机(2),固定架(4)的另一侧设有保护外壳(5),电机(2)连接转轴(3),转轴(3)穿过固定架(4)左侧的通孔进入保护外壳(5)内,固定架(4)右侧的通孔内设有从动轴(11),从动轴(11)上设有从动带轮(10),转轴(3)在保护外壳(5)内的那端设有主带轮(8),主带轮(8)通过皮带(9)带传动连接从带轮(10),从动轴(11)的另一端连接有抛光片(12);所述台面(1)的靠近电机(2)的一侧设有一个凹槽,凹槽的三个侧边设有挡水板(13),凹槽内设有第二台面(17),第二台面(17)的左侧设有一个下沉的集水箱(19),第二台面(17)的中央处设有伸缩旋转台(14),伸缩旋转台(14)上设有夹紧装置(15),此外,集水箱(19)的底部设有回水管(20),台面(1)靠近集水箱(19)的位置设有水泵(21),水泵(21)上连接喷水管(22),喷水管(22)的喷头对着抛光片(12)和石柱(16)。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张辉煌
申请(专利权)人:张辉煌
类型:新型
国别省市:福建;35

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