解离率监控装置、等离子清洗单元以及等离子设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种解离率监控装置、等离子清洗装置以及等离子设备，涉及液晶显示制造领域，可以解决现有等离子设备中对解离率缺少监控的问题，给等离子解离部件更换以及设备维护保养提供准确科学数据，确保工艺镀膜腔室清洗效果和产品品质稳定性。本实用新型专利技术的解离率监控装置，用于监控等离子设备的解离率，包括：电源、等离子采集器、电流表和线材，所述电源、等离子采集器和电流表通过所述线材相互串联形成闭合电路；等离子采集器包括：两个极板和设置于两个极板之间的绝缘物质。

【技术实现步骤摘要】
201620180334

【技术保护点】
一种解离率监控装置，用于监控等离子设备的解离率，其特征在于，包括：电源、等离子采集器、电流表和线材，所述电源、等离子采集器和电流表通过所述线材相互串联形成闭合电路；所述等离子采集器包括：两个极板和设置于两个极板之间的绝缘物质。

【技术特征摘要】
1.一种解离率监控装置，用于监控等离子设备的解离率，其特征在于，包
括：电源、等离子采集器、电流表和线材，所述电源、等离子采集器和电流表
通过所述线材相互串联形成闭合电路；
所述等离子采集器包括：两个极板和设置于两个极板之间的绝缘物质。
2.根据权利要求1所述的监控装置，其特征在于，所述绝缘物质为陶瓷管；
两个极板分别贴合于所述陶瓷管两端的端面设置，所述陶瓷管的柱面上设置有
供等离子气体进入的进气孔。
3.根据权利要求2所述的监控装置，其特征在于，所述进气孔为多个，分
布在所述陶瓷管迎向等离子气体的半个柱面上。
4.根据权利要求2或3所述的监控装置，其特征在于，所述陶瓷管与所述极
板之间均通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：王满，廖国华，马方，储明明，王杰，王宜申，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34