基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹方法技术

本发明专利技术涉及一种基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹方法，该方法以聚苯乙烯、聚乙二醇为两种大分子拥挤试剂，以极少量的安石榴林为模板分子，在加入了两种拥挤试剂聚苯乙烯、聚乙二醇的四氢呋喃溶液以及甲苯所组成的混合致孔剂中，再加入功能单体、交联剂或引发剂，超声促进溶解并除去溶解在其中的氧气并引发反应，得到具有选择性的安石榴林印迹整体柱。本发明专利技术所述方法模板消耗量极少，极大地降低了安石榴林的印迹成本。在不锈钢柱管中成功合成了安石榴林印迹整体柱及其空白对照柱并进行色谱性能优化。结果表明，印迹因子最高可达3.14。该方法制备简单，且高分子聚合物耐用性好，为安石榴林的分离纯化提供了一种节约成本的方法。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基于双拥挤效应的低模板消耗安石榴林印迹方法，其特征在于按下列步骤进行：a、将两种拥挤试剂聚乙二醇和聚苯乙烯分别溶解在四氢呋喃溶液中，将质量百分数为0.035% 的安石榴林，溶解在质量分数为68.35% 的含有两种拥挤试剂的四氢呋喃溶液中；b、再加入质量分数2.48% 的丙烯酰胺、质量分数20.80% 的二甲基丙烯酸乙二醇酯、质量分数6.92% 的甲苯和质量分数为1.40% 的偶氮二异丁腈，超声10分钟，溶解待溶液澄清，转移至长100 mm，直径4.6 mm的不锈钢管柱中，封住不锈钢柱管两端，于温度55℃恒温水浴中热引发反应24小时；c、将合成的不锈钢柱取出，装上柱头，连接于高压输液泵，分别以150 mL四氢呋喃，100 mL甲醇‑乙酸=9:1的混合液以及50 mL纯甲醇为流动相，控制流速为1.0 mL/min进行冲洗，即可得到安石榴林印迹整体柱。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘照胜，孙光映，阿吉艾克拜尔·艾萨，
申请(专利权)人：中国科学院新疆理化技术研究所，
类型：发明
国别省市：新疆;65