【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种可控、通用的定向表面印迹方法,其特征在于,先通过硼亲和作用将模板糖蛋白锚定于基体材料表面,再利用可自聚合的化合物在水相中的自聚合形成的聚合物形成印迹层,最后在酸性条件下移除模板形成印迹空腔,从而得到分子印迹聚合物。
【技术特征摘要】
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