本实用新型专利技术提供一种双面ITO导电膜，包括基材，在所述基材的两面依次设置有折射率调整层，光学调整层和ITO导电层；所述折射率调整层的厚度为0.5-2.5μm；所述光学调整层的厚度为10-40nm；所述ITO导电层的厚度为15-30nm，所述ITO导电膜，其透光率好，颜色b*值适中，铅笔硬度较高，外观也好较好，且表面电阻小，且厚度较小，热稳定性较好。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及导电膜领域领域，特别涉及一种双面ΙΤ0导电膜。
技术介绍
触摸式屏幕在手机和平板电脑等有着越来越多的应用，触摸屏作为一种新型的输 出设备已十分流行和普遍，因此作为触摸屏必不可少的透明导电膜需求量也越来也大。ΙΤ0 导电膜玻璃，即氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)透明导电膜玻璃，多通过ΙΤ0导电膜玻璃生产 线，在高度净化的厂房环境中，利用平面磁控技术，在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀 层并经高温退火处理得到的高技术产品。产品广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、 微电子ΙΤ0导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。在应用的过程中，导电膜的透光率、颜色b* 值和铅笔硬度等各项综合性能都较好的双面ΙΤ0导电膜。
技术实现思路
综上所述，本技术有必要提供一种双面ΙΤ0导电膜。 -种双面ΙΤ0导电膜，包括基材，在所述基材的两面依次设置有折射率调整层，光 学调整层和ΙΤ0导电层;所述折射率调整层的厚度为0.5-2.5μπι;所述光学调整层的厚度为 10_40nm;所述ΙΤ0导电层的厚度为15_30nm。 进一步地，所述基材选择PET基材、C0C基材、COP基材。 进一步地，所述折射率调整层的折射率介于1.55-1.75之间，优选为1.6-1.7之间。 进一步地，所述光学调整层的的折射率介于1.35-1.55之间，优选为1.4-1.5之间。 进一步地，所述光学调整层的材质为二氧化硅。 进一步地，所述折射率调整层的厚度优选为1.0-1.5μπι，所述光学调整层的厚度优 选为20-30nm，所述ΙΤ0导电层的厚度优选为20-25nm。 进一步地，所述折射率调整层的厚度为Ι.Ομπι，所述光学调整层的厚度为20nm，所 述ΙΤ0导电层的厚度为23nm〇 优选地，所述折射率调整层通过湿式涂布的方法制备，所述光学调整层和ΙΤ0导电 层通过干式镀膜的方法制备。 相较现有技术，本技术制得的双面ΙΤ0导电膜透光率好，颜色b*值适中，铅笔 硬度较高，外观也好较好，且表面电阻小，且厚度较小，热稳定性较好。【附图说明】 图1为实施例的结构示意图。【具体实施方式】 下面结合一些【具体实施方式】对本技术做进一步描述。具体实施例为进一步详 细说明本技术，非限定本技术的保护范围。 对本技术所用的材料的说明： PET:聚对苯二甲酸乙二醇酯 实施例的原料来自市售。测试方法热稳定性测量方法为在150°C的空气中，加热60分钟后，计算ΙΤ0导电膜方块电阻 值与原方块电阻的比值。 透光率用透射雾影仪测量。 表面电阻量测方式：使用表面电阻量测仪搭配四点探针（Mitsubishi制造 MCP-7370)，量测薄膜表面之电阻。铅笔硬度:用铅笔硬度测试仪测试。颜色b*值:使用分光色差仪量测产品的Lab值，其中b*值越大代表颜色越篇黄。 外观评判:将膜已悬吊方式调挂于治具上，以三波段灯源观察膜面，检测是否有MD 向或部规则变形。 有无 ΙΤ0时颜色差异：将部分ΙΤ0以类王水蚀刻掉留下Si02层，并于ΙΤ0表面贴附 0CA胶后，以三波段光源观察有无 ΙΤ0之区域，无颜色差异或轻微颜色差异时时则判定为0K。 实施例1 如图1所示，一种双面ΙΤ0导电膜，包括基材1，在所述基材的两面依次设置有折射 率调整层2,光学调整层3和ΙΤ0导电层4;基材的材质为PET; 折射率调整层的折射率为1.65，折射率调整层的厚度为0.5μπι; 光学调整层的材质为二氧化硅材质，光学调整层的厚度为20nm; 所述ΙΤ0导电层的厚度为20nm〇 实施例2 如图1所示，一种双面ΙΤ0导电膜，包括基材1，在所述基材的两面依次设置有折射 率调整层2,光学调整层3和ΙΤ0导电层4;基材的材质为PET; 折射率调整层的折射率为1.65，折射率调整层的厚度为2.5μπι; 光学调整层的材质为二氧化硅材质，光学调整层的厚度为20nm; 所述ΙΤ0导电层的厚度为20nm〇 实施例3 如图1所示，一种双面ΙΤ0导电膜，包括基材1，在所述基材的两面依次设置有折射 率调整层2,光学调整层3和ΙΤ0导电层4; 基材的材质为PET;折射率调整层的折射率为1.65，折射率调整层的厚度为Ιμπι; 光学调整层的材质为二氧化硅材质，光学调整层的厚度为25nm; 所述ΙΤ0导电层的厚度为25nm〇 实施例4 如图1所示，一种双面ΙΤ0导电膜，包括基材1，在所述基材的两面依次设置有折射 率调整层2,光学调整层3和ΙΤ0导电层4; 基材的材质为PET; 折射率调整层的折射率为1.7,折射率调整层的厚度为1.5μπι; 光学调整层的材质为二氧化硅材质，光学调整层的厚度为40nm; 所述ΙΤ0导电层的厚度为30nm〇 实施例1至实施例4中的折射率调整层通过湿式涂布的方法制备，光学调整层和 ΙΤ0导电层通过干式镀膜的方法制备。 表 1 _ 以上所述仅为本技术的实施例，并非因此限制本技术的专利范围，凡是 利用本技术说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相 关的
，均同理包括在本技术的专利保护范围内。【主权项】1. 一种双面ITO导电膜，其特征在于： 包括基材，在所述基材的两面依次设置有折射率调整层，光学调整层和ΙΤ0导电层； 所述折射率调整层的厚度为0.5-2.5μπι; 所述光学调整层的厚度为l〇-40nm; 所述ITO导电层的厚度为15-30nm。2. 如权利要求1所述的双面ITO导电膜，其特征在于： 所述基材选择PET基材、C0C基材或COP基材。3. 如权利要求2所述的双面IT0导电膜，其特征在于： 所述折射率调整层的折射率介于1.55-1.75之间，优选为1.6-1.7之间。4. 如权利要求3所述的双面IT0导电膜，其特征在于： 所述光学调整层的折射率介于1.35-1.55之间，优选为1.4-1.5之间。5. 如权利要求3所述的双面IT0导电膜，其特征在于： 所述光学调整层的材质为二氧化硅。6. 如权利要求2所述的双面IT0导电膜，其特征在于： 所述折射率调整层的厚度优选为1.〇-1.5以111，所述光学调整层的厚度优选为2〇-3〇11111， 所述IT0导电层的厚度优选为20-25nm〇7. 如权利要求2所述的双面ITO导电膜，其特征在于： 所述折射率调整层的厚度为Ι.Ομπι，所述光学调整层的厚度为20nm，所述IT0导电层的 厚度为23nm〇【专利摘要】本技术提供一种双面ITO导电膜，包括基材，在所述基材的两面依次设置有折射率调整层，光学调整层和ITO导电层；所述折射率调整层的厚度为0.5-2.5μm；所述光学调整层的厚度为10-40nm；所述ITO导电层的厚度为15-30nm，所述ITO导电膜，其透光率好，颜色b*值适中，铅笔硬度较高，外观也好较好，且表面电阻小，且厚度较小，热稳定性较好。【IPC分类】H01B5/14, G06F3/041【公开号】CN205384882【申请号】CN201620046793【专利技术人】胡文玮 【申请人】汕头万顺包装材料股份有限公司, 汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司【公开日】2016年7月13日【申请日】2016年1月16日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种双面ITO导电膜，其特征在于：包括基材，在所述基材的两面依次设置有折射率调整层，光学调整层和ITO导电层；所述折射率调整层的厚度为0.5‑2.5μm；所述光学调整层的厚度为10‑40nm；所述ITO导电层的厚度为15‑30nm。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡文玮，
申请(专利权)人：汕头万顺包装材料股份有限公司，汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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