四斜面阵列可展结构和发泡板材及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种四斜面阵列可展结构，由若干个单元结构四方连续构成，所述单元结构的长度折叠半角和宽度折叠半角均为大于0°而小于180°，该结构几何展开后为一完整平面；采用此四斜面阵列可展结构作为芯材的发泡板材及其制备方法。本发明专利技术四斜面阵列可展结构比强度、比刚度高，耐疲劳性强，且其设计性强，具有可展性,可通过结构参数优化设计提高其力学性能；由其增强的泡沫板材，具有质量轻、比强度、比刚度高等特点，而且具有隔音降噪、耐疲劳等优点，其芯材结构尺寸多样，设计性强，同时板材具有很好拼接性，可以根据需要拼接为所需的形状和尺寸。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种四斜面阵列可展结构，其特征在于：由若干个单元结构四方连续构成，所述单元结构的长度折叠半角和宽度折叠半角均为大于0°而小于180°，该结构几何展开后为一完整平面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姜开宇，宋涛，赵骥，
申请(专利权)人：微刻北京科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11