本实用新型专利技术公开了一种同步辐射X光连续衰减装置。所述一种同步辐射X光连续衰减装置，包括正反向电动位移平台、衰减片夹持支架、两块衰减片，所述衰减片夹持支架夹持固定所述衰减片，所述衰减片夹持支架设置于所述正反向电动位移平台上，所述正反向电动位移平台用于移动所述衰减片夹持支架以使得所述衰减片做相对运动。本实用新型专利技术的同步辐射X光连续衰减装置能够提供对X光辐射衰减程度的连续调节，满足用户对衰减率的不同要求。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种X光辐射，尤其是涉及一种同步辐射X光连续衰减装置。
技术介绍
随着同步辐射光源的发展，科研人员利用高稳定性、高通量的同步辐射X光解析出越来越多的生物大分子结构。生物大分子样品以晶体的形式进行实验，X光与生物大分子晶体相互作用，产生衍射图，通过数据处理解析出生物大分子的结构。不同的晶体对X光的承受能力不同，X光过强则会对晶体造成辐射损伤，X光过弱会导致某些衍射点采集不到，所以不同的蛋白质晶体均需要调节到合适的X光的光强。虽然可以通过减少曝光时间来降低晶体的辐射损伤，但是由于有些晶体极易被辐射损伤，尤其是微小晶体(10微米以内)必须加入衰减片来降低X光的光通量密度。其次，线站工作人员通常用探测器来监测光学仪器的位置，若某种仪器的安装位置改变则可以通过探测器探测到的异常情况来调整光学仪器的位置。然而高通量的X光对探测器的损害较大，在调整光学仪器位置时候必须使用衰减器加最大衰减来使得光通量最小。现在同步辐射光束线站所用的衰减器大部分为转盘形式的衰减器，转盘上有不同厚度的衰减片。或者是由多个衰减片组成的衰减器，每个衰减片都能插入或者移出光路从而产生不同的衰减片厚度，进而得到不同的衰减率。但是这2种形式的衰减器都不能实现连续衰减，只能提供有限的衰减选择。连续型衰减器可以实现X光的连续衰减，可为用户提供更多的衰减选择。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是为了克服现有技术中X光辐射衰减器的衰减选择有限，无法根据需要连续地对衰减程度进行调节，并且在垂直方向有光偏移问题的缺陷，提供一种同步辐射X光连续衰减装置。本技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:—种同步福射X光连续衰减装置，其特点在于，包括正反向电动位移平台、衰减片夹持支架、两块衰减片，所述衰减片夹持支架夹持固定所述衰减片，所述衰减片夹持支架设置于所述正反向电动位移平台上，所述正反向电动位移平台用于移动所述衰减片夹持支架以使得所述衰减片做相对运动。较佳地，每一块衰减片均呈三棱柱形。较佳地，所述衰减片相向放置呈直四棱柱形。较佳地，所述衰减片由高纯铝(纯度高于99.8% )制成。或者，所述衰减片可由原子序数小于铝的其他材料制成。这是由于加工工艺的限制，衰减片最薄处小于0.1mm很难加工出来，为了满足较大的衰减范围，因而需选用原子序数等于铝或者原子序数小于铝的材料制成衰减片。较佳地，所述正反向电动位移平台包括减速器，用于减轻所述衰减片在移动过程中随所述衰减片夹持支架的晃动。较佳地，所述正反向电动位移平台还包括精密双向丝杠、带有脉冲计步器的电机，所述脉冲计步器用于记录所述电机运行的位置。在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可任意组合，即得本技术各较佳实例。本技术的积极进步效果在于:本技术的同步辐射X光连续衰减装置能够提供对X光辐射衰减程度的连续调节，满足用户对衰减率的不同要求。【附图说明】图1为本技术一较佳实施例的同步辐射X光连续衰减装置的示意图。图2为图1的同步辐射X光连续衰减装置沿图1中虚线的剖视图。图3为图1的同步辐射X光连续衰减装置中两块衰减片的放大示意图。【具体实施方式】下面通过实施例的方式进一步说明本技术，但并不因此将本技术限制在所述的实施例范围之中。参考图1和图2所示，本技术一较佳实施例的同步辐射X光连续衰减装置，包括正反向电动位移平台、衰减片夹持支架6、两块衰减片7及X光辐射源，所述衰减片夹持支架夹持固定所述衰减片，所述衰减片夹持支架设置于所述正反向电动位移平台上，所述正反向电动位移平台用于移动所述衰减片夹持支架以使得所述衰减片做相对运动。所述同步辐射X光连续衰减装置还包括。其中，所述正反向电动位移平台包括减速器2、联轴器3、用于固定的轴承4、精密双向丝杠5、带脉冲计步器步进电机I。所述减速器2用于减轻所述衰减片在移动过程中随所述衰减片夹持支架的晃动。所述脉冲计步器用于记录所述电机运行的位置。如图3所示，每一块衰减片均呈三棱柱形。所述衰减片相向放置呈直四棱柱形。所述衰减片由高纯度的铝制成。虽然以上描述了本技术的【具体实施方式】，但是本领域的技术人员应当理解，这些仅是举例说明，本技术的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本技术的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本技术的保护范围。【主权项】1.一种同步辐射X光连续衰减装置，其特征在于，包括正反向电动位移平台、衰减片夹持支架、两块衰减片，所述衰减片夹持支架夹持固定所述衰减片，所述衰减片夹持支架设置于所述正反向电动位移平台上，所述正反向电动位移平台用于移动所述衰减片夹持支架以使得所述衰减片做相对运动。2.如权利要求1所述的同步辐射X光连续衰减装置，其特征在于，每一块衰减片均呈三棱柱形。3.如权利要求2所述的同步辐射X光连续衰减装置，其特征在于，所述衰减片相向放置呈直四棱柱形。4.如权利要求1所述的同步辐射X光连续衰减装置，其特征在于，所述衰减片由铝制成。5.如权利要求4所述的同步辐射X光连续衰减装置，其特征在于，铝的纯度高于99.8%。6.如权利要求1所述的同步辐射X光连续衰减装置，其特征在于，所述正反向电动位移平台包括减速器，用于减轻所述衰减片在移动过程中随所述衰减片夹持支架的晃动。7.如权利要求1-6中任意一项所述的同步辐射X光连续衰减装置，其特征在于，所述正反向电动位移平台还包括精密双向丝杠、带有脉冲计步器的电机，所述脉冲计步器用于记录所述电机运行的位置。【专利摘要】本技术公开了一种同步辐射X光连续衰减装置。所述一种同步辐射X光连续衰减装置，包括正反向电动位移平台、衰减片夹持支架、两块衰减片，所述衰减片夹持支架夹持固定所述衰减片，所述衰减片夹持支架设置于所述正反向电动位移平台上，所述正反向电动位移平台用于移动所述衰减片夹持支架以使得所述衰减片做相对运动。本技术的同步辐射X光连续衰减装置能够提供对X光辐射衰减程度的连续调节，满足用户对衰减率的不同要求。【IPC分类】G01N23/20【公开号】CN205352970【申请号】CN201520966274【专利技术人】李冰, 黄胜, 汪启胜, 崔莹, 何建华 【申请人】中国科学院上海应用物理研究所【公开日】2016年6月29日【申请日】2015年11月27日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种同步辐射X光连续衰减装置，其特征在于，包括正反向电动位移平台、衰减片夹持支架、两块衰减片，所述衰减片夹持支架夹持固定所述衰减片，所述衰减片夹持支架设置于所述正反向电动位移平台上，所述正反向电动位移平台用于移动所述衰减片夹持支架以使得所述衰减片做相对运动。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李冰，黄胜，汪启胜，崔莹，何建华，
申请(专利权)人：中国科学院上海应用物理研究所，
类型：新型
国别省市：上海;31
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