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玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件制造技术

技术编号:13285900 阅读:45 留言:0更新日期:2016-07-09 02:10
本发明专利技术提供一种包含稀土类氧化物且热稳定性优秀的高折射率低色散玻璃。一种玻璃,其中,在以氧化物为基准的玻璃组成中,SiO2的含量相对于B2O3、SiO2及P2O5的合计含量的质量比为0.050~0.250,Gd2O3的含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3及Lu2O3的合计含量的质量比不足0.360,B2O3、SiO2及P2O5的合计含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3及ZrO2的合计含量的质量比为0.405以上且不足0.460,Ta2O5的含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3和ZrO2的合计含量的质量比不足0.030,Nb2O5、TiO2、WO3及Bi2O3的合计含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3及ZrO2的合计含量的质量比不足0.013,Gd2O3的含量超过8.0质量%,La2O3的含量为38~48质量%,Nb2O5的含量不足1.0质量%,折射率nd的范围为1.78~1.80,且阿贝数νd的范围为47~50。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件
技术介绍
作为高折射率低色散玻璃,已知有包含稀土类氧化物的玻璃(参照专利文献1~11)。高折射率低色散玻璃作为各种透镜等的光学元件材料,其需求高。这是因为,高折射率低色散性的透镜例如能够通过与高折射率高色散性的透镜组合而构成紧凑、高功能的色像差校正用的光学系统。进而,通过将高折射率低色散性的透镜的光学功能面非球面化,从而能够谋求各种光学系统的进一步的高功能化、紧凑化。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开昭61-219738号公报;专利文献2:日本特开2010-248057号公报;专利文献3:日本特开2010-265164号公报;专利文献4:日本特开2007-269584号公报;专利文献5:日本特开2009-242210号公报;专利文献6:日本特开2012-46410号公报;专利文献7:日本特开2013-107810号公报;专利文献8:日本特开昭58-069741号公报;专利文献9:日本特开2005-239544号公报;专利文献10:日本特开昭56-160340号公报;专利文献11:日本特开昭59-169952号公报。可是,作为制作透镜等光学元件的方法,已知有如下的方法,即,制作与光学元件的形状近似的被称为光学元件坯件的中间产品,对该中间产品实施研磨、抛光加工来制造光学元件。作为这样的中间产品的制作方法的一个方式,有将适量的熔融玻璃压制成型为中间产品的方法(称为直接压制法)。此外,作为其它的方式,有如下方法:将熔融玻璃浇铸到铸模中而成型为玻璃板,切断该玻璃板而制成多个玻璃片,将该玻璃片再加热、软化而通过压制成型制成中间产品的方法;将适量的熔融玻璃成型为被称为玻璃料滴的玻璃块,将该玻璃块再加热、软化,进行压制成型而得到中间产品的方法,等。相对于直接压制法,将玻璃再加热、软化而进行压制成型的方法被称为再加热压制法。此外,作为制作光学元件的方法,还已知有如下方法,即,用熔融玻璃来制作压制成型用玻璃材料,利用成型模对该压制成型用玻璃材料进行精密压制成型,由此得到光学元件(称为精密压制成型法)。在精密压制成型法中,通过转印成型模的成型面形状,从而能够在不经过研磨、抛光等机械加工的情况下形成光学元件的光学功能面。在以上记载的直接压制法、再加热压制法、精密压制成型法的任一种中,如果在制造过程中在玻璃中析出晶体,就难以得到具有优秀的透明性的光学元件。因此,要求抑制了制造过程中的晶体析出的玻璃,即,热稳定性高的玻璃。另一方面,在玻璃成分中,稀土类氧化物因能够在不大幅提高色散的情况下(不大幅降低阿贝数的情况下)提高折射率而作为对于制作高折射率低色散玻璃有用的成分。因此,专利文献1~11所记载的玻璃均包含La2O3、Gd2O3等稀土类氧化物的一种以上。然而,根据本专利技术人的研究,包含稀土类氧化物的玻璃一般具有缺乏热稳定性的倾向。
技术实现思路
专利技术要解决的问题因此,本专利技术的一个方式的目的在于,提供一种包含稀土类氧化物且热稳定性优秀的高折射率低色散玻璃。本专利技术的一个方式涉及一种玻璃,其中,在以氧化物为基准的玻璃组成中,Nb2O5、TiO2、WO3及Bi2O3的合计含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3及ZrO2的合计含量的质量比[(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3+ZrO2)]不足0.013,Ta2O5的含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3及ZrO2的合计含量的质量比[Ta2O5/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3+ZrO2)]不足0.030,B2O3、SiO2及P2O5的合计含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3及ZrO2的合计含量的质量比[(B2O3+SiO2+P2O5)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3+ZrO2)]为0.405以上且不足0.460,SiO2的含量相对于B2O3、SiO2及P2O5的合计含量的质量比[SiO2/(B2O3+SiO2+P2O5)]为0.050~0.250,Gd2O3的含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3及Lu2O3的合计含量的质量比[Gd2O3/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3)]不足0.360,Gd2O3的含量超过8.0质量%,La2O3的含量为38~48质量%,Nb2O5的含量不足1.0质量%,折射率nd的范围为1.78~1.80,且阿贝数νd的范围为47~50。上述的玻璃是分别以上述含量包含稀土类氧化物Gd2O3和La2O3且具有上述范围的折射率和阿贝数的高折射率低色散玻璃,在该玻璃中,通过使上述各种成分的含量/合计含量的比例在上述范围内,从而能够示出优秀的热稳定性。专利技术效果根据本专利技术的一个方式,能够提供一种包含稀土类氧化物、示出高折射率低色散特性、且能够示出优秀的热稳定性的玻璃。根据本专利技术的一个方式,能够提供一种由上述的玻璃构成的压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件。具体实施方式[玻璃]本专利技术的一个方式的玻璃是具有上述的玻璃组成、折射率nd的范围为1.78~1.80、且阿贝数νd的范围为47~50的玻璃。以下,对上述的玻璃进行详细说明。另外,以下只要没有特别说明,折射率就是指氦的d线(波长为587.56nm)的折射率nd。此外,阿贝数νd是作为表示与色散相关的性质的值而使用的,设为用下式表示。在此,nF是氢的蓝色F线(波长为486.13nm)的折射率,nC是氢的红色C线(波长为656.27nm)的折射率。νd=(nd-1)/(nF-nC)在本专利技术中,以氧化物为基准表示玻璃的玻璃组成。在此,“以氧化物为基准的玻璃组成”是指,通过设玻璃原料在熔融时全部被分解而在玻璃中作为氧化物存在来进行换算而得到的玻璃组成。此外,只要没有特别说明,将玻璃组成设为以质量为基准(质量%、质量比)来表示。本专利技术中的玻璃组成能够通过例如ICP-AES(InductivelyCoupledPlasma-AtomicEmissionSpectrometry,电感耦合等离子体原子发射光谱法)等方法求出。定量分析使用ICP本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种玻璃,其中,在以氧化物为基准的玻璃组成中,SiO2的含量相对于B2O3、SiO2及P2O5的合计含量的质量比[SiO2/(B2O3+SiO2+P2O5)]为0.050~0.250,Gd2O3的含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3及Lu2O3的合计含量的质量比[Gd2O3/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3)]不足0.360,B2O3、SiO2及P2O5的合计含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3及ZrO2的合计含量的质量比[(B2O3+SiO2+P2O5)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3+ZrO2)]为0.405以上且不足0.460,Ta2O5的含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3及ZrO2的合计含量的质量比[Ta2O5/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3+ZrO2)]不足0.030,Nb2O5、TiO2、WO3及Bi2O3的合计含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3及ZrO2的合计含量的质量比[(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3+ZrO2)]不足0.013,Gd2O3的含量超过8.0质量%,La2O3的含量为38~48质量%,Nb2O5的含量不足1.0质量%,折射率nd的范围为1.78~1.80,且阿贝数νd的范围为47~50。...

【技术特征摘要】
2014.12.26 JP 2014-2653611.一种玻璃,其中,
在以氧化物为基准的玻璃组成中,
SiO2的含量相对于B2O3、SiO2及P2O5的合计含量的质量比[SiO2/(B2O3+SiO2+P2O5)]为0.050~0.250,
Gd2O3的含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3及Lu2O3的合计含量
的质量比[Gd2O3/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3)]不足0.360,
B2O3、SiO2及P2O5的合计含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、L
u2O3及ZrO2的合计含量的质量比[(B2O3+SiO2+P2O5)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3+ZrO2)]为0.405以上且不足0.460,
Ta2O5的含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、Lu2O3及ZrO2的合计
含量的质量比[Ta2O5/(La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3+ZrO2)]不足0.03
0,
Nb2O5、TiO2、WO3及Bi2O3的合计含量相对于La2O3、Gd2O3、Y2O3、Y
b2O3、Lu2O3及ZrO2的合计含量的质量比[(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)/(L
a2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Lu2O3+ZrO2)]不足0.013,
Gd2O3的含量超过8.0质量%,
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【专利技术属性】
技术研发人员:桑谷俊伍
申请(专利权)人:HOYA株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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