发声装置及其实现方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种发声装置及其实现方法，属于电子技术领域。发声装置包括有物体滴落结构、滴落接触面、位置控制器、声音采集装置、声音处理装置、输出装置。使用者通过位置控制器里的控制器组件，改变物体滴落结构和滴落接触面之间的相对距离，从而达到改变声音的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于电子

技术介绍
产生音乐的方式，是多种多样的。包括人类在内的生物，很多都可以通过口腔进行发声。而蝉可以通过腹部的鸣叫器进行发声。另外，人们还专利技术了各种各样的乐器，比如管弦乐、打击乐，等等。各种各样的声音，使世界丰富多彩。但仍旧有一些其他的声音产生的类型，可以随着技术的发展逐步产生。
技术实现思路
专利技术的目的，是提供一种，利用本专利技术，可以将滴落发生出的声音进行控制，来产生人们所需要的声音类型，利用滴落创出特殊的声音效果。本专利技术所述的发声装置，该装置包括:物体滴落结构，它是用以将物体滴落的功能结构；滴落接触面，它与前述的物体滴落结构配套设施，将通过物体滴落结构所滴落物体在该记录面上产生碰撞效果；位置控制模块，它是通过电磁铁所实现的能够控制物体滴落结构和和滴落接触面两者其一的位置和结构的控制装置；声音采集模块，它对应着滴落接触面设置，是用于采集物体在滴落接触面上碰撞声音的结构功能。声音处理装置、输出装置，用于将声音采集模块所采集的声音进行进一步的诸如降噪等处理，然后通过输出装置输出。进一步，所述的发声装置，还具有如下技术特征:对应所述的发声装置，在所述的滴落接触面上或下侧，设置有用以实现共振效果的空腔；对应所述的发声装置，声音采集模块设置于所述的共振腔中；对应所述的发声装置，其滴落控制面，通过限定轴限定移动的位置。所述发声装置的实现方法，主要步骤如下:步骤I，利用物体滴落结构，将预置的物体滴落；步骤2，利用通过电磁铁实现的位置控制模块，来控制滴落接触面的高度或接触面，或物体滴落结构的位置；步骤3，将前述声音采集处理后输出。本专利技术的优点在于:通过本装置可以相对自由的控制滴落声音的变化，使得使用者能够寻找到符合自身喜好的声音。【附图说明】下面结合附图对本专利技术进行更详细的说明。图1是所述发声装置结构示意图图2是所述发声装置空腔结构示意图图3是所述发声装置滴落结构控制方式示意图图4是所述发声装置滴落接触面的另一种控制方式示意图图5是所述发声装置实现方法的流程图【具体实施方式】下面参照附图，结合具体实施例对本专利技术做进一步的说明。参图1所示，本专利技术所描述的发声装置包括物体滴落结构100，滴落接触面200，位置控制模块300，声音采集模块400，声音输出模块500 ο其中滴落接触面200的下侧由磁性材料210组成;位置控制模块又包括电磁铁310、控制器320、限定轴330三部分。具体的实现方法如下:一方面，滴落物110由滴落结构100中落下，当其接触到滴落接触面200时，会发出一定的声音。声音采集模块400即会记录下发出的声音，并由声音输出模块500进行降噪等优化处理后输出。另一方面，由于滴落物110滴落到滴落接触面200上所发出的声音与其初始滴落处同接触面之间的距离有关，所以当需要改变滴落物110滴落时所发的声音时，就需要通过位置控制模块300来进行调节。具体的，由于滴落接触面下方由磁性材料210组成，且相对应的位置控制模块组件为电磁铁310，因此只需通过控制器320改变电磁铁磁场强度的大小，即可使滴落接触面200在磁场力的作用下沿着限定轴330上下移动，从而达到改变距离进而改变滴落声音的目的。图2所示的是发声装置的一种空腔结构示意图。如图所示在滴落接触面200的下侧设置空腔220，磁性材料210位于和电磁铁310相对应的空腔220的下方。声音采集模块400设置于空腔220的内侧。关于滴落物110滴落声音的控制仍旧采取控制滴落接触面200的高度的方式进行。通过控制器320改变电磁铁磁场强度的大小，即可使滴落接触面200在磁场力的作用下上下移动改变位置，从而达到改变距离进而改变滴落声音的目的。图3所示的是对于发声装置滴落结构的控制方式示意图由于滴落物110滴落到滴落接触面200上所发出的声音与其初始滴落处同接触面之间的距离有关。前述实施例均是围绕改变滴落接触面200的位置展开的，同样的，固定滴落接触面200的位置，通过位置控制模块300改变滴落结构100的位置可以达到同样的效果。如图3所示，在滴落结构的下方设置磁性材料120，位置控制模块300相对应磁性材料120的位置设置电磁铁310。通过控制器320改变电磁铁磁场强度的大小，即可使滴落结构100在磁场力的作用下上下移动改变位置，从而达到改变距离进而改变滴落声音的目的。图4展示了控型滴落发声装置另一种形状特殊的接触面形式的控制方式。如图4所示，在滴落接触面200的侧面设置磁性材料210，位置控制模块300相对应磁性材料120的位置设置电磁铁310。在滴落接触面200的下方设置水平导轨400。通过控制器320改变电磁铁磁场强度的大小，即可使滴落接触面200在磁场力的作用下沿水平导轨400左右移动改变位置，使得滴落物110滴落到滴落接触面200的不同位置的表面，从而达到改变距离进而改变滴落声音的目的。对应着前面所描述的装置，图5是发声装置实现方法的流程图，主要步骤如下:步骤I，利用物体滴落结构，将预置的物体滴落；步骤2，利用通过电磁铁实现的位置控制模块，来控制滴落接触面的高度或接触面，或物体滴落结构的位置；步骤3，将前述声音采集处理后输出。所述的处理，其方式并不限定。比如，可以通过声音处理，将物体滴落之外的其余声音消除。或者，增加其它的声音类型，比如，增加背景音乐的声音等。以上是对本专利技术的描述而非限定，基于本专利技术思想的其它实施方式，均在本专利技术的保护范围之中。【主权项】1.一种可控型滴落发声装置，其特征在于该装置包括: 物体滴落结构，它是用以将物体滴落的功能结构； 滴落接触面，它与前述的物体滴落结构配套设施，将通过物体滴落结构所滴落物体在该记录面上产生碰撞效果； 位置控制模块，它是用以控制物体滴落结构和滴落接触面两者其一的位置的控制装置； 声音采集模块，它对应着滴落接触面设置，是用于采集物体在滴落接触面上碰撞声音的结构； 声音输出模块，用于将声音采集模块所采集的声音输出。2.根据权利要求1所述的可控型滴落发生装置，其特征在于:所述的位置控制模块，是通过电磁铁所实现的控制物体滴落结构和滴落接触面两者其一位置的结构。3.根据权利要求1所述的可控型滴落发生装置，其特征在于:在所述的滴落接触面上或下侧，设置有用以实现共振效果的空腔。4.根据权利要求3所述的可控型滴落发生装置，其特征在于:对应着所述的空腔，设置有声音采集模块。5.根据权利要求1所述的可控型滴落发生装置，其特征在于:所述的滴落接触面，通过限定轴限定移动的位置。6.—种可控型滴落发声装置的实现方法，其特征在于该方法包括有如下步骤: 步骤I，利用物体滴落结构，将预置的物体滴落； 步骤2，控制滴落接触面的高度或接触面，或物体滴落结构的位置； 步骤3，将前述声音采集处理后输出。【专利摘要】本专利技术提供了一种，属于电子
发声装置包括有物体滴落结构、滴落接触面、位置控制器、声音采集装置、声音处理装置、输出装置。使用者通过位置控制器里的控制器组件，改变物体滴落结构和滴落接触面之间的相对距离，从而达到改变声音的目的。【IPC分类】G10K1/00【公开号】CN105551475【申请号】CN201511002801【专利技术人】马宇尘 【申请人】上海孩子国科教设备有限公司【公开日】2016年本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可控型滴落发声装置，其特征在于该装置包括：物体滴落结构，它是用以将物体滴落的功能结构；滴落接触面，它与前述的物体滴落结构配套设施，将通过物体滴落结构所滴落物体在该记录面上产生碰撞效果；位置控制模块，它是用以控制物体滴落结构和滴落接触面两者其一的位置的控制装置；声音采集模块，它对应着滴落接触面设置，是用于采集物体在滴落接触面上碰撞声音的结构；声音输出模块，用于将声音采集模块所采集的声音输出。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：马宇尘，
申请(专利权)人：上海孩子国科教设备有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31