动态演化模型校正方法及系统技术方案

本发明专利技术提供一种基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动态演化模型校正方法及系统，其中的方法包括：利用K/S算法从标准样品中选择有代表性的建模样品；采用PLS法对所述建模样品建立近红外光谱数据与浓度间的线性关系；线性关系利用去一交互检验法确定PLS因变量数，形成初始PLS校正模型，通过所述标准样品确定PLS校正模型；定期对待测样品进行化验，获取所述待测样品的样品数据；利用所述PLS校正模型对所述待测样品进行预测，获取所述待测样品的预测值；获取的所述待测样品的样品数据和所述待测样品的预测值通过采用KF算法修正所述PLS校正模型的主因子系数。利用本发明专利技术能够保证近红外光谱校正模型具有自适应性，降低重建模型成本，从而实现在线分析。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在线近红外光谱分析
，更为具体地，涉及一种基于KF-PLS(卡 尔曼滤波偏最小二乘)近红外光谱动态演化模型校正方法及系统。
技术介绍
建立准确性高、自适应性强的校正模型是近红外光谱定量分析方法成功应用的关 键。现代近红外光谱以其分析速度快、重现性好、成本低、不消耗样品、易于实现在线分析等 鲜明的特点正得到越来越多的应用。在近红外光谱分析实际应用中，样品近红外光谱和待 测量存在复杂的间接关系。常通过求解标准曲线，建立测量数据与分析体系中某一待测组 分含量之间的对应关系。PLS在处理近红外光谱建模问题上显示出独特的优越性，被广泛用 于模型校正过程。 但是，上述方法通常假设仪器的环境噪声和部件状态是稳定的，是一种静态建模 方法。其效果仅限于短期相对稳定的模型使用过程。然而光谱获取过程受被测对象变化、仪 器老化、环境扰动等影响具有时变性。当仪器测量过程慢慢发生演变时，基于早期数据的校 正模型预测效果将无法得到保证。传统方法通过利用补充样品数据库定期维护模型，从而 保证其适应性，其特点是工作量大、成本高和不易实现在线分析等。且更新的校正模型中包 含大量光谱仪早期状态信息，不能精确代表仪器最新测量状态。 为解决上述问题，本专利技术需要提供一种新的模型校正方法。
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术的目的是提供一种基于卡尔曼滤波偏最小二乘法近红外光 谱动态演化模型校正方法及系统，以保证近红外光谱校正模型具有自适应性，降低重建模 型成本，从而实现在线分析。 本专利技术提供一种基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动态演化模型校正方法， 包括： 利用K/S算法从标准样品中选择有代表性的建模样品； 采用PLS法对所述建模样品建立近红外光谱数据与浓度间的线性关系； 所述线性关系利用去一交互检验法确定PLS因变量数，形成初始PLS校正模型，然 后通过所述标准样品确定PLS校正模型；定期对待测样品进行化验，获取所述待测样品的样品数据； 同时，利用所述PLS校正模型对所述待测样品进行预测，获取所述待测样品的预测 值； 获取的所述待测样品的样品数据和所述待测样品的预测值通过采用KF算法修正 所述PLS校正模型的主因子系数。 本专利技术还提供一种基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动态演化模型校正系 统，包括： 建模样品选取单元，用于利用K/S算法从标准样品中选择有代表性的建模样品； 线性关系建立单元，用于采用PLS法对所述建模样品建立近红外光谱数据与浓度 间的线性关系； PLS校正模型建立单元，用于利用去一交互检验法确定PLS因变量数，形成初始PLS 校正模型，然后通过所述标准样品确定PLS校正模型； 样品数据获取单元，用于定期对待测样品进行化验，获取所述待测样品的样品数 据； 预测值获取单元，用于利用所述PLS校正模型对所述待测样品进行预测，获取所述 待测样品的预测值； PLS校正模型的主因子系数修正单元，用于对获取的所述待测样品的样品数据和 所述待测样品的预测值通过采用KF算法修正所述PLS校正模型的主因子系数。 从上面的技术方案可知，本专利技术提供的基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动 态演化模型校正方法及系统，利用卡尔曼滤波偏最小二乘算法以保证近红外光谱校正模型 具有自适应性，降低重建模型成本，从而达到实现在线分析的目的。 为了实现上述以及相关目的，本专利技术的一个或多个方面包括后面将详细说明并在 权利要求中特别指出的特征。下面的说明以及附图详细说明了本专利技术的某些示例性方面。 然而，这些方面指示的仅仅是可使用本专利技术的原理的各种方式中的一些方式。此外，本专利技术 旨在包括所有这些方面以及它们的等同物。【附图说明】 通过参考以下结合附图的说明及权利要求书的内容，并且随着对本专利技术的更全面 理解，本专利技术的其它目的及结果将更加明白及易于理解。在附图中： 图1为根据本专利技术实施例的基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动态演化模型 校正方法流程示意图； 图2为根据本专利技术实施例的基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动态演化模型 校正系统结构框图。在所有附图中相同的标号指示相似或相应的特征或功能。【具体实施方式】 在下面的描述中，出于说明的目的，为了提供对一个或多个实施例的全面理解，阐 述了许多具体细节。然而，很明显，也可以在没有这些具体细节的情况下实现这些实施例。 以下将结合附图对本专利技术的具体实施例进行详细描述。 为了说明本专利技术提供的基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动态演化模型校 正方法，图1示出了根据本专利技术实施例的基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动态演化 模型校正方法流程。 如图1所示，本专利技术提供的基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动态演化模型 校正方法包括： S110:利用K/S(Kennard-Stone)算法从标准样品中选择有代表性的建模样品； S120:采用PLS法对所述建模样品建立近红外光谱数据与浓度间的线性关系； S130:线性关系利用去一交互检验法确定PLS因变量数，形成初始PLS校正模型，然 后通过所述标准样品确定PLS校正模型； S140:定期对待测样品进行化验，获取所述待测样品的样品数据；同时，利用所述 PLS校正模型对所述待测样品进行预测，获取所述待测样品的预测值； S150:获取的所述待测样品的样品数据和所述待测样品的预测值通过采用KF算法 修正所述PLS校正模型的主因子系数。 在上述步骤S120中，设AnXm为η个样品在m个波长上的光谱参数矩阵，Cnxi为η个样 品1种成分含量构成的浓度矩阵。PLS法不直接建立每种成份与光谱参数向量的关系方程， 而是考虑AnXm与CnXl的外部关系和联系二者的内部关系，将AnXm和CnXl分解为如下形式： AnXm一TnXhPhXm+EnXm CnXl = UnXhQhXl+FnXl 其中，h为样品的抽象组分数，TnXh为光谱参数特征因子阵，UnXh为浓度特征因子 阵，Phx m为光谱参数载荷阵，Qhxi为浓度载荷阵，EnxdPFnxi分别为光谱参数阵和浓度矩阵的 残差矩阵。 然后建立TnXt^UnXh的关系矩阵B(浓度与光谱参数间的内部关系）： UnXh = TnXhBhXh此时，浓度与光谱参数间的外部关系为： CnXl = TnXhBhXhQhXl+FnXl 其中要求I |Fnxi| I达到最小。 在上述步骤S130中，在建立PLS初始校正模型中，Tnxh与UnXh的关系矩阵Bhxh，设B矩 阵元素分别为b(i，j)(i = l，2,…，h;j = l，2,…，h)。为使回归关系系数的计算转化为滤波 递推估计形式，将模型中的所有系数值组成状态向量： ff=T 则系统的状态方程和观测方程可表示为：[wk=w,, ^ Iq-c,+^=^,4) + ? 其中，Cek为标样浓度，Ak为第k个样品光谱矢量，Crk为预测浓度;Vk为观测噪声，即 为随机白噪声，其统计特性为： 印;）= 〇，￡(W ) = /?,' _〇]令盖U=~；啊，為)-;一 则观测方程为： Cek = Hkffk+Dk+Vk 在本专利技术中，需要说明的是，在建立PLS校正模型后，待测样品就可以使用PLS校正 模型进行预测，当时此模型使用一段时间后，可以再次对PLS校正模型进行校正，则校正的 具体方法就是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于卡尔曼滤波偏最小二乘近红外光谱动态演化模型校正方法，包括：利用K/S算法从标准样品中选择有代表性的建模样品；采用PLS法对所述建模样品建立近红外光谱数据与浓度间的线性关系；所述线性关系利用去一交互检验法确定PLS因变量数，形成初始PLS校正模型，然后通过所述标准样品确定PLS校正模型；定期对待测样品进行化验，获取所述待测样品的样品数据；同时，利用所述PLS校正模型对所述待测样品进行预测，获取所述待测样品的预测值；获取的所述待测样品的样品数据和所述待测样品的预测值通过采用KF算法修正所述PLS校正模型的主因子系数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：梅青平，姚立忠，李太福，王先国，杨君玲，杨永龙，曹旭鹏，
申请(专利权)人：重庆科技学院，
类型：发明
国别省市：重庆;85