本发明专利技术的目的在于提供光灵敏度、分辨率、碱显影性高且耐热性、耐吸湿性也优异的、适于感光性组合物和抗蚀材料的改性羟基萘酚醛清漆树脂，提供一种改性羟基萘酚醛清漆树脂，其以下述结构式(1)所示的结构部位(I)(式中，R1为氢原子、叔烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含杂原子的环状烃基、三烷基甲硅烷基中的任意者，m为1或2。R2各自独立地为氢原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素原子中的任意者。)作为重复单元，树脂中存在的R1中的至少一个为叔烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含杂原子的环状烃基、三烷基甲硅烷基。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及能够得到光灵敏度、分辨率及碱显影性高且耐热性及耐吸湿性也优异 的涂膜、适于感光性组合物及抗蚀材料的用途的改性径基糞酪醒清漆树脂。
技术介绍
含酪性径基的化合物已经被用于粘结剂、成形材料、涂料、光致抗蚀材料、环氧树 脂原料、环氧树脂用固化剂等，除此之外，由于固化物的耐热性、耐湿性等优异，因此，在半 导体密封材料、印刷布线板用绝缘材料等电气/电子领域中广泛被用作W含酪性径基的化 合物本身作为主剂的固化性树脂组合物、或者用作环氧树脂等的固化剂。 其中，对于正型光致抗蚀剂用的树脂材料，广泛使用包含耐热性和碱溶性优异的 酪醒清漆型酪醒树脂和重氮糞酿化合物等感光剂的树脂组合物，近年来，伴随电路图案的 精细化的发展，要求光灵敏度和分辨率的进一步提高，期待开发出新的光致抗蚀剂用树脂 材料。 作为光灵敏度和分辨率优异的新的光致抗蚀材料，化学放大型光致抗蚀剂受到瞩 目。化学放大型光致抗蚀剂包含光产酸剂和在酸催化剂条件下碱溶性显著变化的树脂材 料，在正型光致抗蚀剂的情况下，可W使用如下的树脂材料：由于光照射而产生酸，结果使 之前不溶于碱的树脂材料变得可溶于碱。作为运样的化学放大型光致抗蚀剂用的树脂材 料，例如已知将酸解离性保护基团导入至甲酪酪醒清漆型树脂的酪性径基的一部分或全部 而得到的改性甲酪酪醒清漆树脂(例如参见专利文献1)。专利文献1记载的使用改性甲酪酪 醒清漆树脂的化学放大型光致抗蚀材料与W往的光致抗蚀材料相比，虽然光灵敏度、分辨 率优异，但在更精细的图案形成中光灵敏度及分辨率均不充分，另外，作为对酪性径基进行 改性的结果，涂膜的耐热性、耐吸湿性显著降低。[000引现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本特开2009-223120号公报
技术实现思路
巧圆]专利技术要解决的问题因此，本专利技术要解决的问题在于提供能够得到光灵敏度、分辨率及碱显影性高且 耐热性及耐吸湿性也优异的涂膜、适合于感光性组合物及抗蚀材料的用途的改性径基糞酪 醒清漆树脂和其制造方法。用于解决问题的方案本专利技术人等为了解决上述问题反复进行了深入研究，结果发现:将径基糞酪醒清 漆树脂中的酪性径基的氨原子的一部分用叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基幾基、含杂原 子的环状控基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意者进行取代而得到的改性径基糞酪醒清漆树脂， 能够得到与光产酸剂混合时的光灵敏度、分辨率及碱显影性高且耐热性及耐吸湿性也优异 的涂膜;该改性径基糞酪醒清漆树脂适合作为化学放大型光致抗蚀剂用树脂材料等，从而 完成了本专利技术。 目P，本专利技术提供一种改性径基糞酪醒清漆树脂，其特征在于，其W下述结构式（1) 所示的结构部位(I)作为重复单元， (式中，Ri为氨原子、叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基幾基、含杂原子的环状控 基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意者，m为1或2。111为2时，2个Ri可W彼此相同也可W不同。R2各自 独立地为氨原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、面素原子中的任意者。） 树脂中存在的Ri中的至少一个为叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基幾基、含杂原 子的环状控基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意者。 本专利技术还提供一种改性径基糞酪醒清漆树脂的制造方法，其特征在于，使径基糞 化合物与甲醒在疏水性的有机溶剂和水的混合溶剂中、在酸催化剂条件下反应，得到径基 糞酪醒清漆中间体，接着，将得到的径基糞酪醒清漆中间体的酪性径基的氨原子的一部分 用叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基幾基、含杂原子的环状控基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意 者进行取代。 本专利技术还提供一种含有前述改性径基糞酪醒清漆树脂和光产酸剂的感光性组合 物。 本专利技术还提供一种包含前述感光性组合物的抗蚀材料。 本专利技术还提供一种由前述感光性组合物形成的涂膜。 巧020]专利技术的效果根据本专利技术，可W提供能够得到光灵敏度、分辨率及碱显影性高且耐热性及耐吸 湿性也优异的涂膜、适合于感光性组合物、抗蚀材料的用途的改性径基糞酪醒清漆树脂及 其制造方法。【附图说明】[002引图巧制造例1中得到的径基糞酪醒清漆中间体(1)的GP幻普图。[002引图2为制造例帥得到的径基糞酪醒清漆中间体(2)的GP幻普图。图3为实施例1中得到的改性径基糞酪醒清漆树脂(1)的GP幻普图。[002引图4为实施例1中得到的改性径基糞酪醒清漆树脂(1)的13C-NMR谱图。 图5为实施例2中得到的改性径基糞酪醒清漆树脂(2)的GP幻普图。 图6为实施例3中得到的改性径基糞酪醒清漆树脂(3)的GP幻普图。 图7为实施例4中得到的改性径基糞酪醒清漆树脂(4)的GP幻普图。 图8为实施例5中得到的改性径基糞酪醒清漆树脂(5)的GP幻普图。 图9为实施例6中得到的改性径基糞酪醒清漆树脂(6)的GP幻普图。 图10为比较制造例帥得到的甲酪酪醒清漆中间体0-)的GP幻普图。【具体实施方式】 本专利技术的改性径基糞酪醒清漆树脂的特征在于，其W下述结构式（1)所示的结构 部位(I)作为重复单元， (式中，Ri为氨原子、叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基幾基、含杂原子的环状控 基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意者，m为1或2。111为2时，2个Ri可W彼此相同也可W不同。R2各自 独立地为氨原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、面素原子中的任意者。） 树脂中存在的Ri中的至少一个为叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基幾基、含杂原 子的环状控基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意者。通过具有前述结构部位（I)，成为能够得到W 往难W实现的兼具光灵敏度、分辨率及碱显影性与耐热性及耐吸湿性的涂膜、可W特别适 合作为抗蚀材料使用的改性径基糞酪醒清漆树脂。 本专利技术的改性径基糞酪醒清漆树脂如前述那样具有结构部位（I)作为重复单元。 此处，本专利技术的改性径基糞酪醒清漆树脂可W是含有重复单元数量不同的多种成分的树脂 的混合物。作为本专利技术的改性径基糞酪醒清漆树脂，例如可W举出下述树脂。 〔式中，Ri为氨原子、叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基幾基、含杂原子的环状控 基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意者，多个Ri中的至少一个为叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基 幾基、含杂原子的环状控基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意者。m为1或2。!!!为2时，2个Ri可W彼此 相同也可W不同。R2各自独立地为氨原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、面素原子中的任意 者。η为上的整数。）所示的Ξ聚体W上的改性径基糞酪醒清漆树脂。 〔式中，Ri为氨原子、叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基幾基、含杂原子的环状控 基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意者，多个Ri中的至少一个为叔烷基、烷氧基烷基、酷基、烷氧基 幾基、含杂原子的环状控基、Ξ烷基甲娃烷基中的任意者。m为1或2。!!!为2时，2个Ri可W彼此 相同也可W不同。R2各自独立地为氨原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、面素原子中的任意 者。）所示的二聚体(二聚物)的改性径基糞酪醒清漆树脂。 作为前述通式(2)所示的改性径基糞酪醒清漆树脂中的n，从能够得到涂膜形成性 优异的抗蚀材料的方面出发，优选为1~130的整数，更优选为3~50的整数。进而，从能够得 到除了涂膜形成性优异之外对微细图案的追随性也优异的抗蚀材料的方面出发，η优选为4 ~20的整数。此处，前述η为由W后述GPC的测定条件算出的数均分子量(Μη)而算出的平均 数。 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种改性羟基萘酚醛清漆树脂，其特征在于，其以下述结构式(1)所示的结构部位(I)作为重复单元，式中，R1为氢原子、叔烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含杂原子的环状烃基、三烷基甲硅烷基中的任意者，m为1或2，m为2时，2个R1可以彼此相同也可以不同，R2各自独立地为氢原子、烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素原子中的任意者，树脂中存在的R1中的至少一个为叔烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧基羰基、含杂原子的环状烃基、三烷基甲硅烷基中的任意者。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：今田知之，佐藤勇介，
申请(专利权)人：DIC株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。