曝光机台的遮光装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种曝光机台的遮光装置，包括主遮光机构及辅助遮光机构。主遮光机构，设置于光行进路径上。辅助遮光机构设置于光行进路线上且位于主遮光机构的一侧。其中，由主遮光机构与辅助遮光机构所形成的曝光开口的形状对应于晶片上的曝光区域的形状。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种遮光装置，且特别是涉及一种曝光机台的遮光装置。
技术介绍
在集成电路制造过程中，光刻制作工艺是通过曝光机台对晶片上的曝光区域(shot)进行照射，而将光掩模图案转移至晶片上的感光性膜。现有的曝光机台对矩形的曝光区域可进行一次曝光制作工艺而完成曝光。然而，现有的曝光机台在对晶片边缘的非完整矩形曝光区域进行曝光时，对同一个非完整矩形曝光区域至少需要进行两次以上曝光制作工艺才能完成曝光，因此会产生曝光时间增加以及管芯(die)良率降低的问题。以现有的步进曝光机台为例，由于是采用进行两次以上曝光制作工艺的叠合曝光法对同一个非完整矩形曝光区域进行曝光，所以曝光路径增长，而使得每片晶片的曝光时间增加。此外，叠合曝光法容易在叠合处产生重复曝光或未曝光的情况，而降低管芯良率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种曝光机台的遮光装置，其可有效地减少曝光时间且提升管芯良率。为达上述目的，本专利技术提出一种曝光机台的遮光装置，包括主遮光机构及辅助遮光机构。主遮光机构，设置于光行进路径上。辅助遮光机构设置于光行进路线上且位于主遮光机构的一侧。其中，由主遮光机构与辅助遮光机构所形成的曝光开口的形状对应于晶片上的曝光区域的形状。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台的遮光装置中，主遮光机构包括第一载板、第一驱动机构及多个主遮光板。第一驱动机构设置于第一载板上。主遮光板连接于第一驱动机构。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台的遮光装置中，第一驱动机构包括多个第一导轨及多个第一步进马达。第一导轨设置于第一载板上。第一步进马达设置于第一导轨上且连接于主遮光板。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台的遮光装置中，第一驱动机构还包括多个第一连接件。第一步进马达与主遮光板通过第一连接件进行连接。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台的遮光装置中，辅助遮光机构包括第二载板、第二驱动机构及多个辅助遮光板。第二驱动机构设置于第二载板上。多个辅助遮光板连接于第二驱动机构。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台的遮光装置中，第二驱动机构包括至少一个第二导轨、多个第二步进马达、多个第三导轨及多个第三步进马达。第二导轨设置于第二载板上。第二步进马达设置于第二导轨上。第三导轨连接于第二步进马达。第三步进马达设置于第三导轨上且连接于辅助遮光板。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台的遮光装置中，第二驱动机构还包括多个第二连接件。第三步进马达与辅助遮光板通过第二连接件进行连接。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台的遮光装置中，曝光区域可为非完整矩形曝光区域或矩形曝光区域。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台的遮光装置中，辅助遮光机构可位于主遮光机构的远离或靠近光源的一侧。依照本专利技术的一实施例所述，在上述的曝光机台的遮光装置中，曝光机台可为步进曝光机台。基于上述，在本专利技术所提出的曝光机台的遮光装置中，由于可使得通过主遮光机构与辅助遮光机构所形成的曝光开口的形状对应于晶片上的曝光区域的形状，所以对晶片上的非完整矩形曝光区域与矩形曝光区域均只要进行一次曝光制作工艺即可完成曝光，因此可有效地减少曝光时间且提升管芯良率。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附的附图作详细说明如下。【附图说明】图1为本专利技术的一实施例的曝光机台的遮光装置的侧面图；图2为本专利技术的一实施例的曝光机台的遮光装置中的主遮光机构的正视图；图3为本专利技术的一实施例的曝光机台的遮光装置中的辅助遮光机构的正视图；图4为本专利技术的一实施例的晶片的上视图；图5为图2中的主遮光机构在形成对应于矩形曝光区域的形状的曝光开口时的正视图；图6为图3中的辅助遮光机构在形成对应于非完整矩形曝光区域的形状的曝光开口时的正视图。符号说明100:遮光装置102:主遮光机构104:辅助遮光机构106:第一载板108:第一驱动机构110a、110b、110c、110d:主遮光板112a、112b:第一导轨114a、114b、114c、114d:第一步进马达116a、116b、116c、116d:第一连接件118:第二载板120:第二驱动机构122a、122b、122c、122d:辅助遮光板124:第二导轨126a、126b:第二步进马达l28a、l28b:第三导轨130a、130b、130c、130d:第三步进马达132a、132b、132c、132d:第二连接件134、136:曝光开口200:光源202:光行进路径300:晶片302:曝光区域304:感光性膜306:非完整矩形曝光区域308:矩形曝光区域X:轴Y:轴X1、X2、X3、Y1、Y2、Y3、Y4:方向【具体实施方式】图1为本专利技术的一实施例的曝光机台的遮光装置的侧面图。图2为本专利技术的一实施例的曝光机台的遮光装置中的主遮光机构的正视图。图3为本专利技术的一实施例的曝光机台的遮光装置中的辅助遮光机构的正视图。图4为本专利技术的一实施例的晶片的上视图。图5为图2中的主遮光机构在形成对应于曝光区域的形状的矩形曝光开口时的正视图。图6为图3中的辅助遮光机构在形成对应于非完整矩形曝光区域的形状的曝光开口时的正视图。请同时参照图1至图4，曝光机台的遮光装置100，包括主遮光机构102及辅助遮光机构104。曝光机台可对晶片300的曝光区域302进行照射，而将光掩模图案转移至晶片300上的感光性膜304。曝光区域302可为非完整矩形曝光区域306或矩形曝光区域308。曝光机台可为步进曝光机台。请参照图1、图2及图4，主遮光机构102可设置于光源200的光行进路径202上。主遮光机构102可用于形成曝光开口，且所形成的曝光开口的形状可对应于晶片300上的矩形曝光区域308的形状。在本实施例中，形状上的「对应」意指形状实质上一致，然而依照透镜的设计可能会有倍率或方向上的差异。于此
具有通常知识者可依照需求对倍率或方向进行调整。主遮光机构102可包括第一载板106、第一驱动机构108及主遮光板110a、110b、110c、110d。第一驱动机构108设置于第一载板106上。举例来说,第一驱动机构108可包括第一导轨112a、112b及第一步进马达114a、114b、114c、114d。此外,第一驱动机构108还可包括第一连接件 116a、116b、116c、116d。第一导轨112a、112b设置于第一载板106上。第一导轨112a、112b可分别沿着X-Y平面坐标系的X轴方向与Y轴方向进行设置。第一步进马达114a、114b设置于第一导轨112a上且分别连接于主遮光板110a、110b。第一步进马达114a、114b可使得主遮光板110a、IlOb在X轴方向上移动。第一步进马达114c、114d设置于第一导轨112b上且分别连接于主遮光板110c、110d。第一步进马达114c、114d可使得主遮光板110c、110d在Y轴方向上移动。第一步进马达114a、114b、114c、114d与主遮光板110c、IlOcUl 10c、I 1d可分别通过第一连接件116a、116b、116c、116d进行连接。由此，可将主遮光板110c、IlOcU 110c、IlOd连接于第一驱动机构108。然而，主遮光机构1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机台的遮光装置，包括：主遮光机构，设置于一光行进路径上；以及辅助遮光机构，设置于该光行进路线上且位于该主遮光机构的一侧，其中由该主遮光机构与该辅助遮光机构所形成的一曝光开口的形状对应于一晶片上的一曝光区域的形状。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：王宏祺，
申请(专利权)人：力晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71