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本发明公开一种曝光机台的遮光装置，包括主遮光机构及辅助遮光机构。主遮光机构，设置于光行进路径上。辅助遮光机构设置于光行进路线上且位于主遮光机构的一侧。其中，由主遮光机构与辅助遮光机构所形成的曝光开口的形状对应于晶片上的曝光区域的形状。...
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