具有高阻膜的内嵌式触摸屏及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏及其制备方法。触摸屏包括依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜偏光板。薄膜晶体管基板朝向液晶层的表面上设有多条相互绝缘的感应线路。通过在第二基板远离触摸感应层的表面设置高阻膜，并将高阻膜与薄膜晶体管基板电连接。高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物，具有优良的吸附性能和电学特性，通过高阻膜将薄膜晶体管基板产生的静电即时释放，消除静电作用，降低触摸传感器之间的相互干扰，从而提高内嵌式触摸屏的触控灵敏度。上述触摸屏的制备方法，制备工艺简单，破片风险小，适于大规模的生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示器件领域，特别涉及一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏及其制备方法。
技术介绍
触摸屏是手机、平板电脑、电子书等电子设备的重要组成部分。目前，触摸屏按照组成结构一般可以分为：外嵌式(On-Cell)和内嵌式(In-Cell)。外嵌式(On-Cell)是指将触摸面板嵌入到显示屏的彩色滤光片基板和偏光片之间的方法，即在液晶面板上配触摸传感器，由于多了一层触控层，厚度较厚，触控时容易产生的颜色不均等问题。内嵌式是指将触摸面板功能嵌入到液晶像素中的方法，即在显示屏内部嵌入触摸传感器功能，可以减薄模组整体的厚度，又可以大大降低触摸屏的制作成本，受到各大面板厂家青睐。然而，内嵌式触摸屏通常需要在薄膜晶体管阵列基板上的像素内部嵌入触摸传感器，触摸传感器之间容易相互干扰，从而导致触控灵敏度较低。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种灵敏度较高的内嵌式触摸屏及其制备方法。一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏，包括依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜及偏光板，所述薄膜晶体管基板朝向所述液晶层的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，所述高阻膜形成于所述第二基板远离所述触摸感应层的表面，所述高阻膜与所述薄膜晶体管基板电连接，所述高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物。在其中一个实施方式中，所述高阻膜的材料按照重量份数计包括4份～7份的氧化石墨、10份～13份的氧化锡、25份～30份的表面活性剂及10份～26份的交联剂。在其中一个实施方式中，还包括保护盖板，所述保护盖板层叠于所述偏光板远离所述高阻膜的表面上。在其中一个实施方式中，所述高阻膜的厚度为30nm～50nm。上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法，包括如下步骤：提供第一基板，在所述第一基板上层叠薄膜晶体管基板；在所述薄膜晶体管基板的表面形成多条相互绝缘的感应线路；在所述薄膜晶体管基板形成有所述感应线路的表面上形成液晶层；提供彩色滤光片，将所述彩色滤光片层叠于所述液晶层上；提供第二基板，在所述第二基板的表面形成触摸感应层；将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合，得到依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板；在所述第二基板远离所述触摸感应层的表面形成高阻膜，所述高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物；在所述高阻膜上层叠偏光板；以及将所述高阻膜与所述薄膜晶体管层电连接，得到具有高阻膜的内嵌式触摸屏。在其中一个实施方式中，在所述第二基板远离所述触摸感应层的表面形成高阻膜的操作为：通过喷涂的方式将浆料喷涂至所述第二基板远离所述触摸感应层的表面，所述浆料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂、交联剂及溶剂的混合物，喷涂压力为0.5MPa～1.5MPa，温度为20℃～30℃，湿度为50％～60％。在其中一个实施方式中，所述浆料按照重量份数计包括4份～7份的氧化石墨、10份～13份的氧化锡、25份～30份的表面活性剂、10份～26份的交联剂及35份～45份的溶剂。在其中一个实施方式中，所述浆料的粘度为30cP～40cP。在其中一个实施方式中，所述将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合的操作为：在真空条件下，将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合。在其中一个实施方式中，在所述第二基板远离所述触摸感应层的表面形成高阻膜之后，包括烘烤处理、清洗处理及风干处理，所述烘烤处理的条件为110℃～120℃下烘烤10min～20min，所述风干处理的条件为55℃～65℃下风干10min～50min。上述具有高阻膜的内嵌式触摸屏，包括依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜偏光板。薄膜晶体管基板朝向液晶层的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，薄膜晶体管基板与触摸感应层配合使得触摸面板功能嵌入到液晶像素中，降低触摸屏的厚度。通过在第二基板远离触摸感应层的表面设置高阻膜，并将高阻膜与薄膜晶体管基板电连接。高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物，具有优良的吸附性能和电学特性，通过高阻膜将薄膜晶体管基板产生的静电即时释放，消除静电作用，降低触摸传感器之间的相互干扰，从而提高内嵌式触摸屏的触控灵敏度。附图说明图1为一实施方式的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的结构示意图；图2为一实施方式的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备方法的流程图。具体实施方式下面主要结合具体附图及具体实施例对具有高阻膜的内嵌式触摸屏及其制备方法作进一步详细的说明。请参阅图1，一实施方式的具有高阻膜的内嵌式触摸屏100，包括依次层叠的第一基板10、薄膜晶体管基板(ThinFilmTransistor，TFT基板)20、液晶层30、彩色滤光片40、触摸感应层50、第二基板60、高阻膜70、偏光板80及保护盖板90。薄膜晶体管基板20朝向液晶层30的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，高阻膜70形成于第二基板60远离触摸感应层50的表面，高阻膜70与薄膜晶体管基板20电连接。具体的，高阻膜70与薄膜晶体管基板20可通过引线电连接。薄膜晶体管基板20的朝向液晶层30的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，多条相互绝缘的感应线路可以嵌入到液晶层30中。薄膜晶体管基板20与触摸感应层50配合，使得触摸面板功能嵌入到液晶像素中，在显示屏内部嵌入触摸传感器功能，构成In-Cell类型的触摸屏，降低触摸屏的厚度，使得屏幕更加轻薄。通过在第二基板60远离触摸感应层50的表面设置高阻膜70，并将高阻膜70与薄膜晶体管基板20电连接。高阻膜70可以将薄膜晶体管基板20产生的静电即时释放，起到消除静电作用，降低触摸传感器之间的相互干扰，从而提高具有高阻膜的内嵌式触摸屏100的触控灵敏度。本实施方式中，具有高阻膜的内嵌式触摸屏100的厚度为0.6mm～0.8mm。通过触摸面板功能嵌入到液晶像素中，大大降低触摸屏的厚度。具体的，第一基板10和第二基板60可以为玻璃等透光性材料。具体的，高阻膜70的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物。氧化石墨(Graphiteoxide，GO)是一种新型碳素材料，具有优良的吸附性能。氧化锡(SnO2)为一种活性氧化物，具有半导体特性。氧化石墨、氧化锡、表面活性剂及交联剂混合后可得到性能优异的复合材料。氧化锡可改变氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏，其特征在于，包括依次层叠的第一基板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜及偏光板，所述薄膜晶体管基板朝向所述液晶层的表面上设有多条相互绝缘的感应线路，所述高阻膜形成于所述第二基板远离所述触摸感应层的表面，所述高阻膜与所述薄膜晶体管基板电连接，所述高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化锡、表面活性剂和交联剂的混合物。

【技术特征摘要】
1.一种具有高阻膜的内嵌式触摸屏，其特征在于，包括依次层叠的第一基
板、薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层、第二基板、高阻膜
及偏光板，所述薄膜晶体管基板朝向所述液晶层的表面上设有多条相互绝缘的
感应线路，所述高阻膜形成于所述第二基板远离所述触摸感应层的表面，所述
高阻膜与所述薄膜晶体管基板电连接，所述高阻膜的材料包括氧化石墨、氧化
锡、表面活性剂和交联剂的混合物。
2.根据权利要求1所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述
高阻膜的材料按照重量份数计包括4份～7份的氧化石墨、10份～13份的氧化锡、
25份～30份的表面活性剂及10份～26份的交联剂。
3.根据权利要求1所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏，其特征在于，还包
括保护盖板，所述保护盖板层叠于所述偏光板远离所述高阻膜的表面上。
4.根据权利要求1所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述
高阻膜的厚度为30nm～50nm。
5.一种如权利要求1～4中任一项所述的具有高阻膜的内嵌式触摸屏的制备
方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供第一基板，在所述第一基板上层叠薄膜晶体管基板；
在所述薄膜晶体管基板的表面形成多条相互绝缘的感应线路；
在所述薄膜晶体管基板形成有所述感应线路的表面上形成液晶层；
提供彩色滤光片，将所述彩色滤光片层叠于所述液晶层上；
提供第二基板，在所述第二基板的表面形成触摸感应层；
将所述彩色滤光片与所述触摸感应层贴合，得到依次层叠的第一基板、薄
膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片、触摸感应层及第二基板；
在所述第二基板远离所述触摸感应层的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张迅，张伯伦，易伟华，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36