一种设有压强平衡器的热真空干燥装置及压强平衡器制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种热真空干燥装置，包括腔室，在腔室的两侧面设有真空吸附口，抽真空支管道的一端连接所述真空吸附口，另一端汇合于抽真空主管道的一端，抽真空主管道的另一端连接真空泵单元，在抽真空支管道与抽真空主管道的汇合处设有压强平衡器；所述压强平衡器包括U型管与抽真空主管道漏斗状部分，抽真空支管道延伸至所述U型管的底部，U型管的顶部密封，U型管两侧设有气孔；所述U型管通过所述气孔连通横向设置的抽真空主管道漏斗状部分。本发明专利技术通过压强平衡装置的U型管的缓冲作用，将各支管道压强调节一致，从而使HVCD腔室整体和局部压强保持稳定，聚酰亚胺溶液气流恒定，减少MURA缺陷，改善了柔性基板的膜质，提高制程良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及柔性显示产品制造
，尤其涉及一种设有压强平衡器的热真空干燥装置及压强平衡器。
技术介绍
通过柔性聚酰亚胺(FlexiblePolyimide，简称：柔性PI)制作柔性基板，应用于柔性显示产品的生产，是目前柔性显示产品制造的热门课题之一。因柔性聚酰亚胺具有高粘度、疏水性的特点，其前体聚酰亚胺溶液(polyimidesolution)含溶剂NMP量比较多(溶剂NMP量的重量百分比≥70％)。聚酰亚胺溶液经过涂布后，一般需要经过热真空干燥(HotDryVacuum，简称HVCD)制程，再置于烘烤设备(Oven)中进行烘烤固化制程。因聚酰亚胺溶液(PISolvent)的溶剂含量高，热真空干燥HCVD制程容易引起各种MURA问题，即出现斑点、脏污、表面色泽不均造成的各种痕迹，从而影响柔性基板的良率。常见的热真空干燥HVCD制程出现的MURA有因支撑Pin引起的PinMURA，因真空泵的真空气流或者压强不均引起的不规则形状的MURA等。目前，如图1所示，在制造热真空干燥HVCD装置的腔室1时，设置的抽真空端口或真空吸附口(VacuumAbsorptionPort)一般为一个或者若干个，图1中设有两个真空吸附口11、12，而且各抽真空支管道2直接汇合于单一的抽真空主管道3，由抽真空主管道3连接抽真空泵单元4与溶剂捕集单元5的集合单元。该设置方式容易引起各抽真空支管道内压强不均，导致热真空干燥HVCD装置的腔室内局部压强不均，当聚酰亚胺溶剂被抽取时，气流发生紊乱，从而在聚酰亚胺膜(PIFilm)表面产生不规则形状MURA。
技术实现思路
针对上述现有技术的不足，本专利技术提供了一种设有压强平衡器的热真空干燥装置，通过压强平衡器调节各抽真空支管道的压强，维持HVCD腔室内局部压强差异最小化，减少MURA产生。为达到上述目的，本专利技术所采取的技术方案为：本专利技术提供一种热真空干燥装置，包括腔室，在腔室的两侧面设有真空吸附口，抽真空支管道的一端连接所述真空吸附口，另一端汇合于抽真空主管道的一端，抽真空主管道的另一端连接真空泵单元，或者连接抽真空泵单元与溶剂捕集单元的集合单元，在抽真空支管道与抽真空主管道的汇合处设有压强平衡器；所述压强平衡器包括U型管与抽真空主管道漏斗状部分，抽真空支管道延伸至所述U型管的底部，U型管的顶部密封，U型管两侧设有气孔；所述U型管通过所述气孔连通横向设置的抽真空主管道漏斗状部分。进一步地，在所述U型管一侧的内管壁和另一侧的外管壁上设有气孔，设有气孔的外管壁一侧连通所述抽真空主管道漏斗状部分。进一步地，在U型管两侧设置的气孔的半径和数量根据溶剂的处理量和真空泵单元的工作压强设置，所述气孔的数量是抽真空支管道数量的至少两倍。进一步地，所述U型管的管径和高度需要根据溶剂的处理量设置。进一步地，所述抽真空主管道漏斗状部分被设置为椭圆形漏斗状，所述抽真空主管道的椭圆形漏斗状部位的长轴和短轴尺寸根据溶剂的处理量和真空泵单元的工作压强设置。本专利技术还提供一种所述热真空干燥装置的压强平衡器，所述压强平衡器包括U型管与抽真空主管道漏斗状部分，热真空干燥装置的抽真空支管道延伸至所述U型管的底部，U型管的顶部密封，U型管两侧设有气孔；所述U型管通过所述气孔连通横向设置的抽真空主管道漏斗状部分。进一步地，在所述U型管一侧的内管壁和另一侧的外管壁上设有气孔，设有气孔的外管壁一侧连通所述抽真空主管道漏斗状部分。进一步地，在U型管两侧设置的气孔的半径和数量根据溶剂的处理量和真空泵单元的工作压强设置，所述气孔的数量是抽真空支管道数量的至少两倍。进一步地，所述U型管的管径和高度需要根据溶剂的处理量设置。进一步地，所述抽真空主管道漏斗状部分被设置为椭圆形漏斗状，所述抽真空主管道的椭圆形漏斗状部位的长轴和短轴尺寸根据溶剂的处理量和真空泵单元的工作压强设置。本专利技术的有益效果在于：本专利技术提供的热真空干燥装置将HVCD腔室内单一抽真空端口设计成多端口(针对单一端口情形)，并在抽真空支管道和抽真空主管道之间增加一个“U型管+椭圆漏斗状管道”的压强平衡装置，利用U型管的缓冲作用，调节U型管上下端压强差异，将各支管道压强调节一致，从而使HVCD腔室整体和局部压强保持稳定，聚酰亚胺溶液(PISolvent)气流恒定，减少MURA现象等缺陷，改善了柔性基板的膜质，提高制程良率。附图说明图1为现有的热真空干燥HVCD装置的结构示意图；图2为本专利技术的设有压强平衡器的热真空干燥HVCD装置及压强平衡器的结构示意图。具体实施方式下面结合附图具体阐明本专利技术的实施方式，附图仅供参考和说明使用，不构成对本专利技术专利保护范围的限制。如图1、2所示，本实施例提供一种热真空干燥装置，包括腔室1，在腔室1的两侧面设有真空吸附口11、12，抽真空支管道2的一端连接所述真空吸附口11、12，另一端汇合于抽真空主管道3的一端，抽真空主管道3的另一端连接真空泵单元4(图中未示出)，或者连接抽真空泵单元4与溶剂捕集单元5(图中未示出)的集合单元，在抽真空支管道2与抽真空主管道3的汇合处设有压强平衡器6；所述压强平衡器6包括U型管61与抽真空主管道漏斗状部分62，抽真空支管道2延伸至所述U型管61的底部，U型管61的顶部密封，U型管61两侧设有气孔610；所述U型管61通过所述气孔610连通横向设置的抽真空主管道漏斗状部分62。在本实施例中，在所述U型管61一侧的内管壁和另一侧的外管壁上设有气孔610，设有气孔的外管壁一侧连通所述抽真空主管道漏斗状部分62。较优的，在U型管61两侧设置的气孔610的半径和数量根据溶剂的处理量和真空泵单元4的工作压强设置，所述气孔610的数量是抽真空支管道2数量的至少两倍。本实施例中，抽真空支管道2数量为4条，所述气孔610的数量为8个。较优的，所述U型管61的管径R和高度H需要根据溶剂的处理量设置。较优的，所述抽真空主管道漏斗状部分62被设置为椭圆形漏斗状，所述抽真空主管道3的椭圆形漏斗状部位62的长轴和短轴尺寸根据溶剂的处理量和真空泵单元的工作压强设置。本专利技术还提供一种所述热真空干燥装置的压强平衡器6，所述压强平衡器6包括U型管61与抽真空主管道漏斗状部分62，热真空干燥装置的抽真空支管道2延伸至所述U型管61的底部，U型管61的顶部密封，U型管61两侧设有气孔610；所述U型管61通过所述气孔610连通横向设置的抽本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种热真空干燥装置，包括腔室，在腔室的两侧面设有真空吸附口，抽真空支管道的一端连接所述真空吸附口，另一端汇合于抽真空主管道的一端，抽真空主管道的另一端连接真空泵单元，或者连接抽真空泵单元与溶剂捕集单元的集合单元，其特征在于：在抽真空支管道与抽真空主管道的汇合处设有压强平衡器；所述压强平衡器包括U型管与抽真空主管道漏斗状部分，抽真空支管道延伸至所述U型管的底部，U型管的顶部密封，U型管两侧设有气孔；所述U型管通过所述气孔连通横向设置的抽真空主管道漏斗状部分。

【技术特征摘要】
1.一种热真空干燥装置，包括腔室，在腔室的两侧面设有真空吸附口，
抽真空支管道的一端连接所述真空吸附口，另一端汇合于抽真空主管道的一端，
抽真空主管道的另一端连接真空泵单元，或者连接抽真空泵单元与溶剂捕集单
元的集合单元，其特征在于：
在抽真空支管道与抽真空主管道的汇合处设有压强平衡器；所述压强平衡
器包括U型管与抽真空主管道漏斗状部分，抽真空支管道延伸至所述U型管的
底部，U型管的顶部密封，U型管两侧设有气孔；所述U型管通过所述气孔连
通横向设置的抽真空主管道漏斗状部分。
2.根据权利要求1所述的一种热真空干燥装置，其特征在于：
在所述U型管一侧的内管壁和另一侧的外管壁上设有气孔，设有气孔的外
管壁一侧连通所述抽真空主管道漏斗状部分。
3.根据权利要求1或2所述的一种热真空干燥装置，其特征在于：
在U型管两侧设置的气孔的半径和数量根据溶剂的处理量和真空泵单元的
工作压强设置，所述气孔的数量是抽真空支管道数量的至少两倍。
4.根据权利要求1所述的一种热真空干燥装置，其特征在于：
所述U型管的管径和高度需要根据溶剂的处理量设置。
5.根据权利要求1所述的一种热真空干燥装置，其特征在于：所述漏斗
状抽真空主管道被设置为椭圆形漏斗状，所述抽真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘金旺，张纯，任思雨，苏君海，李建华，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44