圆筒基体材料、原盘及原盘的制造方法技术

提供能够均匀地转印微细图案的圆筒基体材料、原盘及原盘的制造方法。使用由圆筒形状的石英玻璃构成且内部应变以双折射量为小于70nm/cm的圆筒基体材料（11）。在该圆筒基体材料（11）的外周表面成膜抗蚀剂层，并在抗蚀剂层形成潜影，使形成潜影的抗蚀剂层显影，并以显影的抗蚀剂层的图案为掩模进行蚀刻，形成由在圆筒基体材料（11）的外周表面排列多个的凹部或凸部构成的结构体（12）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于对光固化树脂等转印微细图案的。本申请以在日本于2013年12月20日申请的日本专利申请号特愿2013 — 264358为基础主张优先权，该申请被参照，从而被引用到本申请。
技术介绍
—直以来，在使用玻璃、塑料等的透光性基体材料的光学元件中，进行用于抑制光的表面反射的表面处理。作为这种表面处理，有在光学元件表面形成微细的凹凸形状(例如，蛾眼(蛾目)形状。)的方法(例如，参照专利文献1、2。)。这些技术通过利用在基体材料表面形成期望的图案的原盘向涂敷感光性树脂、热固化性树脂等的片材转印原盘的图案，可以廉价且大量地生产。另外，有利用光盘的原版盘制作(mastering)技术，在圆筒形状的石英基体材料制作期望的图案的方法。在该情况下，能够使用利用无机抗蚀剂(例如，由钨或钼等的1种或2种以上的过渡金属构成的金属氧化物)的热变化的热压印(hotlithography)。通过采用热压印，仅使光束直径的中心部分热反应，能够制作超过激光的析像分辨极限的微细图案。然而，在利用光盘的原版盘制作技术的曝光中，伴随圆筒形状的石英基体材料的表面性(起伏、龟裂)或外形(正圆度)的变动，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种圆筒基体材料，由圆筒形状的石英玻璃构成，内部应变以双折射量为小于70nm/cm。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：村本穣，菊池正尚，梶谷俊一，音羽孝聪，高桥康弘，
申请(专利权)人：迪睿合株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP