基板保持旋转装置、具有基板保持旋转装置的基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

基板处理装置(1)具有旋转台(7)、旋转驱动机构(3)、设置在旋转台(7)上的保持销(10)、用于覆盖基板(W)的下表面的保护盘(15)、使保护盘(15)从旋转台(7)浮起的磁浮起机构(41)。保护盘(15)能够在下位置与接近位置之间上下移动，该接近位置指，在下位置的上方，与基板的下表面接近的位置。磁浮起机构(41)具有保护盘侧永久磁铁(60)、被挡板(4)保持的环状的挡板侧永久磁铁(25)。在通过挡板驱动机构(5)使挡板(4)上升时，能够借助永久磁铁之间的磁排斥力使保护盘(15)从旋转台(7)浮起并保持在接近位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及基板保持旋转装置、具有该基板保持旋转装置的基板处理装置以及基板处理方法。作为保持对象或者处理对象的基板例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、FED(Field Emiss1n Display:场发射型显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。
技术介绍
专利文献1公开了一种旋转式基板处理装置的基板旋转保持构件，具有通过旋转单元进行旋转的旋转台和配设在旋转台上且将基板水平地定位为与旋转台表面隔开规定间隔的支撑单元。在旋转台上设置有大小与基板相等的上下移动构件，在旋转台进行旋转的处理期间，上下移动构件配置在靠近基板的上升位置。由此，基板的下表面与上下移动构件的上表面之间的间隔变小，能够防止在基板处理中产生的雾迂回至基板的下表面。专利文献1的图1?图3所示的结构为，通过推起机构使上下移动构件相对于旋转台上下移动，该推起机构受到随着旋转台的旋转所产生的离心力进行动作。另外，专利文献1的图7以及图8中公开了如下结构，即，在上下移动构件的外周部设置有风扇，在上下移动构件伴随旋转台的旋转而旋转时，利用风扇将周围的气体向下方按压而产生的举力，举起上下移动构件。但是，在这些结构中，在基板的旋转速度低时，不能获取充分的离心力或者举力，因此不能使上下移动构件充分地接近基板的下表面，结果，在处理基板时产生的雾有可能附着于基板的下表面。例如，在一边使基板旋转一边用刷子刷洗基板的表面的情况下，基板的旋转速度为lOOrpm左右，无论如何也不能获取充分的离心力或者举力。因此，在刷洗基板的上表面时，处理液的雾有可能进入基板的下表面和上下移动构件之间，从而污染基板的下表面。另一方面，在专利文献1的图9以及图10中，公开了采用利用气缸的推起机构使上下移动构件上下移动的结构。另外，在专利文献1的图11以及图12中公开了如下结构，即，在上下移动构件上设置有一端被固定的波纹管，通过对波纹管内进行加压或抽吸来使波纹管伸缩，由此使上下移动构件上下移动。但是，这些结构都在包括旋转台以及上下移动构件的旋转系统中组装用于上下驱动的驱动单元，由于需要向该驱动单元供给驱动力，因此结构复杂。而且，需要从非旋转系统供给或者抽吸驱动用的空气，因此非旋转系统和旋转系统之间存在与空气供给抽吸路径摩擦接触的滑动部，从滑动部产生的颗粒有可能影响基板处理。现有技术文献专利文献专利文献1美国特许第5601645号说明书
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的目的在于提供如下的基板保持旋转装置、以及具有这样的基板保持旋转装置的基板处理装置，即，能够不依赖基板的旋转速度来保护基板的下表面，结构简单，而且能够抑制因摩擦接触引起的颗粒的产生。另外，本专利技术的其他目的在于提供如下的基板处理方法，即，即使在基板的旋转速度低时，也能够可靠地保护基板的下表面，也不需要复杂的结构，且能够抑制因摩擦接触引起的颗粒并能够实现高品质的处理。用于解决问题的手段本专利技术的一个实施方式，提供一种基板保持旋转装置，具有:旋转台，能够围绕沿着铅垂方向的旋转轴线旋转；旋转驱动单元，使所述旋转台旋转；保持构件，以能够与所述旋转台一起围绕所述旋转轴线旋转的方式设置在所述旋转台上，从所述旋转台向上方延伸，该保持构件能够在保持位置与退避位置之间移动，该保持位置为，该保持构件将该基板水平保持为所述旋转台与基板在铅垂方向上分离的状态，所述退避位置指，从所述保持位置退避的位置；保护盘，具有包围所述保持构件的整周的开口，比被所述保持构件保持的基板大；磁浮起机构，使所述保护盘从所述旋转台浮起；磁驱动机构，将所述保持构件保持在所述保持位置。所述保护盘配置在所述旋转台与被所述保持构件保持的基板保持位置之间，该保护盘能够在下位置与接近位置之间相对于所述旋转台上下移动，所述接近位置指在下位置的上方，且与被所述保持构件保持的基板的下表面接近的位置，该保护盘以与所述旋转台一起围绕所述旋转轴线旋转的方式安装在所述旋转台上。磁浮起机构，具有第一磁铁、第二磁铁、第一支撑构件和第一相对移动机构，所述第一磁铁安装在所述保护盘上，所述第二磁铁形成为与所述旋转轴线同轴的环状，且所述第二磁铁对所述第一磁铁施加排斥力，第一支撑构件以非旋转状态支撑所述第二磁铁，所述第一相对移动机构使所述第一支撑构件与所述旋转台相对移动来改变所述第一磁铁与所述第二磁铁之间的距离，所述磁浮起机构借助所述第一磁铁与所述第二磁铁之间的排斥力使所述保护盘从所述旋转台浮起。磁驱动机构，具有第一磁性体、第二磁性体、第二支撑构件和与所述第一相对移动机构不同的另外的第二相对移动机构，所述第一磁性体安装在所述保持构件，所述第二磁性体形成为与所述旋转轴线同轴的环状，在所述第二磁性体与所述第一磁性体之间产生磁力，所述第二支撑构件以非旋转状态支撑所述第二磁性体，所述第二相对移动机构使所述第二支撑构件与所述旋转台相对移动来改变所述第一磁性体与所述第二磁性体之间的距离，所述磁驱动机构借助所述第一磁性体与所述第二磁性体之间的磁力使所述保持构件保持在所述保持位置。根据该结构，在通过旋转驱动单元进行旋转的旋转台上设置有保持构件，能够通过该保持构件以在上方与旋转台隔开间隔的状态水平保持基板。在旋转台上安装有保护基板的下表面的保护盘，该保护盘能够相对于旋转台上下移动。即，保护盘能够在下位置与接近位置之间相对于旋转台上下移动，该接近位置指在下位置的上方与保持构件所保持的基板的下表面接近的位置。为了驱动保护盘，设置有磁浮起机构。即，磁浮起机构具有:第一磁铁，安装在保护盘上；第二磁铁，被第一支撑构件以非旋转状态支撑；第一相对移动机构，使第一支撑构件与旋转台相对移动。根据该结构，通过使第一支撑构件与旋转台相对移动，将第二磁铁配置在第一磁铁的下方的与第一磁铁充分接近的位置，由此能够借助第一磁铁与第二磁铁之间的排斥力，使保护盘从旋转台浮起引导至接近位置，并保持在该接近位置。从非旋转系统向旋转系统的驱动力的传递，利用作用于设置在非旋转系统上的第二磁铁与设置在旋转系统上的第一磁铁之间的磁排斥力以非接触方式实现。因此，结构简单，而且即使旋转台进行旋转，相应地安装在保护盘上的第一磁铁进行旋转时，也能够借助以非接触状态传递的驱动力将保护盘保持在接近位置。另外，即使在旋转台的旋转速度低后者停止旋转时，如果使第一支撑构件与旋转台接近，则受到来自第二磁铁的排斥力的第一磁铁使保护盘从旋转台的表面浮起，因此能够使保护盘充分地接近基板的下表面。这样，根据本专利技术的结构，能够提供一种基板保持旋转装置，能够不依赖基板的旋转速度可靠地保护基板的下表面，结构也简单，并且能够抑制旋转时产生的摩擦接触所引起的颗粒。而且，能够利用安装在保持构件上的第一磁性体与被第二支撑构件以非旋转状态支撑的第二磁性体之间的磁力，以非接触状态将保持构件保持在保持位置。因此，用于将保持构件保持在保持位置的结构也简单。并且，能够以由磁力产生的非接触状态传递用于将保持构件保持在保持位置的驱动力，所以能够更进一步抑制因旋转时的摩擦接触产生颗粒。第二磁性体形成为与旋转轴线同轴的环状，所以即使在第一磁性体与旋转台一起旋转时，在任意的旋转位置，使第一磁性体与第二磁性体之间作用稳定的磁力，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板保持旋转装置，其中，具有：旋转台，能够围绕沿着铅垂方向的旋转轴线旋转，旋转驱动单元，使所述旋转台旋转，保持构件，以与所述旋转台一起围绕所述旋转轴线旋转的方式设置在所述旋转台上，从所述旋转台向上方延伸，该保持构件能够在保持位置与退避位置之间移动，该保持位置为，该保持构件将该基板水平保持为所述旋转台与基板在铅垂方向上分离的状态，所述退避位置指，从所述保持位置退避的位置，保护盘，具有包围所述保持构件的整周的开口，配置在所述旋转台与被所述保持构件保持的基板保持位置之间，该保护盘能够在下位置与接近位置之间相对于所述旋转台上下移动，所述接近位置指在下位置的上方，与被所述保持构件保持的基板的下表面接近的位置，该保护盘以与所述旋转台一起围绕所述旋转轴线旋转的方式安装在所述旋转台上，该保护盘比被所述保持构件保持的基板大，磁浮起机构，具有第一磁铁、第二磁铁、第一支撑构件和第一相对移动机构，所述第一磁铁安装在所述保护盘上，所述第二磁铁形成为与所述旋转轴线同轴的环状，且所述第二磁铁对所述第一磁铁施加排斥力，第一支撑构件以非旋转状态支撑所述第二磁铁，所述第一相对移动机构使所述第一支撑构件与所述旋转台相对移动来改变所述第一磁铁与所述第二磁铁之间的距离，所述磁浮起机构借助所述第一磁铁与所述第二磁铁之间的排斥力使所述保护盘从所述旋转台浮起，磁驱动机构，具有第一磁性体、第二磁性体、第二支撑构件和与所述第一相对移动机构不同的另外的第二相对移动机构，所述第一磁性体安装在所述保持构件，所述第二磁性体形成为与所述旋转轴线同轴的环状，在所述第二磁性体与所述第一磁性体之间产生磁力，所述第二支撑构件以非旋转状态支撑所述第二磁性体，所述第二相对移动机构使所述第二支撑构件与所述旋转台相对移动来改变所述第一磁性体与所述第二磁性体之间的距离，所述磁驱动机构借助所述第一磁性体与所述第二磁性体之间的磁力使所述保持构件保持在所述保持位置。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤洋，
申请(专利权)人：株式会社思可林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP