【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】
技术介绍
擦拭装置可包括幅面存储室以及存储在其中的幅面材料。在服务活动期间,幅面材料可能被放置为与流体敷料器接触并擦拭流体敷料器。擦拭操作可保持流体敷料器的卫生。【附图说明】在以下描述中对非限制性示例进行描述,参考附图进行阅读而不限制权利要求的范围。图中说明的特征以及部件的尺寸的选择主要是为了方便和清晰的陈述,而并不需要按比例绘制。参考以下附图:图1是说明根据示例的擦拭装置的框图。图2是说明根据示例的擦拭装置的示意图。图3是说明根据示例的图2中擦拭装置的透视图。图4是说明根据示例的图2中擦拭装置的一部分幅面材料的分解视图。图5是说明根据示例的擦拭系统的框图。图6是说明根据示例的操作擦拭装置的方法的流程图。【具体实施方式】擦拭装置(wiping apparatus)可包括幅面存储室以及存储在其中的幅面材料(web material) 0在服务活动期间,幅面材料可能放置为与流体敷料器(fluidapplicator)接触并对其进行擦拭,如页面宽度(page-wide)、喷墨印刷头阵列(inkjetprinthead array)。擦拭操作可保持流体敷料器的 ...
【技术保护点】
一种能够与流体敷料器一起使用的擦拭装置,所述擦拭装置包括:包括多个分段部分的幅面材料,其用于擦拭所述流体敷料器;和具有输入开口和输出开口的幅面存储室,所述幅面存储室用于存储处于多重折叠状态的所述幅面材料,使得所述幅面材料的多个折叠部中的每一个被放置在相邻的分段部分之间并且所述相邻的分段部分的外表面相互接触。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员:S·A·奥哈拉,S·马丁,
申请(专利权)人:惠普发展公司,有限责任合伙企业,
类型:发明
国别省市:美国;US
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