一种对永磁弹射掩模台往复扫描运动轨迹的规划方法技术

一种对永磁弹射掩模台往复扫描运动轨迹的规划方法，所述方法根据运动区间内是否存在永磁弹射力划分为非弹射区和弹射区，并分别规划两个区间的运动轨迹。所述非弹射区轨迹规划需算速度、位移的临界条件，并由当前状态与临界条件的关系计算关键时间变量和时间切换点，得到分段的加速度、速度、位移轨迹函数。所述弹射区轨迹规划则使用多项式轨迹结构，以掩模台出入弹射区的状态为约束条件，固定弹射运动时间，求多项式轨迹参数。本发明专利技术能在给定约束下，为永磁弹射掩模台的往复扫描运动提供加速度、速度和位移参考轨迹。本发明专利技术不仅适用于永磁弹射掩模台，对于执行往复扫描运动的设备具有一定的适用性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术主要应用于集成电路技术制造领域，是一种对永磁弹射掩模台往复扫描运 动轨迹的规划方法。
技术介绍
光刻是集成电路芯片的生产工艺的重要工序，该工序所用的设备称为光刻机。目 前，应用广泛的是步进扫描式光刻机。掩模台系统是步进扫描光刻机的关键子系统之一，其 运动性能决定最终光刻工艺的性能。永磁弹射掩模台是一种面向未来光刻机的需求的一种 新型掩模台结构，其基本概念如图2所示。永磁弹射掩模台在传统掩模台的基础上增加了 永磁弹射结构，永磁弹射结构由两对磁钢组成，分别安装于掩模台的运动台两侧，正如清华 大学学者研究专利技术的"一种掩模台系统"，磁钢作为一种驱动装置，相互作用产生永磁弹力， 当掩模台在没有永磁弹力作用范围内运动时，掩模台的驱动力仅由电机提供；当掩模台在 永磁弹力的作用范围运动时，则由永磁弹力和电机出力共同驱动掩模台运动。因此，永磁弹 射掩模台利用驱动分离的方式减少电机能量损耗。 轨迹规划是实现掩模台运动必不可少的环节。轨迹规划的主要任务是计算给定 运动轨迹在每个采样周期的位移、速度、加速度等，为后续的控制提供有效的参考数据。此 外，轨迹规划对掩模台系统的运动精度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对永磁弹射掩模台往复扫描运动轨迹的规划方法，所述方法包含如下步骤：1)根据永磁弹射掩模台的往复扫描的运动特性，把掩模台的不存在永磁弹力的运动区间划分为非弹射区，存在永磁弹力的区间划分为弹射区；2)规划非弹射区的运动轨迹：a.利用速度、加速度和位移之间的关系式计算得到运动速度和位移变量的临界条件：vb1=vsetvb2=vset-amax2j]]>d1=12(ta+2tj)(v0+vset)d2=2amaxv0j+amax3j2]]>式中vb1和vb2为速度临界条件，分别表示速度可达到的上限和区分三角形加速度和梯形加速度的临界速度；d1和d2为位移临界条件，分别表示掩模台从初始速度v0加速到...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：穆海华，朱煜，陈涵，石淼，杨开明，张鸣，胡金春，尹文生，徐登峰，胡楚雄，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：北京;11