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一种对永磁弹射掩模台往复扫描运动轨迹的规划方法，所述方法根据运动区间内是否存在永磁弹射力划分为非弹射区和弹射区，并分别规划两个区间的运动轨迹。所述非弹射区轨迹规划需算速度、位移的临界条件，并由当前状态与临界条件的关系计算关键时间变量和时间切...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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