舱室分送方法技术

技术编号:1275442 阅读:212 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种舱室分送方法,用于将多个晶片分送于一机台,机台包含有多个舱室,用于依据多个工艺配方来对晶片加工,分送管理方法包含有设定机台及舱室的状态,依据舱室的状态来判断工艺配方是否可执行,以及依据可执行的工艺配方来分送晶片至机台,使舱室对晶片加工。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术提供一种半导体机台的分送(dispatch)方法,特别指一种根据舱室的状态来分送晶片的方法。
技术介绍
在半导体制造技术中,不同的半导体产品会依据不同的工艺配方(recipe)而被分送到各半导体机台进行加工处理,而每个机台包含有多个舱室(chamber),并定义多个工艺配方来对半导体产品进行晶片(wafer)加工,其中每一工艺配方定义一舱室路径,而舱室路径记录机台执行工艺配方来对晶片加工时所使用的舱室。请参考图1,图1为公知晶片分送结构的示意图,多个晶片12、14根据所对应的工艺配方而被分送至一机台20进行晶片加工。机台20包含有多个装载端口22、24以及多个舱室26、28,装载端口22连接至舱室26,而装载端口24连接至舱室28,机台20定义对应于二条舱室路径的二个工艺配方,一条为舱室26,另一条为舱室28。假设晶片12与晶片14所对应的制造路径皆需要经由舱室26或舱室28进行晶片加工,晶片12与晶片14将分别被分送至机台20的装载端口22与装载端口24,装载端口22将晶片12传送至舱室26进行晶片加工,而装载端口24则将晶片14传送至舱室28进行晶片加工,则机台20本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体机台的分送方法,用于将多个晶片分送于一机台,该机台包含有多个舱室,并依据多个工艺配方来对该多个晶片加工,该分送方法包含有:设定该机台及该多个舱室的状态;依据该多个舱室的状态来判断该多个工艺配方是否可执行;以及   依据可执行的工艺配方来分送该多个晶片至该机台,使该多个舱室对该多个晶片加工。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:程伟徐健
申请(专利权)人:力晶半导体股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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