本实用新型专利技术涉及一种用于安置基板的装置，具有多个布置在水平面内的、分别用于圆盘状基板(3)的支承座(4)，所述装置还具有多个在相邻的支承座(4)之间布置的支架(2、12)，所述支架(2、12)空间上相互分隔并且具有定心侧面(5)，所述定心侧面(5)沿着位于水平面内的圆弧线延伸，其中，多个分别位于支承座(4)侧面的定心侧面(5)构成布置在支承圆(6)上的贴靠位置(7)，用于接触地贴靠所述基板(3)的边缘(3’)的部段。为了进行便于使用的改进而规定，所述定心侧面(5)仅在贴靠位置(7)上与支承圆(6)相切，并且所述定心侧面(5)与所述支承圆(6)的圆心(8)的间距随着距所述贴靠位置(7)越来越远而不断增大。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种用于安置基板的装置，具有多个布置在水平面内的、分别被支承圆围绕的、分别用于圆盘状基板的支承座，所述装置还具有多个在相邻的支承座之间布置的支架，所述支架空间上相互分隔并且具有定心侧面，所述定心侧面分别沿着位于水平面内的圆弧线延伸，其中，多个分别位于支承座侧面的定心侧面各自构成贴靠位置，用于接触地贴靠所述基板的边缘的部段，所述定心侧面分别配属于相互不同的支架。
技术介绍
这种各类型的装置构成用于CVD (化学气相沉积)反应器的基座，并从文献DE 102007 023 970 A1 中已知。未公开的文献DE 10 2012 108 986 A1描述了一种具有在水平面内布置的支承座的基座，其中，支承座被多个定心侧面包围，其中，每个定心侧面具有与支承圆相切的直线延伸的侧面部段。文献DE 10 2011 055 061 A1描述了一种CVD反应器，其中，放置在放置面上的基板的边缘被这样支承，从而使基板中空地放置在其支承座上方。文献US 2003/0178145 Al描述了一种CVD反应器，其中，基板利用其边缘放置在支撑点上。根据本技术的装置尤其具有和文献EP 2 160 759 B1所述一样的可应用在CVD反应器中的基座的设计和功能。被设计为基座的装置由面状的石墨件构成，该石墨件在其表面上具有相互间隔的支架。基座的表面构成了水平的放置面，该放置面具有多个尤其均匀布置的支承座。在每个支承座上可以布置一个圆盘形的基板。已知的装置具有从放置面伸出的支架，该支架分别构成三个贴靠侧面。支架在空间上相互分离。定心侧面是贴靠侧面并且在弧线上延伸。在现有技术中，弧线位于支承座的圆形的平面轮廓线上。两个相邻支承座的由弧线所定义的支承圆在两个相邻的支架的间隔空间中接触。利用支架的六角形布置，基板可以定位在六角形布置的放置面上。此外，由文献US 2013/065403和文献W0 2012/050117还已知用于容纳待涂覆的基板的载体。
技术实现思路
由此，本技术所要解决的技术问题在于，对所述类型的装置进行便于使用的改进。所述技术问题根据本技术通过一种装置解决，所述装置具有多个布置在水平面内的、分别被支承圆围绕的、分别用于圆盘状基板的支承座，所述装置还具有多个在相邻的支承座之间布置的支架，所述支架空间上相互分隔并且具有定心侧面，所述定心侧面分别沿着位于水平面内的圆弧线延伸，其中，多个分别位于支承座侧面的定心侧面各自构成贴靠位置，用于接触地贴靠所述基板的边缘的部段，所述定心侧面分别配属于相互不同的支架，其中规定，多个分别位于支承座侧面的定心侧面沿着相互不同的圆弧线延伸，该圆弧线的半径分别大于所述支承圆的半径，并且所述定心侧面仅在相应的贴靠位置上与所述支承圆相切。所述技术问题根据本技术还通过一种装置解决，所述装置具有布置在水平面内的、分别用于圆盘形基板的支承座，其中，至少一个位于所述装置的边缘附近的支承座这样设计并且尤其具有凹穴，从而在位于所述支承座上的所述基板的下方构成空腔，所述空腔具有边缘区域，所述边缘区域的竖直深度朝着支承圆的圆心的方向变大，其特征在于，所述空腔的边缘区域具有不同于旋转对称结构的延伸走向，其中，在相对于所述支承座的圆心的相等径向距离处，在朝向所述装置边缘的边缘区域中的竖直高度小于在远离所述装置边缘的边缘区域中的竖直高度。根据本技术，弧线(定心侧面沿该弧线延伸)的走向与支承圆的走向(支承圆的走向相当于基板的平面轮廓)不同。首先根据本技术规定，定心侧面仅在贴靠位置与支承圆相切。定心侧面沿着与贴靠位置错移的周向与支承圆、即也与基板的边缘保持间距。基板接触仅发生在接触点上。定心侧面以相对于接触点的角间距与支承圆保持尽量小的间距，该间距随着距接触位置越来越远而不断增大。这可以在多个角度上进行。在本技术的制造工艺方面优选的方案中，定心侧面的弧线在半径比支承圆的半径更大的圆弧线上延伸。在支撑平面上的定心侧面的曲率半径可以比在支撑平面上的支承圆的曲率半径大5%至10%。根据本技术的支架可以具有三个或四个定心侧面。支架可以具有三边或四边对称结构。每个定心侧面邻接在支承座上。支承座可以例如以六角形布置分布在水平面上。定心侧面能够以相对于经过贴靠位置的对称轴径向对称布置的方式延伸，从而使贴靠位置大约位于定心侧面的中间。至少与水平面的边缘间隔的支承座被支承圆围绕，所述支承圆与彼此不同的支架的定心侧面上的以均匀的角间距相互位错的位置相切。圆弧线(定心侧面沿该圆弧线延伸)与支承圆相切。定心侧面所定义的圆弧线的圆心位于经过支承圆的圆心和贴靠位置的直线上。支承圆的圆心可以位于棋盘形布置的角点或六角形布置的角点上。分别被支承圆限定边界的支承座可以具有凹穴。在此，可以分别是凹腔状的凹穴。凹穴可以具有光滑壁式的底部。然而底部也可以具有台阶。所述台阶可以绕支承座的圆心在圆弧线上延伸。然而在放置面的边缘上布置的支承位置也可以具有其他结构的凹腔。在此尤其规定，至少凹腔的边缘区域相对于支承位置的圆心非对称地延伸。凹腔底部在朝向装置边缘的侧面上比在背离装置边缘的侧面上更少地下降。由此，在放置在支承座上的基板的下方构成的空腔在其朝向装置边缘的侧面上具有比在背离装置边缘的侧面上更小的深度。此外还规定，在支承座上布置的基板仅在局部、从某种程度上说被点状地边缘支承。支承点构成较小的支承面，其形成放置区。局部的放置区优选位于接触位置上。所述放置区大体上仅在定心侧面的区域上延伸，所述定心侧面的区域与基板的边缘贴靠接触。放置区沿支承圆延伸较小的角度、例如3°至10°、优选5°。根据本技术的布置优选在CVD反应器的基座上实现。在该基座上设有多个用于容纳基板的凹槽。支架的作用在于，使凹槽以及置入凹槽中的基板相互分隔，并且在支承座内定心。在此，这种分隔应尽可能节约空间地进行。相邻布置的基板的边缘可以在两个相邻的支架之间的区域中接触。根据本技术，基板的边缘仅在非常狭窄、几乎点状的周向区域内接触定心侧面。基板的沿周向与接触位置保持间距的边缘部段相对于定心侧面具有间距。如此构成的贴靠侧面可以具有倒棱。通过在上部边缘区域中的斜面实现了对基板更简单的定位。这是在配位的最后阶段从某种程度上说自动完成的。凭借根据本技术的定心侧面的轮廓走向，在操作时通常在支架侧面上产生较少损伤。由此利用本技术的技术方案降低了损伤支架边缘的风险。基板可以这样定位在放置面上，从而使多个圆心保持约为基板直径的间距。两个圆心之间的间距大于基板直径一个安全距离。每个基板可以通过六个接触点贴靠在六个不同的支架上。支架以60°相互位错地布置。定心侧面相对于支承座的圆心以20°至40°、优选30°的圆弧角延伸。本技术的另一个方面涉及对靠近装置边缘、也即靠近基座边缘的支承座的底部的设计方案。在此，优选涉及紧邻装置边缘的支承座、也即直接邻接在装置边缘区域上的支承座。支承座具有凹穴，使得在放置于支承座上的基板的下方构成空腔。放置区可以是环形区，基板的边缘放置在所述放置区上。优选地，然而放置区还可以在此由单个局部的放置区构成，所述放置区仅局部、从某种程度上说点状地支承基板的边缘。在基板的大体上平面延伸的底侧与支承座的底部之间构成空腔。空腔的深度本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于安置基板的装置，具有多个布置在水平面内的、分别被支承圆(6)围绕的、分别用于圆盘状基板(3)的支承座(4)，所述装置还具有多个在相邻的支承座(4)之间布置的支架(2、12)，所述支架(2、12)空间上相互分隔并且具有定心侧面(5)，所述定心侧面(5)分别沿着位于水平面内的圆弧线延伸，其中，多个分别位于支承座(4)侧面且分别配属于相互不同的支架(2、12)的定心侧面(5)各自构成贴靠位置(7)，用于接触地贴靠所述基板(3)的边缘(3’)的部段，其特征在于，多个分别位于支承座(4)侧面的定心侧面(5)沿着相互不同的圆弧线延伸，该圆弧线的半径(RP)分别大于所述支承圆(6)的半径(RW)，并且所述定心侧面(5)仅在相应的贴靠位置(7)上与所述支承圆(6)相切。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：A博伊德，O费龙，陈晓军，KL格林，
申请(专利权)人：艾克斯特朗欧洲公司，
类型：新型
国别省市：德国;DE
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