信息记录介质用玻璃基板及磁盘装置制造方法及图纸

信息记录介质用玻璃基板是具有旋转中心(CP)的玻璃基板，并具有主表面和外周端面，在设玻璃基板(1G)的半径为R、设从旋转中心(CP)离开0.99R的基准线(BL)上的点(R3)为基准位置、设沿着通过旋转中心(CP)的旋转轴(L1)的延伸方向观察时从与基准位置重合的主表面上点到基准位置的距离设为偏移量的情况下，在正面侧和背面侧双方，以基准位置为半径位置的偏移量在周向上的分布的最大值与最小值之差为40nm以下，正面侧的偏移量在周向上的分布的平均值与背面侧的偏移量在周向上的分布的平均值之差为10nm以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及信息记录介质用玻璃基板及磁盘装置。
技术介绍
在计算机等中使用的信息记录介质(磁盘记录介质)从以往就采用铝基板或者玻璃基板。在这些基板上形成有磁薄膜层，通过利用磁头将磁薄膜层磁化，在磁薄膜层上记录信息。近年来，关于搭载于计算机等的硬盘(HDD)装置等的磁盘装置，研发出了在一片2.5英寸的记录介质中具有记录容量为500GB(单面250GB)、面记录密度为630G比特/平方英寸以上的记录密度的装置。随着这样的记录密度的高密度化，信息记录介质与在信息记录介质上悬浮着进行记录的读写的磁头的间隙(悬浮高度)缩小。在悬浮高度缩小的情况下，由于在玻璃基板的主表面上形成的细微的凹凸，磁头和信息记录介质容易相互接触(也称为磁头压损)。为了抑制磁头压损，对玻璃基板的主表面的平滑度和平坦度的要求日益提高。关于公开了能够通过提高玻璃基板的主表面的平坦度而抑制磁头压损的信息记录介质用玻璃基板的文献，例如可以举出日本特开2008－234823号公报(专利文献1)。专利文献1公开的信息记录介质用玻璃基板包括偏离部，该偏离部由于在主表面内的周缘部相对于以该主表面内的周缘部以外的平坦面为基准的基准平面隆起或者沉降，而偏离该基准平面，在主表面的一侧，该偏离部形成为其偏离该基准平面的尺寸(偏移量)沿着玻璃基板的全周大致均匀。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008－234823号公报>
技术实现思路
专利技术要解决的问题为了使HDD的记录密度增大至630G比特/平方英寸以上，采用用于调整磁头和信息记录介质的间隙的DFH(DynamicFlyingHeight：动态飞行高度)机构。在采用该DFH机构的情况下，能够将悬浮高度缩小至3nm以下。通常，当信息记录介质在磁盘装置内高速旋转的情况下，在信息记录介质的外周端部圆周速度特别快，因而磁头容易受到在该外周端部附近产生的空气的流动(风力)的影响而浮起来。在悬浮高度达到3nm以下的情况下，磁头在外周端部附近明显容易受到风力的影响，具有磁头的悬浮特性不稳定的倾向。磁头不仅配置在信息记录介质的一面侧，有时也配置于两面侧。在这种情况下，由于信息记录介质的两面的表面形状的差异，在正面侧和背面侧产生的风力产生偏差，磁头的悬浮特性更加容易不稳定。在专利文献1公开的玻璃基板中，没有充分考虑在玻璃基板的两侧的主表面形成有磁薄膜层、在该玻璃基板的两侧配置有磁头时的磁头的悬浮特性。本专利技术的目的在于，提供一种信息记录介质用玻璃基板及具有该玻璃基板的磁盘装置，能够抑制因信息记录介质的外周端部附近区域的形状而引起的空气的流动紊乱，使磁头的悬浮特性稳定。用于解决问题的手段本专利技术的信息记录介质用玻璃基板是被用于信息记录介质中且具有旋转中心的玻璃基板，在该信息记录介质形成有具有630G比特/平方英寸以上的记录密度的磁记录层，该玻璃基板具有：主表面，其分别位于所述信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧；以及外周端面，其位于所述信息记录介质用玻璃基板的外周端部。在设从所述旋转中心到所述外周端面的所述信息记录介质用玻璃基板的半径为R，在正面侧和背面侧双方，将沿着径向从所述旋转中心离开0.71R的所述主表面上的点作为第1基准点，将沿着所述径向从所述旋转中心离开0.83R的所述主表面上的点作为第2基准点，将连接所述第1基准点和所述第2基准点的直线作为基准线，将从所述旋转中心离开0.99R的所述基准线上的点作为基准位置，将沿着通过所述旋转中心的旋转轴的延伸方向观察时从与所述基准位置重合的所述主表面上的点到所述基准位置的距离作为偏移量的情况下，在正面侧和背面侧双方，从所述旋转中心离开0.99R的半径位置处的所述偏移量在周向上的分布的最大值与最小值之差为40nm以下，正面侧的所述偏移量在周向上的分布的平均值与背面侧的所述偏移量在周向上的分布的平均值之差为10nm以下。优选的是，在基于上述本专利技术的信息记录介质用玻璃基板中，在正面侧和背面侧双方，所述偏移量在周向上的分布的平均值为150nm以下。优选的是，在基于上述本专利技术的信息记录介质用玻璃基板中，所述信息记录介质用玻璃基板的厚度为0.65nm以下。基于本专利技术的磁盘装置在某一方面，以使所述旋转轴成为同一轴的方式搭载多片的所述信息记录介质用玻璃基板。基于本专利技术的磁盘装置在另一方面，使一片或者多片的所述信息记录介质用玻璃基板以7200rpm以上的转速旋转。专利技术效果根据本专利技术能够提供一种信息记录介质用玻璃基板及具有该玻璃基板的磁盘装置，能够抑制因信息记录介质的外周端部附近区域的形状而引起的空气的流动紊乱，使磁头的悬浮特性稳定。附图说明图1是示出搭载了本专利技术的实施方式的信息记录介质用玻璃基板的磁盘装置的概略立体图。图2是示出图1所示的磁盘装置的变形例的剖视图。图3是示出具有本专利技术的实施方式的信息记录介质用玻璃基板的信息记录介质的概略图。图4是示出本专利技术的实施方式的信息记录介质用玻璃基板的概略图。图5是沿着图4所示的V-V线的剖视图。图6是示出图5所示的信息记录介质用玻璃基板的背面侧的偏移量在周向上的分布的图。图7是示出图5所示的信息记录介质用玻璃基板的正面侧及背面侧的偏移量在周向上的分布的图。图8是示出图4所示的信息记录介质用玻璃基板的制造方法的流程图。图9是示出在图8所示的第2抛光工序中使用的双面研磨装置的侧视图。图10是沿着图9所示的X-X线观察的剖视图。图11是示出图9所示的双面研磨装置正在进行研磨加工的状态的剖视图。图12是示出图4所示的信息记录介质用玻璃基板的使用例的图。图13是示出在制造比较方式的信息记录介质用玻璃基板时，在第2抛光工序中双面研磨装置正在进行精密研磨加工的状态的剖视图。图14是示出图13所示的XIV线包围的区域的图。图15是示出图13所示的XV线包围的区域的图。图16是示出比较例1的信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧的偏移量在周向上的分布的图。图17是示出比较例2的信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧的偏移量在周向上的分布的图。图18是示出比较例3的信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧的偏移量在周向上的分布的图。图19是示出为验证本专利技术的效果而进行的第1实验的条件及结果的图。图20是示出为验证本专利技术的效果而进行的第2实验的条件及结果的图。具体实施方式下面，参照附图详本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种信息记录介质用玻璃基板，其被用于信息记录介质中且具有旋转中心，在该信息记录介质形成有具有630G比特/平方英寸以上的记录密度的磁记录层，该信息记录介质用玻璃基板具有：主表面，其分别位于所述信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧；以及外周端面，其位于所述信息记录介质用玻璃基板的外周端部，在设从所述旋转中心到所述外周端面的所述信息记录介质用玻璃基板的半径为R，在正面侧和背面侧双方，将沿着径向从所述旋转中心离开0.71R的所述主表面上的点作为第1基准点，将沿着所述径向从所述旋转中心离开0.83R的所述主表面上的点作为第2基准点，将连接所述第1基准点和所述第2基准点的直线作为基准线，将从所述旋转中心离开0.99R的所述基准线上的点作为基准位置，将沿着通过所述旋转中心的旋转轴的延伸方向观察时从与所述基准位置重合的所述主表面上的点到所述基准位置的距离作为偏移量的情况下，在正面侧和背面侧双方，从所述旋转中心离开0.99R的半径位置处的所述偏移量在周向上的分布的最大值与最小值之差为40nm以下，正面侧的所述偏移量在周向上的分布的平均值与背面侧的所述偏移量在周向上的分布的平均值之差为10nm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.06.27 JP 2013-1349181.一种信息记录介质用玻璃基板，其被用于信息记录介质中且具有旋转中心，
在该信息记录介质形成有具有630G比特/平方英寸以上的记录密度的磁记录层，该信
息记录介质用玻璃基板具有：
主表面，其分别位于所述信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧；以及
外周端面，其位于所述信息记录介质用玻璃基板的外周端部，
在设从所述旋转中心到所述外周端面的所述信息记录介质用玻璃基板的半径为
R，在正面侧和背面侧双方，将沿着径向从所述旋转中心离开0.71R的所述主表面上
的点作为第1基准点，将沿着所述径向从所述旋转中心离开0.83R的所述主表面上的
点作为第2基准点，将连接所述第1基准点和所述第2基准点的直线作为基准线，将
从所述旋转中心离开0.99R的所述基准线上的点作为基准位置，将沿着通过所述旋转
中心的旋转轴的延伸方向观察时从与所述基准...

【专利技术属性】
技术研发人员：福本直之，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP