本实用新型专利技术涉及废液处理技术领域，尤其涉及一种涂层废液处理装置，包括一级还原槽、二级还原槽、一级中和槽、二级中和槽、沉淀箱、活性炭吸附罐、三个氧化还原电位仪和四个pH监控仪；所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽、所述二级中和槽、所述沉淀箱和所述活性炭吸附罐顺次相连；在所述一级还原槽、所述二级还原槽和所述二级中和槽中分别设置一所述氧化还原电位仪；在所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽和所述二级中和槽中分别设置一所述pH监控仪。本实用新型专利技术对涂层废液进行两级还原和两级中和，并利用活性炭吸附罐进行吸附，大大地降低了涂层废液中六价铬的浓度，使得涂层废液中六价铬的浓度满足排放标准。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及废液处理
，尤其涉及一种涂层废液处理装置。
技术介绍
在冷乳硅钢处理线中，带钢表面的涂层液通常包含六价铬(Cr6+)，因此，在涂层废液中也会包含Cr6+。一般，采用还原法对涂层废液进行处理，将Cr6+还原成毒性较小的Cr3+。而，在现有技术中，利用一级还原槽和一级中和槽，仅能将涂层废液中Cr6+的浓度还原至小于0.5mg/L，难以满足排放标准:Cr6+〈0.05mg/L、总络〈0.lmg/L。
技术实现思路
本技术通过提供一种涂层废液处理装置，解决了现有技术涂层废液中六价铬浓度高的技术问题。本技术实施例提供了一种涂层废液处理装置，包括一级还原槽、二级还原槽、一级中和槽、二级中和槽、沉淀箱、活性炭吸附罐、三个氧化还原电位仪和四个pH监控仪；所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽、所述二级中和槽、所述沉淀箱和所述活性炭吸附罐顺次相连；在所述一级还原槽、所述二级还原槽和所述二级中和槽中分别设置一所述氧化还原电位仪；在所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽和所述二级中和槽中分别设置一所述pH监控仪。优选的，所述装置还包括五个搅拌机；在所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽、所述二级中和槽和所述沉淀箱中分别设置一所述搅拌机。优选的，所述装置还包括两个还原剂投加管；在所述一级还原槽和所述二级还原槽中分别设置一所述还原剂投加管。优选的，所述装置还包括两个盐酸投加管；在所述一级还原槽和所述二级还原槽中分别设置一所述盐酸投加管。优选的，所述装置还包括两个中和剂投加管；在所述一级中和槽和所述二级中和槽中分别设置一所述中和剂投加管。优选的，所述装置还包括絮凝剂投加管；所述絮凝剂投加管设置于所述沉淀箱中。本技术实施例中的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点:通过增加二级还原槽、二级中和槽和活性炭吸附罐，对涂层废液进行两级还原和两级中和，并利用活性炭吸附罐进行吸附，大大地降低了涂层废液中六价铬的浓度，使得涂层废液中六价络的浓度远小于0.5mg/L，满足排放标准:Cr6+〈0.05mg/L、总络〈0.lmg/L ；进一步，通过搅拌机对包含有反应试剂的涂层废液进行搅拌，使得各物质之间能够充分反应，以进一步降低涂层废液中的六价铬的浓度。【附图说明】为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本技术实施例中一种涂层废液处理装置的结构示意图。其中，1为一级还原槽，71为第一搅拌机，81为第一氧化还原电位仪，91为第一 pH监控仪，101为第一还原剂投加管，111为第一盐酸投加管，2为二级还原槽，72为第二搅拌机，82为第二氧化还原电位仪，92为第二 pH监控仪，102为第二还原剂投加管，112为第二盐酸投加管，3为一级中和槽，73为第三搅拌机，93为第三pH监控仪，123为第一中和剂投加管，4为二级中和槽，74为第四搅拌机，84为第三氧化还原电位仪，94为第四pH监控仪，124为第二中和剂投加管，5为沉淀箱，75为第五搅拌机，6为活性炭吸附罐，13为絮凝剂投加管。【具体实施方式】为解决现有技术涂层废液中六价铬浓度高的技术问题，本技术提供一种涂层废液处理装置，通过增加二级还原槽、二级中和槽和活性炭吸附罐，对涂层废液进行两级还原和两级中和，并利用活性炭吸附罐进行吸附，大大地降低了涂层废液中六价铬的浓度。为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术提供一种涂层废液处理装置，如图1所示，所述装置包括一级还原槽1、二级还原槽2、一级中和槽3、二级中和槽4、沉淀箱5、活性炭吸附罐6、三个氧化还原电位仪和四个pH监控仪。一级还原槽1、二级还原槽2、一级中和槽3、二级中和槽4、沉淀箱5和活性炭吸附罐6顺次相连。在一级还原槽1、二级还原槽2和二级中和槽4中分别设置一氧化还原电位仪，三个氧化还原电位仪分别为第一氧化还原电位仪81、第二氧化还原电位仪82和第三氧化还原电位仪84，在一级还原槽1、二级还原槽2、一级中和槽3和二级中和槽4中分别设置一 pH监控仪，四个pH监控仪分别为第一 pH监控仪91、第二 pH监控仪92、第三pH监控仪93、和第四pH监控仪94。具体来讲，在一级还原槽1上设置有一进水管，涂层废液从进水管中进入涂层废液处理装置，一级还原槽1、二级还原槽2、一级中和槽3、二级中和槽4、沉淀箱5和活性炭吸附罐6之间通过连通管顺次相连。涂层废液在一级还原槽1中进行一级还原反应，一级还原槽1中的第一氧化还原电位仪81和第一 pH监控仪91用于控制一级还原反应当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种涂层废液处理装置，其特征在于，包括一级还原槽、二级还原槽、一级中和槽、二级中和槽、沉淀箱、活性炭吸附罐、三个氧化还原电位仪和四个pH监控仪；所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽、所述二级中和槽、所述沉淀箱和所述活性炭吸附罐顺次相连；在所述一级还原槽、所述二级还原槽和所述二级中和槽中分别设置一所述氧化还原电位仪；在所述一级还原槽、所述二级还原槽、所述一级中和槽和所述二级中和槽中分别设置一所述pH监控仪。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：雷仲存，高明，
申请(专利权)人：北京首钢股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11
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