一种提高微米级钴颗粒电磁吸波性能的方法技术

一种提高微米级钴颗粒电磁吸波性能的方法，步骤为：(1)将微米级钴颗粒酸溶液中酸洗0.5～30/min，再用去离子水以及无水乙醇反复清洗三次，在真空干燥箱中干燥备用；(2)将经步骤(1)清洗后的微米级钴颗粒按照5:1～10:1的球料比在球磨机中采用湿法球磨处理5～80小时，球磨转速为100～1200转/分钟，介质为甲苯；将球磨处理后的钴颗粒用去离子水和无水乙醇反复清洗三次，置于真空干燥箱中干燥备用；(3)将经步骤(2)球磨后的微米级钴颗粒置于无氧环境中，在磁场状态下热处理2～300/min，升温速率为0.5～20℃，温度为300～1400℃，降温速率为0.5～20℃/min，磁场强度为0.5～14T。在整个热处理过程中均保持磁场状态。冷却至室温后收集钴颗粒，得到具有优良电磁吸波性能的微米级钴颗粒。

【技术实现步骤摘要】
一种提高微米级钴颗粒电磁吸波性能的方法
本专利技术涉及一种提高微米级钴颗粒电磁吸波性能的方法。
技术介绍
微米级钴材料是一种典型的铁磁性材料，由于其具有高比饱和磁化强度(162emu/g)，可在2-18GHz频段内与电磁波相互作用产生较高的磁损耗，从而获得优良的电磁吸波性能，因此其在隐身技术、电磁屏蔽和电磁兼容领域具有潜在的应用前景。与传统的Fe基电磁吸波材料相比，钴材料具有显著的抗氧化性与高居里温度(Co：1131℃，Fe：770℃)，可在温度较高的环境中服役，因此钴材料的电磁吸波性能研究受到国内外科研工作者的广泛关注。如Wang等人研究了花状钴颗粒的电磁吸波性能，发现其在涂层厚度为2mm时，最大反射损耗为-13.6dB，Liu等人研究了花状钴颗粒的电磁吸波性能，并与球形钴颗粒的电磁吸波性能比较，发现花状钴颗粒在涂层厚度为2mm时的最大反射损耗为-25.00dB，而在相同厚度下球形钴颗粒的最大反射损耗为-11dB，Ma等人发现花状钴颗粒在5mm的涂层厚度时，最大反射损耗为-23.5dB([1]WangC.,X.J.Han,P.Xu,X.L.Zhang,Y.C.Du,S.R.Hu,J本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高微米级钴颗粒电磁吸波性能的方法，其特征在于，所述的方法包括以下步骤：(1)将微米级钴颗粒置于0.1～10wt％浓度的酸溶液中酸洗0.5～30分钟，去除表面的氧化层，然后用去离子水以及无水乙醇反复清洗三次，在真空干燥箱中干燥备用；(2)将经步骤(1)清洗后的备用微米级钴颗粒按照5:1～10:1的球料比在球磨机中采用湿法球磨处理5～80小时，球磨转速为100～1200转/分钟，介质为甲苯；将球磨处理后的钴颗粒用去离子水和无水乙醇反复清洗三次，置于真空干燥箱中干燥备用；(3)将经步骤(2)球磨后的微米级钴颗粒置于无氧环境中，在磁场状态下热处理2～300/min，升温速率为0.5～20℃，温度...

【技术特征摘要】
1.一种提高微米级钴颗粒电磁吸波性能的方法，其特征在于，所述的方法包括以下步骤：(1)将微米级钴颗粒置于0.1～10wt％浓度的酸溶液中酸洗0.5～30分钟，去除表面的氧化层，然后用去离子水以及无水乙醇反复清洗三次，在真空干燥箱中干燥备用；(2)将经步骤(1)清洗后的备用微米级钴颗粒按照5:1～10:1的球料比在球磨机中采用湿法球磨处理5～80小时，球磨转速为100～1200转/分钟，介质为甲苯；将球磨处理后的钴颗粒用去离子水和无水乙醇反复清洗三次，置于真空干燥箱中干燥备用；(3)将经步骤(2)球磨后的微米级钴颗粒置于无氧环境中，在磁场状态下热处理2～300min，升温速率为0.5～20℃/min，...

【专利技术属性】
技术研发人员：马衍伟，温术来，王栋樑，张现平，姚超，董持衡，
申请(专利权)人：中国科学院电工研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11