一种可溯源白光干涉原子力探针自动定位工件方法技术

本发明专利技术公开了一种可溯源白光干涉原子力探针自动定位工件方法，该方法包括如下步骤：在纳米级位移平台运动之前记录下激光干涉位移计量系统的初始位移；接着其在垂直方向上快速产生一个适量的位移，在位移发生后通过零级条纹的移动量是否在阈值范围内来判断原子力探针是否定位到工件，而如果纳米级垂直位移平台在到达极限的位移运动时还未定位到工件，记录下其最终位置，并将纳米级垂直位移平台复位，重复上述步骤，直至定位到工件。按照本发明专利技术设定的自动定位的方法，不受原子力探针与工件之间的距离限制，同时在定位过程中对位移进行计量，可实现可溯源，而采用零级条纹的移动量来判断探针是否定位到工件具有定位快速和高精度的显著效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于超精密表面形貌测量
更具体地，是基于可溯源计量及白光干涉的一种自动定位工件的方法。
技术介绍
白光干涉原子力扫描探针显微镜是用白光的零级条纹来量化原子力扫描探针的形变，从而间接得到工件表面的高度。而原子力扫描探针变形的原理是原子间的范德华力。在测量时，原子力扫描探针的针尖相当于一个原子，被测样件的表面的一个原子会与原子力扫描探针针尖相互作用，使得原子力扫描探针的悬臂发生形变。而在悬臂上形成的白光干涉条纹则会发生相应的移动，根据白光干涉零级条纹的移动量可以计算出原子力扫描探针的变形量。可溯源白光干涉原子力扫描探针显微镜工作在原子力的接触模式，原子力扫描探针的悬臂非常小，能承受的力也在仅限于原子与原子之间的作用力。而原子与原子之间的作用力范围通常都在nm的单位量级，因此要达到准确的定位，要么借助高精度的测距仪器，要么只能靠人为操控。在白光干涉原子力扫描探针显微镜这样的紧凑仪器设备上安装高精度的测距仪器难以实现；而人为操控则需要耗费较多的时间，同时每次定位到工件的距离都很难控制，随机性比较大。因此需要一种自动高精度的控制策略，让原子力扫描探针定位到工件，由此实现高效精确地测量。
技术实现思路
要实现白光干涉原子力扫描探针自动定位工件，则需要控制好原子力扫描探针与工件之间的距离，在无法借助其他设备辅助的情况下，既要保证不损害原子力扫描探针，又要精确定位出工件。按照本专利技术的一个方面，提供了一种可溯源白光干涉原子力探针自动定位工件的方法，其中该标定方法涉及的所述白光干涉原子力探针标定装置包括面CCD测量系统、原子力扫描探针组件、白光干涉显微系统、纳米级垂直微位移平台、垂直电机位移平台、激光干涉计量系统以及控制主机；所述纳米级垂直微位移平台以及垂直电机位移平台接收控制主机的控制分别产生精调和粗调的位移从而使所述原子力扫描探针组件中的探针发生形变；所述激光干涉计量系统的角锥棱镜设置于所述纳米级垂直微位移平台之上；白光干涉显微系统接收所述控制主机的控制产生测试的白光干涉光源传输于原子力扫描探针组件的微悬臂上形成白光干涉条纹，其包含所述原子力探针组件上的探针的形变信息；所述面CCD测量系统接收包含所述探针的形变信息的干涉条纹，所述控制主机连接所述面CCD测量系统，分析所述干涉条纹；其特征在于，该方法包括如下步骤:(I)记录所述激光干涉计量系统以及所述垂直电机位移平台的初始位置；(II)所述控制主机控制所述纳米级垂直位移平台在垂直方向上向所述工件的方向快速产生一个位移；(III)在所述纳米级垂直位移平台的位移发生后通过白光干涉原子力探针上零级条纹的移动量是否在阈值范围内来判断原子力探针是否定位到工件；(IV)若没有超过所述步骤(III)设定的阈值范围则控制所述纳米级垂直位移平台继续向所述工件方向下移，如果超过所述步骤(III)设定的阈值范围，则控制所述纳米级垂直位移平台向所述工件相反的方向运动所述步骤(II)的一半距离继续进入所述步骤(III)?(IV);(V)如果所述纳米级垂直位移平台在到达极限时还未定位到所述工件，此时记录所述激光干涉计量系统的最终位置，并将所述纳米级垂直位移平台复位；通过所述垂直电机位移平台向下发生一个所述激光干涉计量系统记录的位移值，重复所述步骤(I)?(V)，直至定位到工件。进一步地，所述步骤(I)中调节所述原子力扫描探针到所述面CCD测量系统的位置为:所述原子力扫描探针全部在所述面CCD的成像区域上成像，并且所述原子力探针微悬臂与所述面(XD的夹角不超过7.5°。进一步地，所述步骤(II)中的位移量计算规则如下:在所述步骤(I)的所述位置上产生的零级条纹从所述面CCD上超出其成像区域时所述纳米级垂直位移平台发生的位移量，记为L1，在所述步骤(I)的所述位置上产生的零级条纹宽度下所述原子力探针微悬臂发生最大变形量所述纳米级垂直位移平台发生的位移量，记为L2，取所述L1与所述L2中较小的值作为位移量。进一步地，所述步骤(IV)中的阈值为所述步骤(II)中的位移量的0.1-0.15倍之间的范围。按照本专利技术的自动定位方法能够在让白光干涉原子力探针扫描显微镜在不借助其他辅助设备下实现快速高效的自动定位工件。并且采用激光干涉位移计量系统，实现可溯源标定，总而言之，本专利技术具有如下的有益效果:(1)实现高精度，本专利技术引入了激光干涉计量系统，如果实现自动，单纯采用垂直电机平台，很难准确地发生一个纳米级的位移，容易造成原子力扫描探针的损坏，而如果单纯采用纳米级位移平台则会让定位的范围有限，而纳米级垂直位移平台和垂直电机工作平台发生位移的频率都可以非常尚，由此实现不受范围限制的尚精度快速的自动定位；(2)本专利技术提供了利用零级条纹的移动量来进行判断是否达到工件的定位方法，由于当探针向下运动定位到工件时会与工件之间产生作用力，这种作用力为范德华力，原子力探针微悬臂在这种作用力下会发生形变，引起探针微悬臂上的零级条纹移动，而根据理论和试验可以得出一个合适的零级条纹移动阈值范围来判断是都定位好工件，利用零级条纹的参照系来获取探针定位工件的的方法，具有定位分辨力高，可以达到纳米级的分辨力，反馈速度快等显著地优势；(3)本专利技术设计了较为灵活的垂直电机平台的位移规则形式，通过激光干涉计量系统来设计出垂直电机平台的运动量，由此实现定位的快速实现以及可溯源可控制。【附图说明】图1为按照本专利技术实现的可溯源白光干涉原子力探针自动定位系统的结构系统示意图；图2为按照本专利技术实现的激光干涉位移计量系统的结构示意图。在所有的附图中，相同的附图标记用于表示相同的元件或结构，其中:1-待测工件2-原子力扫描探针3-原子力扫描探针组件4-干涉物镜5-纳米级垂直位移平台6-垂直电机位移平台7-面C⑶成像系统8-激光干涉计量系统9-白光干涉显微系统10-控制主机11-半导体激光器12-偏振片13-1/4波片14-分光镜15-角锥棱镜16-反射镜17-参考镜18-放大镜19-光电阵列。【具体实施方式】为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。图1为本专利技术方法中的结构示意图，如图1所示，按照本专利技术一个实施例实现的白光干涉原子力扫描探针自动定位系统中包括:原子力扫描探针2，原子力扫描探针组件3，干涉物镜4，纳米级垂直微位移平台5，垂直电机位移平台6，面(XD成像系统7，激光干涉位移计量系统8，白光干涉显微系统9，控制主机10。白光干涉显微系统，经过内部的光路系统和干涉物镜4后在原子力扫描探针2的微悬臂上形成白光干涉条纹，再由面CCD成像系统7将干涉图像传送给控制主机10上用于图像采集和实时显示，当纳米级垂直微位移平台5完成一步位移之后控制主机10发出命令采集激光干涉计量系统8计量得到的位移值以及计算干涉图像中零级条纹在面CCD成像系统7的位置值。纳米级垂直位移平台5主要组成部分是高精密压电陶瓷和柔性铰链两部分。压电陶瓷在接收到控制主机10的位移信号后会产生一个精确的位移量，而柔性铰链的作用将位移进行传递和放大，在本实施例中将纳米级垂直位移平台5中的柔性铰链部分的几何放大比设置为2，四个对称设置的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可溯源白光干涉原子力探针自动定位工件的方法，其中该标定方法涉及的所述白光干涉原子力探针标定装置包括面CCD测量系统(7)、原子力扫描探针组件(3)、白光干涉显微系统(9)、纳米级垂直微位移平台(5)、垂直电机位移平台(6)、激光干涉计量系统(8)以及控制主机(10)；所述纳米级垂直微位移平台(5)以及垂直电机位移平台(6)接收控制主机(10)的控制分别产生精调和粗调的位移从而使所述原子力扫描探针组件(1)中的探针发生形变；所述激光干涉计量系统(8)的角锥棱镜(14)设置于所述纳米级垂直微位移平台(5)之上；白光干涉显微系统(9)接收所述控制主机(10)的控制产生测试的白光干涉光源传输于原子力扫描探针组件(1)的微悬臂上形成白光干涉条纹，其包含所述原子力探针组件(1)上的探针(2)的形变信息；所述面CCD测量系统(7)接收包含所述探针(2)的形变信息的干涉条纹，所述控制主机(10)连接所述面CCD测量系统(7)，分析所述干涉条纹；其特征在于，该方法包括如下步骤：(I)记录所述激光干涉计量系统(8)以及所述垂直电机位移平台(6)的初始位置，并将所述原子力扫描探针(2)调节到所述面CCD测量系统(7)的一个位置；(II)所述控制主机(10)控制所述纳米级垂直位移平台(5)在垂直方向上向所述工件的方向快速产生一个位移；(III)在所述纳米级垂直位移平台(5)的位移发生后通过白光干涉原子力探针上零级条纹的移动量是否在阈值范围内来判断原子力探针是否定位到工件；(IV)若没有超过所述步骤(III)设定的阈值范围则控制所述纳米级垂直位移平台(5)继续向所述工件方向下移，如果超过所述步骤(III)设定的阈值范围，则控制所述纳米级垂直位移平台(5)向所述工件相反的方向运动所述步骤(II)的一半距离继续进入所述步骤(III)～(IV)；(V)如果所述纳米级垂直位移平台(5)在到达极限时还未定位到所述工件，此时记录所述激光干涉计量系统(8)的最终位置，并将所述纳米级垂直位移平台(5)复位；通过所述垂直电机位移平台(6)向下发生一个所述激光干涉计量系统(8)记录的位移值，重复所述步骤(I)～(V)，直至定位到工件。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：卢文龙，庾能国，刘晓军，杨文军，曾春阳，周莉萍，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42