一种金属屏蔽线保护电路、等效电路及检测方法技术

技术编号:12696731 阅读:133 留言:0更新日期:2016-01-13 15:30
本发明专利技术公开了一种金属屏蔽线保护电路、等效电路及检测方法,用于判断金属屏蔽线是否被断开,所述电路包括第一MOS管、第二MOS管和电流源,其中,所述电流源输出端与所述第一MOS管的漏极相连接,所述第一MOS管的栅极与所述第二MOS管的栅极相连接,所述第一MOS管的源极与所述第二MOS管的源极相连接并且共同接地,所述第二MOS管的漏极与所述保护电路的输出端相连接,以及,所述电流源的输出端还与所述第一MOS管的栅极或者所述第二MOS管的栅极相连接。当检测到该金属屏蔽线的输出端输出低电平时,表明该金属屏蔽线被切断或断开。此外,该金属屏蔽线保护电路利用饱和区晶体管形成了较大的下拉电阻,进而能够有效地减小芯片的占用面积。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及芯片设计
,特别涉及。
技术介绍
传统的安全芯片的内部包含有用于存储个人信息的敏感区域,为了提高芯片的安全性,防止芯片攻击者对芯片内部的个人信息进行攻击和入侵,通常会在芯片顶层设置金属屏蔽线,以消除干扰信号,进而提高芯片的安全性,防止攻击者入侵芯片后,恶意篡改或破坏芯片内部的数据。为提高芯片的安全性,通常在整个芯片上布置比较小的距离和宽度的金属屏蔽线,以提高金属屏蔽线的覆盖率。在对芯片布置金属屏蔽线的过程中,在进入深亚微米工艺阶段,随着金属屏蔽线之间的距离缩小,金属线之间的耦合电容将会变得很大,当一条金属屏蔽线被断开时,由于耦合电容变大,可能会导致相邻的金属屏蔽线的信号串扰到被断开的金属屏蔽线上,进而无法判断金属屏蔽线是否被断开。如图2所示,为传统的安全芯片上的金属屏蔽线的结构示意图。IN1-0UT1代表第一条金属屏蔽线,IN2-0UT2代表第二条金属屏蔽线,IN3-0UT3代表第三条金属屏蔽线,BLOCK:B代表屏蔽线电路,其中在该屏蔽线电路中,Ca代表本征电容,Cc代表同层金属线之间的耦合电容。传统的检测屏蔽线是否被切断的方法是,分别检测每条金属屏蔽本文档来自技高网...
一种<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/55/CN105243343.html" title="一种金属屏蔽线保护电路、等效电路及检测方法原文来自X技术">金属屏蔽线保护电路、等效电路及检测方法</a>

【技术保护点】
一种金属屏蔽线保护电路,其特征在于,所述电路包括第一MOS管、第二MOS管和电流源,其中,所述电流源输出端与所述第一MOS管的漏极相连接,所述第一MOS管的栅极与所述第二MOS管的栅极相连接,所述第一MOS管的源极与所述第二MOS管的源极相连接并且共同接地,所述第二MOS管的漏极与所述保护电路的输出端相连接,以及,所述电流源的输出端还与所述第一MOS管的栅极或者所述第二MOS管的栅极相连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李楠徐丽娜马文波
申请(专利权)人:北京华大信安科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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