本实用新型专利技术公开了一种小型空间功率合成器，包括介质阻抗变换器和功率合成器，所述介质阻抗变换器包括两个介质块，所述介质块上设有凹槽，所述凹槽截面呈三级阶梯状；所述功率合成器包括两片金属鳍，所述金属鳍设在凹槽内，所述金属鳍的粗端设置在凹槽小开口一端，所述金属鳍上还设有微带线，所述微带线的两端通过固定块固定在凹槽内，所述微带线与金属鳍长度方向垂直；所述介质块有凹槽的一面相对设置。本实用新型专利技术实现了高效小型化空间功率合成器的需求。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及空间功率合成器领域。
技术介绍
应用空间功率合成器，实现高效功率合成毫米波固态功率放大器，可完成大功率输出；传统的空间波导功率合成，体积较大，合成效率较低，隔离度较差，已不符合高集成度小型化的需求。
技术实现思路
本技术的目的在于:提供一种小型化的空间功率合成器。本技术是通过以下技术方案实现的:一种小型空间功率合成器，包括介质阻抗变换器和功率合成器，所述介质阻抗变换器包括两个介质块，所述介质块上设有凹槽，所述凹槽截面呈三级阶梯状；所述功率合成器包括两片金属鳍，所述金属鳍设在凹槽内，所述金属鳍的粗端设置在凹槽小开口一端，所述金属鳍上还设有微带线，所述微带线的两端通过固定块固定在凹槽内，所述微带线与金属鳍长度方向垂直；所述介质块有凹槽的一面相对设置。作为本技术的进一步优选方案，所述凹槽为轴对称形，所述金属鳍为轴对称形，二者的对称轴重合。作为本技术的进一步优选方案，所述金属鳍的粗端端口与介质块的端口齐平。作为本技术的进一步优选方案，所述介质块之间还设有完整的介质板。与现有技术相比，本技术具有以下有益效果:本技术实现了高效小型化空间功率合成器的需求。【附图说明】图1是本技术结构示意图；图2是单个介质块结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图，对本技术作详细的说明。为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。如图1及图2所示，一种小型空间功率合成器，包括介质阻抗变换器I和功率合成器2，所述介质阻抗变换器I包括两个介质块3，所述介质块3上设有凹槽4，所述凹槽4截面呈三级阶梯状；所述功率合成器2包括两片金属鳍5，所述金属鳍5设在凹槽4内，所述金属鳍5的粗端设置在凹槽4小开口一端，所述金属鳍5上还设有微带线6，所述微带线6的两端通过固定块7固定在凹槽4内，所述微带线6与金属鳍5长度方向垂直；所述介质块3有凹槽4的一面相对设置。所述凹槽4为轴对称形，所述金属鳍5为轴对称形，二者的对称轴重合。所述金属鳍5的粗端端口与介质块3的端口齐平。所述介质块3之间还设有完整的介质板8。该电路主要由凹形槽的λ g/4介质阻抗变换器I和功率合成器2组成。其中功率合成器2的核心是一对金属鳍5，它的作用是逐渐将波导中的电场模式TE1。模，转变成微带传输的TEM模。在波导到金属鳍5过渡的始端，鳍线导带的起始间距为波导的窄边距离，这样可以使波导中的信号连续传输到鳍线上，能最佳地耦合TE1。模。对极鳍线渐变过渡线，能将入射的TE1。模的电场集中并同时旋转90°，然后在有交叠鳍的对极鳍线中传输的准TEM模传输到微带线上；对于毫米波波导-微带双对脊鳍线过渡形式，在过渡的同时对其进行了两路合成，基片嵌入位置为BJ320波导窄边中心部位，电路基片采用0.254mm厚的Rogers RT/duroid 5880介质基片，2 X 2鳍线叠层式空间功率分配/合成器包含了两层双对脊鳍线，以BJ320波导宽边中心位置作为两个基板的对称中心，以对称中心将两个基板镜像安装，可实现该2 X 2叠层功分合成器。测试结果带内回波损耗小于_21dB，插入损耗小于0.15dB，完全满足高效小型化空间功率合成的要求，实现毫米波固态功率放大器的大功率输出。【主权项】1.一种小型空间功率合成器，包括介质阻抗变换器(I)和功率合成器(2)，其特征在于:所述介质阻抗变换器(I)包括两个介质块(3)，所述介质块(3)上设有凹槽(4)，所述凹槽(4)截面呈三级阶梯状；所述功率合成器(2)包括两片金属鳍(5)，所述金属鳍(5)设在凹槽(4)内，所述金属鳍(5)的粗端设置在凹槽(4)小开口一端，所述金属鳍(5)上还设有微带线(6)，所述微带线(6)的两端通过固定块(7)固定在凹槽(4)内，所述微带线(6)与金属鳍(5)长度方向垂直；所述介质块(3)有凹槽(4)的一面相对设置。2.根据权利要求1所述的一种小型空间功率合成器，其特征在于:所述凹槽(4)为轴对称形，所述金属鳍(5)为轴对称形，二者的对称轴重合。3.根据权利要求1所述的一种小型空间功率合成器，其特征在于:所述金属鳍(5)的粗端端口与介质块(3)的端口齐平。4.根据权利要求1所述的一种小型空间功率合成器，其特征在于:所述介质块(3)之间还设有完整的介质板(8)。【专利摘要】本技术公开了一种小型空间功率合成器，包括介质阻抗变换器和功率合成器，所述介质阻抗变换器包括两个介质块，所述介质块上设有凹槽，所述凹槽截面呈三级阶梯状；所述功率合成器包括两片金属鳍，所述金属鳍设在凹槽内，所述金属鳍的粗端设置在凹槽小开口一端，所述金属鳍上还设有微带线，所述微带线的两端通过固定块固定在凹槽内，所述微带线与金属鳍长度方向垂直；所述介质块有凹槽的一面相对设置。本技术实现了高效小型化空间功率合成器的需求。【IPC分类】H01P5/12【公开号】CN204927474【申请号】CN201520752063【专利技术人】李永安, 张冰, 曲佳健 【申请人】河北东森电子科技有限公司【公开日】2015年12月30日【申请日】2015年9月25日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种小型空间功率合成器，包括介质阻抗变换器(1)和功率合成器(2)，其特征在于：所述介质阻抗变换器(1)包括两个介质块(3)，所述介质块(3)上设有凹槽(4)，所述凹槽(4)截面呈三级阶梯状；所述功率合成器(2)包括两片金属鳍(5)，所述金属鳍(5)设在凹槽(4)内，所述金属鳍(5)的粗端设置在凹槽(4)小开口一端，所述金属鳍(5)上还设有微带线(6)，所述微带线(6)的两端通过固定块(7)固定在凹槽(4)内，所述微带线(6)与金属鳍(5)长度方向垂直；所述介质块(3)有凹槽(4)的一面相对设置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李永安，张冰，曲佳健，
申请(专利权)人：河北东森电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13
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