微控显微共聚焦荧光系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种微控显微共聚焦荧光系统，主要包括激光器(1)、多个狭缝、第一半反半透镜(3)、滤光片(4)、第二半反半透镜(5)、照相机(6)、显微物镜(7)、样品台(8)、多个反射镜、探测器(14)和计算机终端，所述多个狭缝包括第一狭缝(2)、第二狭缝(9)和第三狭缝(10)，所述计算机终端(16)与激光器(1)连接。本实用新型专利技术提供的微控显微共聚焦荧光系统，通过系统的设置，所得的光致发光谱，通过对发光谱中峰位、半高宽等的分析，可以得出材料带隙、缺陷、杂质能级以及复合机制等信息，为科学研究半导体纳米材料的光学性质研究提供了很好的分析设备。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于观察分析新材料分子或原子量级大小的装置，尤其涉及一种微控显微共聚焦荧光系统，属于显微电子设备领域。
技术介绍
纳米材料是指在三维空间中至少有一个维度的尺寸小于10nm或者由它们作为基本单元构成的材料。由于它的尺寸已经接近电子的相干长度，它的性质因为强相干所带来的自组织使得性质发生很大变化，如光学、热学、电学、磁学、力学以及化学方面的性质和块体材料相比将会有显著的不同。所以，纳米尺度和性能特异变化是纳米材料必须同时具备的两个基本特征。半导体纳米材料的量子尺寸效应和表面与界面等效应，使其表现出独特的光学特性，如光学发光性、吸收带边蓝移、激子发光等。尤其是I1-VI族一维纳米材料，它们是宽的直接带隙半导体材料，是典型的光电半导体材料。带隙半导体材料，是典型的光电半导体材料。以砸化镉为(CdSe)例，作为典型的光电半导体材料之一，本身具有独特的光电学性质，在作为光源、光吸收、光波导、光致发光和光电转换等方面有着广阔的应用前景。目前国内尚无成熟的专门用来制备半导体纳米材料相关样品的装置，也没有配套的测试仪器。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，解决好现有技术的问题，弥补现有目前市场上现有产品的不足。本技术提供了一种微控显微共聚焦荧光系统，主要包括激光器、多个狭缝、第一半反半透镜、滤光片、第二半反半透镜、照相机、显微物镜、样品台、多个反射镜、探测器和计算机终端，所述多个狭缝包括第一狭缝、第二狭缝和第三狭缝，所述计算机终端与激光器连接。优选的，上述按照激光光路的方向依次设置激光器、第一狭缝、第一半反半透镜、第二狭缝、第三狭缝、多个反射镜和探测器，计算机终端与探测器连接。优选的，上述多个反射镜包括第一反射镜和第二反射镜。优选的，上述第一反射镜和第二反射镜均为球面反射镜，两个反射镜之间设置由光栅。优选的，上述第一反射镜和第二反射镜后侧设置由光谱仪。优选的，按照激光光路方向还依次设置有激光器、第一狭缝、第一半反半透镜、显微物镜和样品台。优选的，按照激光光路方向还依次设置有激光器、第一狭缝、第一半反半透镜、滤光片、第二半反半透镜和照相机。本技术提供的微控显微共聚焦荧光系统，通过系统的设置，所得的光致发光谱，通过对发光谱中峰位、半高宽等的分析，可以得出材料带隙、缺陷、杂质能级以及复合机制等信息，为科学研究半导体纳米材料的光学性质研究提供了很好的分析设备。【附图说明】图1为本技术结构示意图。附图标记:1_激光器；2_第一狭缝；3_第一半反半透镜；4_滤波片；5_第二半反半透镜；6_照相机；7_显微物镜；8_样品台；9_第二狭缝；10_第三狭缝；11_第一反射镜；12-光栅；13-第二反射镜；14_探测器；15-光谱仪；16-计算机终端。【具体实施方式】为了便于本领域普通技术人员理解和实施本技术，下面结合附图及【具体实施方式】对本技术作进一步的详细描述。本技术提供的微控显微共聚焦荧光系统，主要结构如图1所示，主要包括激光器1、多个狭缝、第一半反半透镜3、滤光片4、第二半反半透镜5、照相机6、显微物镜7、样品台8、多个反射镜、探测器14和计算机终端，多个狭缝包括第一狭缝2、第二狭缝9和第三狭缝10，计算机终端16与激光器I连接。按照激光光路的方向依次设置激光器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、第二狭缝9、第三狭缝10、多个反射镜和探测器14，计算机终端16与探测器14连接。其中，多个反射镜包括第一反射镜11和第二反射镜13。第一反射镜11和第二反射镜13均为球面反射镜，两个反射镜之间设置由光栅12。第一反射镜11和第二反射镜13后侧设置由光谱仪15。按照激光光路方向还依次设置有激光器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、显微物镜7和样品台8。按照激光光路方向还依次设置有激光器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、滤光片4、第二半反半透镜5和照相机6。本技术提供的微控显微共聚焦荧光系统，其工作原理为:激光器I出射激光经由外部光路进入显微镜7照射到样品上，样品受到激光的激发，产生光致发光，样品发出的光由显微镜7的物镜进行收集，经过显微镜7里的镜片组(半反半透的透镜)变成平行光，使得样品所发荧光分为两部分，一部分进入照相机6进行成像，一部分经由透镜聚焦后进入光栅光谱仪15，经光栅12分光后聚焦至探测器14。通过对光致发光峰的分析我们可以得到:物质的特征电子跃迀，粒子是否有表面缺陷发光，样品的发光性能、能级结构和表面状态等信息。以上所述之【具体实施方式】为本技术的较佳实施方式，并非以此限定本技术的具体实施范围，本技术的范围包括并不限于本【具体实施方式】，凡依照本技术之形状、结构所作的等效变化均在本技术的保护范围内。【主权项】1.一种微控显微共聚焦荧光系统，其特征在于:所述微控显微共聚焦荧光系统主要包括激光器(I)、多个狭缝、第一半反半透镜(3)、滤光片(4)、第二半反半透镜(5)、照相机(6)、显微物镜(7)、样品台(8)、多个反射镜、探测器(14)和计算机终端，所述多个狭缝包括第一狭缝(2)、第二狭缝(9)和第三狭缝(10)，所述计算机终端(16)与激光器(I)连接。2.根据权利要求1所述的微控显微共聚焦荧光系统，其特征在于:按照激光光路的方向依次设置激光器(I)、第一狭缝(2)、第一半反半透镜(3)、第二狭缝(9)、第三狭缝(10)、多个反射镜和探测器(14)，计算机终端(16)与探测器(14)连接。3.根据权利要求2所述的微控显微共聚焦荧光系统，其特征在于:所述多个反射镜包括第一反射镜(11)和第二反射镜(13)，第一反射镜(11)和第二反射镜(13)均为球面反射镜，两个反射镜之间设置由光栅(12)。4.根据权利要求3所述的微控显微共聚焦荧光系统，其特征在于:所述第一反射镜(11)和第二反射镜(13)后侧设置由光谱仪(15)。5.根据权利要求1所述的微控显微共聚焦荧光系统，其特征在于:按照激光光路方向还依次设置有激光器(I)、第一狭缝(2)、第一半反半透镜(3)、显微物镜(7)和样品台(8)。6.根据权利要求1所述的微控显微共聚焦荧光系统，其特征在于:按照激光光路方向还依次设置有激光器(I)、第一狭缝(2)、第一半反半透镜(3)、滤光片(4)、第二半反半透镜(5)和照相机(6)。【专利摘要】本技术涉及一种微控显微共聚焦荧光系统，主要包括激光器(1)、多个狭缝、第一半反半透镜(3)、滤光片(4)、第二半反半透镜(5)、照相机(6)、显微物镜(7)、样品台(8)、多个反射镜、探测器(14)和计算机终端，所述多个狭缝包括第一狭缝(2)、第二狭缝(9)和第三狭缝(10)，所述计算机终端(16)与激光器(1)连接。本技术提供的微控显微共聚焦荧光系统，通过系统的设置，所得的光致发光谱，通过对发光谱中峰位、半高宽等的分析，可以得出材料带隙、缺陷、杂质能级以及复合机制等信息，为科学研究半导体纳米材料的光学性质研究提供了很好的分析设备。【IPC分类】G01N21/64【公开号】CN204924943【申请号】CN201520388357【专利技术人】陈小梅 【申请人】陈小梅【公开日】2015年12月30日【申请日】2015年6月3日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微控显微共聚焦荧光系统，其特征在于：所述微控显微共聚焦荧光系统主要包括激光器(1)、多个狭缝、第一半反半透镜(3)、滤光片(4)、第二半反半透镜(5)、照相机(6)、显微物镜(7)、样品台(8)、多个反射镜、探测器(14)和计算机终端，所述多个狭缝包括第一狭缝(2)、第二狭缝(9)和第三狭缝(10)，所述计算机终端(16)与激光器(1)连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈小梅，
申请(专利权)人：陈小梅，
类型：新型
国别省市：福建;35