控制显示角度的显示装置及其制造方法制造方法及图纸

提供一种控制显示角度的显示装置及其制造方法，所述显示装置包括：由多个像素单元构成的像素单元阵列，其中，每个像素单元包括由发出不同颜色光的子像素单元构成的子像素单元阵列，每个子像素单元包括：子像素层，用于发出与该子像素单元相应的预定颜色光；光折射层，设置在子像素层的上方并由微纳米结构阵列组成，其中，光折射层中的各个微纳米结构针对所述预定颜色光具有等效折射率，并且从子像素层发出的所述预定颜色光经由光折射层进行折射。采用所述显示装置及其制造方法能够改变显示角度，且可有效避免所述显示装置的分辨率下降和显示亮度不均匀。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术总体说来涉及显示装置，更具体地讲，涉及一种。
技术介绍
现有的电子设备(例如，智能手机、笔记本电脑、平板电脑、台式机、游戏机、个人数字终端、游戏机)的屏幕的显示角度一般都较大(一般屏幕的最大显示角度可达到120度?140度)，这是因为屏幕的每个像素所发出的光向前方散射。因此，当用户查看电子设备的屏幕上的显示内容时，位于该用户两侧的其他人也可以从旁边窥视到屏幕上的显示内容，不利于对该用户的隐私保护。在现有技术中，为防止其他人从旁侧窥视到屏幕上的显示内容，一般是为电子设备设置防偷窥膜。如图1所示，现有的防偷窥膜是基于百叶窗原理来控制电子设备的屏幕的显示角度，即，屏幕的每个像素所发出的光只能从百叶窗缝隙通过，竖直的叶片可以把侧向的光吸收。目前为电子设备设置防偷窥膜的方式主要有两种:—、在电子设备的屏幕上方贴附一层防偷窥膜，此时百叶窗的叶片会遮挡住屏幕上的像素，因此，这种方式会导致屏幕的显示亮度不均匀。二、将防偷窥膜与电子设备的屏幕集成在一起生产，此时百叶窗的叶片是设置在像素与像素之间，因此，这种方式百叶窗的叶片会占用像素的面积，导致屏幕的分辨率下降。此外，虽然上述两种方式可缩小屏幕的显示角度，但却无法对显示角度进行调节，在需要大显示角度的情况下无法满足要求。
技术实现思路
本专利技术的示例性实施例的目的在于提供一种，以解决上述至少一个技术问题。根据本专利技术示例性实施例的一方面，提供一种控制显示角度的显示装置，包括:由多个像素单元构成的像素单元阵列，其中，每个像素单元包括由发出不同颜色光的子像素单元构成的子像素单元阵列，每个子像素单元包括:子像素层，用于发出与该子像素单元相应的预定颜色光；光折射层，设置在子像素层的上方并由微纳米结构阵列组成，其中，光折射层中的各个微纳米结构针对所述预定颜色光具有等效折射率，并且从子像素层发出的所述预定颜色光经由光折射层进行折射。在所述显示装置中，可还包括:控制单元，用于控制光折射层中的各个微纳米结构针对所述预定颜色光的等效折射率。在所述显示装置中，控制单元可通过调整光折射层中的各个微纳米结构的尺寸参数和/或材料参数来控制各个微纳米结构针对所述预定颜色光的等效折射率。在所述显示装置中，控制单元可利用以下项之中的至少一个来调整各个微纳米结构的尺寸参数:热效应机电执行器、压电效应执行器、静电效应执行器、机械效应执行器。在所述显示装置中，压电效应执行器可为纳米机电执行器。在所述显示装置中，控制单元可通过电场和/或强光来调整各个微纳米结构的材料参数。在所述显示装置中，微纳米结构可具有垂直排列的至少两个层结构。在所述显示装置中，控制单元可通过控制所述至少两个层结构中的相邻层结构之间的相对距离发生变化，来改变光折射层中的各个微纳米结构的尺寸参数。在所述显示装置中，控制单元可通过控制所述至少两个层结构中的至少一个层结构沿预定轨迹移动来控制所述至少两个层结构中的相邻层结构之间的相对距离发生变化。在所述显示装置中，所述预定轨迹可为以下项中的任意一个:垂直移动轨迹、水平移动轨迹、预定曲线移动轨迹。在所述显示装置中，所述至少两个层结构中的每个层结构可由金属层和介质层堆叠而成，并且，相邻层结构的金属层不彼此相对。在所述显示装置中，金属层可包括金或银，介质层可包括以下项中的任意一个:氟化镁、硅、二氧化硅、聚合物、液晶材料。在所述显示装置中，微纳米结构的形状可为以下项中的至少一个:十字型结构体、圆柱、圆台、立方体、四面体、球体、椭球体、核壳体、圆环、孔状。在所述显示装置中，微纳米结构阵列可呈预定晶格形式，所述预定晶格形式可为以下项中的至少一个:正方晶格、斜方晶格、长方晶格、六角晶格、准晶排列晶格、分形排列晶格和螺旋排列晶格。在所述显示装置中，光折射层中的各个微纳米结构可针对所述预定颜色光具有等效零折射率。在所述显示装置中，各子像素单元中的光折射层可被单独制成；或者，所有子像素单元中的光折射层可被整体制成透明薄膜。根据本专利技术示例性实施例的一方面，提供一种控制显示角度的显示装置的制造方法，包括:(A)提供基底；(B)在所述基底上形成由多个像素单元的每个子像素单元中的子像素层构成的像素层，其中，子像素层用于发出与对应的子像素单元相应的预定颜色光；(C)在每个子像素层上铺设硅晶圆，并在硅晶圆上使用预定刻蚀方法刻蚀出凹形槽，其中，所述凹形槽的底部作为针对所述预定颜色光具有等效折射率的微纳米结构阵列的制备基底；(D)在微纳米结构阵列的制备基底上制备待刻蚀层；(E)使用所述预定刻蚀方法对制备的待刻蚀层进行刻蚀，以刻蚀出所述微纳米结构阵列，从而形成光折射层，使得从子像素层发出的所述预定颜色光经由光折射层进行折射；(F)使用反应离子刻蚀方法去除凹形槽的底部。在所述制造方法中，待刻蚀层可包括垂直排列的隔离层和至少两个层结构，隔离层设置在所述至少两个层结构中的相邻层结构之间，以对所述至少两个层结构中的相邻层结构进行隔离，其中，步骤(F)可还包括:腐蚀去除所述隔离层。在所述制造方法中，所述制造方法在步骤⑶和步骤(E)之间可还包括:(G)在所述凹形槽的侧壁的上端设置控制单元，并将所述至少两个层结构中的至少一个层结构与控制单元连接，其中，步骤(F)可还包括:使用反应离子刻蚀方法对凹形槽的侧壁进行刻蚀，以保留所述凹形槽的侧壁的两端。在所述制造方法中，所述至少两个层结构中的每个层结构可由金属层和介质层堆叠而成，并且，相邻层结构的金属层不彼此相对，其中，所述至少两个层结构中的任一层结构可通过以下方式被制备:在微纳米结构阵列的制备基底上使用第一预定工艺制备金属层；在所述金属层上，使用第二预定工艺制备介质层。在所述制造方法中，第一预定工艺可为以下项中的任意一个:磁控溅射法、电子束沉积法。在所述制造方法中，第二预定工艺可为以下项中的任意一个:真空蒸发法、磁控溅射法、溶胶-凝胶法、脉冲激光淀积法、电子束沉积法。在所述制造方法中，在步骤(E)中，形成光折射层的步骤可包括:使用旋转涂覆法在所述待刻蚀层的上表面形成光刻胶层；使用所述预定刻蚀方法在光刻胶层上刻蚀出与所述微纳米结构阵列一致的刻蚀图案；使用所述预定刻蚀方法按照所述刻蚀图案来刻蚀所述待刻蚀层；使用等离子灰化法去除光刻胶层，以暴露出微纳米结构阵列的制备基底上刻蚀出的所述微纳米颗粒阵列。在所述制造方法中，所述预定刻蚀方法可为以下项中的任意一个:聚焦离子刻蚀法、电子束刻蚀法。在所述制造方法中，所述隔离层可通过以下方式被制备:利用旋转涂覆法在所述至少两个层结构中的相邻层结构之间制备隔离层。在根据本专利技术示例性实施例的中，可在改变显示角度的同时避免显示装置的分辨率下降和显示亮度不均匀。【附图说明】通过下面结合示例性地示出实施例的附图进行的详细描述，本专利技术示例性实施例的上述和其它目的、特点和优点将会变得更加清楚，其中:图1示出现有的基于百叶窗原理的防偷窥膜的示意图；图2示出根据本专利技术示例性实施例的控制显示角度的显示装置中的任一像素单元的示例的示意图；图3示出根据本专利技术示例性实施例的控制显示角度的显示装置中的任当前第1页1 2 3 4 5 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种控制显示角度的显示装置，包括：由多个像素单元构成的像素单元阵列，其中，每个像素单元包括由发出不同颜色光的子像素单元构成的子像素单元阵列，每个子像素单元包括：子像素层，用于发出与该子像素单元相应的预定颜色光；光折射层，设置在子像素层的上方并由微纳米结构阵列组成，其中，光折射层中的各个微纳米结构针对所述预定颜色光具有等效折射率，并且从子像素层发出的所述预定颜色光经由光折射层进行折射。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郝锐，冯天华，
申请(专利权)人：广州三星通信技术研究有限公司，三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：广东;44