具有粘合剂层的光学构件叠层体及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种叠层体结构，其使用能够容易且廉价地制造的粘合剂层，能够有效地抑制光学构件叠层体中的内部反射。通过在从粘合剂层的表面起沿厚度方向的某一范围形成具有比粘合剂层的基础材料更高折射率的折射率调整分区来抑制光学构件叠层体的内部反射。本发明专利技术还提供一种用于将透明的第1光学构件与第2光学构件接合的光学构件叠层体，该光学构件叠层体是透明的，且具备具有特定结构的粘合剂层。具有特定结构的该粘合剂层包含从面向第1光学构件的一侧的第1主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的面向第2光学构件的一侧的第2主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区。而且，该折射率调整用分区具有比粘合剂基础材料的折射率更高的折射率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有粘合剂层的光学构件叠层体及其制造方法
本专利技术涉及具有粘合剂层的光学构件叠层体及其制造方法。特别是，本专利技术涉及具有用于将透明的光学构件与其它光学构件接合的粘合剂层的光学构件叠层体及其制造方法。
技术介绍
例如，对于液晶显示装置或有机EL显示装置这样的显示装置而言，为了将偏振膜、相位差膜、盖玻璃等透明盖片构件、以及各种透明光学构件接合到其它的光学构件上，会使用粘合剂。即，将粘合剂层配置于待接合的2个光学构件之间，通过将所述2个光学构件相互挤压而接合，从而形成光学构件叠层体。在显示装置中，这样构成的光学构件叠层体以透明光学构件侧为可视侧的方式进行配置。对于该构成而言，存在当外部光从可视侧的透明光学构件入射时，入射光在粘合剂层与非可视侧的光学构件的界面处反射而返回可视侧的问题。这个问题在外部光的入射角小时变得尤其明显。另外，对于具备近年来有增加倾向的触摸面板的显示装置而言，在待接合透明光学构件的被接合侧光学构件的表面形成经过了图案化的ITO(铟/锡氧化物)这样的透明的导电层。对于这样的显示装置而言，指出了存在所谓的的“图案可见”的问题，所谓“图案可见”是指，由于粘合剂层与透明导电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学构件叠层体，其具备用于将透明的第1光学构件与第2光学构件接合的透明粘合剂层，其中，所述粘合剂层包含从面向所述第1光学构件侧的第1主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的面向所述第2光学构件侧的第2主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，该折射率调整用分区具有比所述粘合剂基础材料的折射率更高的折射率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.01.17 JP 2014-007310;2014.01.17 JP 2014-007311.一种光学构件叠层体，其具备用于将透明的第1光学构件与第2光学构件接合的透明粘合剂层，其中，所述粘合剂层是包含透明的粘合剂基础材料且具有方向相反的2个主面的单独层，该粘合剂层包含从面向所述第1光学构件侧的第1主面起沿厚度方向实质上由所述透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该单独层的粘合剂层的面向所述第2光学构件侧的第2主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，该折射率调整用分区的构成为：在所述单独层的粘合剂基础材料中含有具有比所述粘合剂基础材料的折射率更高的折射率的材料。2.根据权利要求1所述的光学构件叠层体，其中，所述折射率调整用分区具有比所述第2光学构件的折射率更低的折射率。3.根据权利要求1所述的光学构件叠层体，其在所述第2光学构件的面向所述单独层的粘合剂层侧形成给定图案的透明导电层，所述折射率调整用分区与该透明导电层和该第2光学构件两者相接，使得填埋该透明导电层与所述第2光学构件之间的高低差，所述折射率调整用分区具有比所述透明导电层的折射率更低的折射率。4.根据权利要求1所述的光学构件叠层体，其在所述第2光学构件的面向所述粘合剂层侧形成给定图案的透明导电层，所述折射率调整用分区与该透明导电层和该第2光学构件两者相接，使得填埋该透明导电层与所述第2光学构件之间的高低差，所述折射率调整用分区所具有的折射率比所述透明导电层的折射率低、并且比所述第2光学构件的所述透明导电层以外的部分的折射率高。5.根据权利要求3或4所述的光学构件叠层体，其在所述第2光学构件的面向所述单独层的粘合剂层侧的表面形成了折射率调整层，所述折射率调整层具有比所述透明导电层的折射率更低的折射率。6.根据权利要求5所述的光学构件叠层体，其中，所述单独层的粘合剂层的折射率调整用分区具有比形成在所述第2光学构件的表面的所述折射率调整层的折射率更高的折射率。7.根据权利要求1～4中任一项所述的光学构件叠层体，其中，所述单独层的粘合剂层的折射率调整用分区的厚度为20nm～600nm。8.根据权利要求1～4中任一项所述的光学构件叠层体，其中，所述单独层的粘合剂层的折射率调整用分区如下构成：将具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子分散于与所述粘合剂基础材料相同的粘合性材料中，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。9.根据权利要求3或4所述的光学构件叠层体，其中，所述单独层的粘合剂层的折射率调整用分区如下构成：将具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子分散于与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率，所述透明导电层的折射率为1.75～2.14，所述粘合剂基础材料的折射率为1.40～1.55，所述高折射率材料的粒子的折射率为1.60～2.74。10.根据权利要求8所述的光学构件叠层体，其在所述单独层的粘合剂层的折射率调整用分区与所述第2光学构件之间的接合面形成所述高折射材料的粒子与所述第2光学构件接触的区域、以及该折射率调整用分区的粘合性材料与该第2光学构件接触的基质区域。11.根据权利要求8所述的光学构件叠层体，其中，通过TEM观察得到的所述高折射率材料的平均初级粒径为3nm～100nm。12.根据权利要求8所述的光学构件叠层体，其中，所述高折射率材料的粒子与所述粘合剂基础材料的折射率之差为0.2～1.3。13.根据权利要求8所述的光学构件叠层体，其中，所述高折射率材料是选自TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5及SnO2中的一种或多种化合物。14.根据权利要求1～4中任一项所述的光学构件叠层体，其中，所述单独层的粘合剂层的折射率调整用分区如下构成...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅本彻，形见普史，鹰尾宽行，野中崇弘，保井淳，疋田贵巳，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP