【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种存储设备及其制备方法,特别是涉及一种阻变存储器及其制备方法,应用于电化学和微电子
技术介绍
目前,硅基闪存设备由于密度高、成本低,占据了非易失性存储器(NVM)—半的市场。随着移动存储设备、手机通信设备以及数码相机等各种便携式数码产品的发展与普及,市场对非易失性存储的需求进一步增加,除了密度高、成本低,还应具有功耗低、读写速度快、性能稳定、存储时间长等特点。然而闪存的缩放特性,即进一步提高闪存密度,已接近其物理极限,因此功耗低、擦写速度快、缩放性强的阻变存储器应运而生,被视为下一代非易失性存储器的主流材料之一。阻变存储器的结构简单,其存储单元由类似电容器的M頂(金属-绝缘体-金属)的三明治结构构成,中间薄膜一般为具有阻变特性的介质薄膜。当对存储单元两端电极施加大小或者极性不同的电压时,可以实现高、低阻态的相互转换。目前,科研工作者发现很多材料具有阻变性能: 1.二元过渡金属氧化物(TMOS),如Ti02,Cr2O3和N1 ; 2.钙钛矿型复合过渡金属氧化物,这些氧化物具有各种功能、顺电性、铁电性、磁电性和磁性,如(Ba, ...
【技术保护点】
一种具有反常阻变特性的碳基材料阻变存储单元,其特征在于:自下而上依次主要由衬底层(1)、下电极层(2)、阻变层(3)和上电极层(4)结合而成,所述阻变层(3)为在非晶碳膜中掺杂有Fe的a‑C/Fe薄膜阻变层,其中所述Fe的掺杂量为4.0at%。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:汪琳,张淑玮,吴白羽,周家伟,任兵,黄健,王林军,
申请(专利权)人:上海大学,
类型:发明
国别省市:上海;31
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