本发明专利技术公开了一种基板传送装置及基板清洗设备。基板传送装置，包括多个双辊单元，每个所述双辊单元包括下辊和上辊，所述下辊为主动辊，包括辊体以及设置于辊体上的多个用于支撑基板的主动滚轮；所述上辊包括第一辊体和第二辊体，所述第一辊体和第二辊体分别设置于基板垂直于传送方向的两侧上方，且所述第一辊体和第二辊体上分别设置有至少一个用于向下方基板施压的从动滚轮。本发明专利技术技术方案的基板传送装置，通过主动滚轮的转动带动基板传送，基板的传送带动从动滚轮转动，当喷洗装置释放喷洗物清洗基板时，上辊不会受到强烈振动，从而可以有效减少基板在清洗过程中损坏的可能，进而减少宕机时间，提高生产效率和产品产量。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示装置的制造
，尤其涉及一种基板传送装置及基板清洗设备。
技术介绍
在平板显不装置中，TFT-LCD(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器，简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。随着玻璃基板的尺寸大型化，为保证产品的合格率，每一步制造工艺都面临着更大的挑战。在TFT-1XD面板的制造过程中，基板的清洗工序尤为重要。如图1和图2所示，现有的基板清洗装置包括:多个双辊单元100，每个双辊单元100包括下辊2和上辊1，所述下辊2为主动辊，所述下辊的辊体上设置有多个用于支撑上方基板3的主动滚轮20，所述上辊I的辊体上设置有至少一个用于向下方基板3施压的从动滚轮10。当多个双辊单元的下辊按照图示方向转动时，基板沿图示直线箭头方向被传送，多个双辊单元的上辊被基板带动按照图示方向相对下辊反向转动。在基板的传送过程中，高压水气喷射装置对基板喷射高压水气，从而对基板进行清洗。现有技术存在的缺陷在于，受高压水气的冲击，上辊会产生剧烈震荡，从而易使玻璃基板边缘被滚轮夹碎，一旦玻璃基板破碎，会导致长时间宕机，从而影响到生产效率和产品产量。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种基板传送装置及基板清洗设备，以有效减少基板在清洗过程中损坏的可能，进而减少宕机时间，提高生产效率和产品产量。本专利技术实施例提供一种基板传送装置，包括多个双辊单元，每个所述双辊单元包括下辊和上辊，所述下辊为主动辊，包括辊体以及设置于辊体上的多个用于支撑基板的主动滚轮；所述上辊包括第一辊体和第二辊体，所述第一辊体和第二辊体分别设置于基板垂直于传送方向的两侧上方，且所述第一辊体和第二辊体上分别设置有至少一个用于向下方基板施压的从动滚轮。本专利技术实施例的基板传送装置，每个双辊单元的下辊上设置有主动滚轮，上辊的第一辊体和第二辊体分别设置有至少一个从动滚轮，通过主动滚轮的转动带动基板传送，基板的传送带动从动滚轮相对主动滚轮的反向转动，由于第一辊体和第二辊体分别设置于基板垂直于传送方向的两侧上方，当喷洗装置释放喷洗物清洗基板时，上辊不会受到强烈振动，从而可以有效减少基板在清洗过程中损坏的可能，进而减少宕机时间，提高生产效率和产品产量。较优的，所述上辊的从动滚轮设置于基板垂直于传送方向的边缘区域上方。更优的，所述下辊的所述多个主动滚轮中，至少一个设置于基板垂直于传送方向的边缘区域下方。将至少一个主动滚轮设置于基板垂直于传送方向的边缘区域下方，可以与设置于基板垂直于传送方向的边缘区域上方的从动滚轮一起，稳固地夹持基板，从而进一步减少基板在传送过程中被损坏的可能。较佳的，所述下辊位于所述上辊的正下方。将下辊设置在上辊的正下方，可减少基板受到下辊和上辊产生的剪切力，进一步保护基板在传送过程中不被损坏。较佳的，所述下辊位于所述上辊的斜下方。优选的，所述上辊和下辊的同一侧端部通过辊体架连接。更优的，所述上辊和下辊的同一侧端部通过两个辊体架连接。通过在上辊和下辊之间安装两个辊体架，可以有效地保护设置于基板垂直于传送方向的边缘区域上方和下方的从动滚轮和主动滚轮间隙，使该间隙不易发生变化，当喷洗装置释放喷洗物时，可以有效地降低基板被损坏的可能性。较优的，所述基板传送装置，还包括位于相邻两个双辊单元的下辊之间的支撑辊。通过在相邻两个双辊单元的下辊之间设置支撑辊，可以为基板提供更加均匀的支撑，从而保护基板传送的安全性。本专利技术实施例提供一种基板清洗设备，包括如上述任一技术方案所述的基板传送装置，以及位于所述多个双辊单元上方的喷洗装置。优选的，所述喷洗装置包括高压水气喷洗装置。本专利技术实施例提供的基板清洗设备，当喷洗装置释放喷洗物时，该基板清洗装置可以有效地清洗基板，并减少基板在清洗过程中被损坏的可能，进而减少宕机时间，提高生产效率和产品产量。【附图说明】图1为现有技术中基板传送装置结构示意图；图2为现有技术中双辊单元结构示意图；图3为本专利技术实施例基板传送装置结构示意图；图4为本专利技术实施例双辊单元结构示意图；图5a为本专利技术一实施例滚轮相对基板位置示意图；图5b为本专利技术另一实施例滚轮相对基板位置不意图；图6为本专利技术实施例双辊单元正视图。现有技术附图标记:1-上辊2-下辊10-从动滚轮20-主动滚轮100-双辊单元3-基板本专利技术实施例附图标记:200-双辊单元3-基板40-上辊50-下辊40a-第一辊体40b_第二辊体41-从动滚轮51-主动滚轮42-辊体架60-支撑辊7-喷洗装置【具体实施方式】为了有效减少基板在清洗过程中损坏的可能，进而减少宕机时间，提高生产效率和产品产量，本专利技术实施例提供了一种基板传送装置及基板清洗设备。本专利技术实施例提供一种基板传送装置，如图3和图4所示，包括多个双辊单元200，每个双辊单元200包括下辊50和上辊40，其中，下辊50为主动辊，包括辊体以及设置于辊体上的多个用于支撑基板3的主动滚轮51 ;上辊40包括第一辊体40a和第二辊体40b，第一辊体和第二辊体分别设置于基板3垂直于传送方向的两侧上方，基板传送方向如图中直线箭头所示，且第一辊体40a和第二辊体40b上分别设置有至少一个用于向下方基板3施压的从动滚轮41。本专利技术实施例的基板传送装置，每个双辊单元的下辊上设置有主动滚轮，上辊的第一辊体和第二辊体分别设置有至少一个从动滚轮，如图3所示，当多个双辊单元的下辊按照图示方向转动时，基板沿图示直线箭头方向被传送，多个双辊单元的上辊被基板带动按照图示方向相对下辊反向转动。由于第一辊体和第二辊体分别设置于基板垂直于传送方向的两侧上当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基板传送装置，其特征在于，包括多个双辊单元，每个所述双辊单元包括下辊和上辊，所述下辊为主动辊，包括辊体以及设置于辊体上的多个用于支撑基板的主动滚轮；所述上辊包括第一辊体和第二辊体，所述第一辊体和第二辊体分别设置于基板垂直于传送方向的两侧上方，且所述第一辊体和第二辊体上分别设置有至少一个用于向下方基板施压的从动滚轮。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王俊杰，龚磊，陈晨，陈国，关江兵，韩亚军，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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