公开了一种阵列基板及其制作方法和显示装置。阵列基板包括：基板；多个像素单元，设置在所述基板上，每个像素单元包括多个功能层；以及遮光组件，设置在相邻的像素单元之间。所述遮光组件包括：遮光层；覆盖在所述遮光层上的光吸收层；以及覆盖在所述光吸收层上的减反射层。通过在遮光组件上设置减反射层，可以减少遮光组件对外部环境光的反射，从而能够改善显示对比度，提高画面显示质量。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施例涉及一种用于显示装置的阵列基板，尤其涉及一种阵列基板、阵 列基板的制作方法和包括阵列基板的显示装置。
技术介绍
目前，诸如薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，简称 TFT-LCD)、有机发光二极管（Organic Light Emitting Diode，0LED)单元以 及有源矩阵有机发光二极管（Active Matrix Organic Light Emitting Diode，AMOLED) 之类的显示器件，由于具有抗震性好、视角广、操作温度宽、对比度高、可实现柔性显示等特 点，不但广泛应用于显示装置中。另外，高级超维场转换技术（ADvanced Super Dimension Switch，简称ADS)通过同一平面内像素间电极产生边缘电场，使电极间以及电极正上方的 取向液晶分子都能在平面方向（平行于基板）产生旋转转换，在增大视角的同时还可以提 高液晶层的透光效率。 在现有的TFT-IXD显示器中，在相邻子像素间设置黑矩阵，以遮挡设置在基板上 的薄膜晶体管、数据线、栅线等器件，并吸收不受液晶偏转控制的可见光以及其他对显示效 果有影响的光，使液晶显示器具有良好的显示效果。现有技术中，黑矩阵主要由包覆由有机 树脂材料制成的碳黑颗粒，由于有机树脂材料的介电常数较大，会使得公共电极与栅线和 /或公共电极与数据线之间产生很大的寄生电容，进而产生较大的信号延迟，减低显示器件 的画面的显示质量。在另一种解决方案中，采用金属材料制作黑矩阵。由于金属材料会对 环境光形成反射，造成显示器的对比度下降，影响画面质量。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及其制作方法和显示装置，其遮光组件可以对 外部环境光进行反射，以改善显示装置的显示对比度，提高画面显示质量。 根据本专利技术一个方面的实施例，提供一种阵列基板，包括：基板；多个像素单元， 设置在所述基板上，每个像素单元包括多个功能层；以及遮光组件，设置在相邻的像素单元 之间。所述遮光组件包括：遮光层；覆盖在所述遮光层上的光吸收层；以及覆盖在所述光吸 收层上的减反射层。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述减反射层由透明导电薄膜形成。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述功能层包括平坦层、以及在所述平坦 层上依次设置的第一电极层、第一钝化层和第二电极层。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述遮光组件设置在所述第一电极层和平 坦层之间。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述遮光组件的减反射层与所述第一电极 层由相同的材料制成并设置在同一层。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述遮光组件设置在所述第二电极层和第 一钝化层之间。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述遮光组件的减反射层与所述第二电极 层由相同的材料制成并设置在同一层。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述遮光组件设置在所述第一电极层和第 一钝化层之间。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述遮光层由金属或者金属合金材料制 成。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述减反射层由氧化铟锡、氧化铟锌和氧 化铝锌中的至少一种材料制成。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述遮光层由铝、铬、铜、钼、钛、铝钕合金、 铜钼合金、钼钽合金和钼钕合金中的至少一种材料制成。 根据本专利技术的一种实施例的阵列基板，所述光吸收层由金属氧化物、金属氮化物 或者金属氮氧化物制成。 根据本专利技术另一方面的实施例，提供一种显示装置，包括根据上述实施例中的任 一项所述的阵列基板。 根据本专利技术再一方面的实施例，提供一种阵列基板的制作方法，包括如下步骤：在 基板上形成包括多个功能层的多个像素单元；以及在相邻的像素单元之间形成遮光组件。 所述遮光组件包括：遮光层；覆盖在所述遮光层上的光吸收层；以及覆盖在所述光吸收层 上的减反射层。 根据本专利技术上述实施例的阵列基板及其制作方法和显示装置，通过在遮光组件上 设置减反射层，可以减少遮光组件对外部环境光的反射，从而能够改善显示对比度，提高画 面显示质量。【附图说明】 为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照 附图，对本专利技术作进一步的详细说明，其中： 图1是根据本专利技术的一种示例性实施例的阵列基板的局部俯视图； 图2是在根据本专利技术的第一种示例性实施例的阵列基板中沿图1的A-A'线的局 部剖视图； 图3是在根据本专利技术的第一种示例性实施例的阵列基板中沿图1的B-B'线的局 部剖视图； 图4是根据本专利技术的一种示例性实施例的遮光组件的局部放大剖视图； 图5是示出本专利技术实施例的遮光组件、与金属层、金属层/光吸收层、以及玻璃对 相关波长的光的反射率的比较示意图； 图6是在根据本专利技术的第二种示例性实施例的阵列基板中沿图1的A-A'线的局 部剖视图； 图7是在根据本专利技术的第三种示例性实施例的阵列基板中沿图1的A-A'线的局 部剖视图；以及 图8是在根据本专利技术的第四种示例性实施例的阵列基板中沿图1的A-A'线的局 部剖视图。【具体实施方式】 下面通过实施例，并结合附图，对本专利技术的技术方案作进一步具体的说明。在说明 书中，相同或相似的附图标号指示相同或相似的部件。下述参照附图对本专利技术实施方式的 说明旨在对本专利技术的总体专利技术构思进行解释，而不应当理解为对本专利技术的一种限制。 根据本专利技术总体上的专利技术构思，提供一种阵列基板，包括：基板；多个像素单元， 设置在所述基板上，每个像素单元包括多个功能层；以及遮光组件，设置在相邻的像素单元 之间。所述遮光组件包括：遮光层；覆盖在所述遮光层上的光吸收层；以及覆盖在所述光吸 收层上的减反射层。通过在遮光组件中设置减反射层，可以减少遮光组件对入射到遮光组 件的外部环境光的反射，从而能够改善包括这种阵列基板的显示装置的显示对比度，提高 画面显示质量。 在下面的详细描述中，为便于解释，阐述了许多具体的细节以提供对本披露实施 例的全面理解。然而明显地，一个或多个实施例在没有这些具体细节的情况下也可以被实 施。在其他情况下，公知的结构和装置以图示的方式体现以简化附图。 参见图1-4,本专利技术的实施例提供一种阵列基板，包括：由玻璃或者透明树脂材料 制成的基板100 ;多个像素单元，设置在基板100上，每个像素单元包括多个功能层（下面 将详细描述）；以及遮光组件11，设置在相邻的像素单元之间。遮光组件11包括：遮光层 (或者金属层）Ila ;覆盖在遮光层Ila上的光吸收层Ilb ;以及覆盖在光吸收层Ilb上的减 反射层lie。通过在遮光组件11中设置减反射层11C，可以减少遮光组件11对入射到遮光 组件的外部环境光（例如从像素单元入射到遮光组件的光）的反射，从而能够改善具有这 种阵列基板的显示装置的显示对比度，提高画面显示质量。 在一种示例性实施例中，如图2-4所示，功能层包括：平当前第1页1 2 3 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；多个像素单元，设置在所述基板上，每个像素单元包括多个功能层；以及遮光组件，设置在相邻的像素单元之间，所述遮光组件包括：遮光层；覆盖在所述遮光层上的光吸收层；以及覆盖在所述光吸收层上的减反射层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张锋，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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