一种晶片除蜡清洗液循环系统技术方案

技术编号:12344058 阅读:82 留言:0更新日期:2015-11-18 17:19
本发明专利技术公开了一种晶片除蜡清洗液循环系统,包括与清洗液储液仓相连接的抽吸泵,在所述的抽吸泵输出端设置有膨胀阀,所述的膨胀阀输出端通过射流泵与分离仓相连接,所述的分离仓远离所述的射流泵一侧侧壁上设置有隔板,所述的隔板为沿所述的分离仓内壁纵向排列的至少3个,所述的隔板由上向下长度逐渐增大;在所述的分离仓下部设置有输出口,所述的输出口通过管道与加热仓相连接。本发明专利技术通过采用射流泵加速经过降温的清洗液喷射到隔板上,使其能够更加充分的与隔板接触,实现蜡凝结收集。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种晶片除蜡清洗液循环系统
技术介绍
在晶片加工过程中,需要将残留在晶片表面上的蜡去除。现有的清洗设备通常采用多种工序进行加工操作,采用液体清洗的方式下,蜡溶解在清洗液内,不方便分离,使得大量清洗液仅能一次性使用,非常浪费资源。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种晶片除蜡清洗液循环系统,能改善现有技术存在的问题,通过采用射流栗加速经过降温的清洗液喷射到隔板上,使其能够更加充分的与隔板接触,实现蜡凝结收集。本专利技术通过以下技术方案实现: 一种晶片除蜡清洗液循环系统,包括与储液仓相连接的抽吸栗,在所述的抽吸栗输出端设置有膨胀阀,所述的膨胀阀输出端通过射流栗与分离仓相连接,所述的分离仓远离所述的射流栗一侧侧壁上设置有隔板,所述的隔板为沿所述的分离仓内壁纵向排列的至少3个,所述的隔板由上向下长度逐渐增大; 在所述的分离仓下部设置有输出口,所述的输出口通过管道与加热仓相连接。进一步的,为更好地实现本专利技术,所述的隔板可拆卸连接在所述的分离仓内壁上。进一步的,为更好地实现本专利技术,所述的隔板通过螺栓连接在所述的分离仓内壁上。进一步的,为更好地实现本专利技术,在所述的输出口上设置有至少I道过滤网。进一步的,为更好地实现本专利技术,所述的加热仓包括内外两层壳体组成的容纳腔体结构和设置在内外两层壳体之间的电加热器。进一步的,为更好地实现本专利技术,所述的加热仓的内层壳体为防腐陶瓷制成。本专利技术与现有技术相比,具有以下有益效果: (1)本专利技术通过采用膨胀阀,实现对清洗液进行降温,使其中的蜡在骤冷时凝结,方便收集; (2)本专利技术通过采用射流栗,加速将经降温的清洗液喷射到隔板上,使蜡在隔板上集结,方便其凝结和收集; (3)本专利技术设置加热仓,能够将经过除蜡之后的清洗液加热处理,使其可以再次使用,同时通过加热处理,使得清洗液在用于除蜡操作时,能够提高清洗效率。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本专利技术整体结构示意图。其中:101.储液仓,102.抽吸栗,103.膨胀阀,104.分离仓,105.隔板,106.输出□ ,107.加热仓,108.过滤网。【具体实施方式】下面结合具体实施例对本专利技术进行进一步详细介绍,但本专利技术的实施方式不限于此。如图1所示,一种晶片除蜡清洗液循环系统,包括与储液仓101相连接的抽吸栗102,在所述的抽吸栗102输出端设置有膨胀阀103,所述的膨胀阀103输出端通过射流栗与分离仓104相连接,所述的分离仓104远离所述的射流栗一侧侧壁上设置有隔板105,所述的隔板105为沿所述的分离仓104内壁纵向排列的至少3个,所述的隔板105由上向下长度逐渐增大; 在所述的分离仓104下部设置有输出口 106,所述的输出口 106通过管道与加热仓107相连接。实施例1: 为了方便安装,本实施例中,优选地,所述的隔板105可拆卸连接在所述的分离仓104内壁上。可以方便将其拆卸下来,从而能够集中处理凝结在隔板上的蜡,方便隔板重复使用,同时也可以方便蜡集中收集和重复使用。优选地,本实施例中,所述的隔板105通过螺栓连接在所述的分离仓104内壁上。本专利技术中,也可以采用卡接等方式实现对隔板的安装,能够方便操作即可。实施例2: 本实施例在实施例1的基础上,在所述的输出口 106上设置有至少I道过滤网108。通过设置过滤网,能够将从分离仓输出的清洗液进行过滤,避免蜡进入加热仓影响后续处理效果。本实施例中,优选地,所述的加热仓107包括内外两层壳体组成的容纳腔体结构和设置在内外两层壳体之间的电加热器。通过采用内外两层结构,能够实现对加热仓内清洗液进行加热,同时,采用两层结构,能够有效实现保温,避免资源浪费。为了提高保温效果,本实施例中,优选地,所述的加热仓107的内层壳体为防腐陶瓷制成。既能够实现温度传递的效果,同时也能利用陶瓷保温效果好的特点,有助于保持加热仓内温度恒定,从而使清洗液经加热之后进行去蜡操作,有效提高去蜡效率。以上所述仅为本专利技术的优选实施例而已,并不用于限制本专利技术,对于本领域的技术人员来说,本专利技术可以有各种更改和变化。凡在本专利技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本专利技术的保护范围之内。【主权项】1.一种晶片除蜡清洗液循环系统,其特征在于:包括与储液仓(101)相连接的抽吸栗(102),在所述的抽吸栗(102)输出端设置有膨胀阀(103),所述的膨胀阀(103)输出端通过射流栗与分离仓(104)相连接,所述的分离仓(104)远离所述的射流栗一侧侧壁上设置有隔板(105),所述的隔板(105)为沿所述的分离仓(104)内壁纵向排列的至少3个,所述的隔板(105)由上向下长度逐渐增大; 在所述的分离仓(104)下部设置有输出口( 106),所述的输出口( 106)通过管道与加热仓(107)相连接。2.根据权利要求1所述的一种晶片除蜡清洗液循环系统,其特征在于:所述的隔板(105)可拆卸连接在所述的分离仓(104)内壁上。3.根据权利要求2所述的一种晶片除蜡清洗液循环系统,其特征在于:所述的隔板(105)通过螺栓连接在所述的分离仓(104)内壁上。4.根据权利要求1或2所述的一种晶片除蜡清洗液循环系统,其特征在于:在所述的输出口(106)上设置有至少I道过滤网(108)。5.根据权利要求1或2所述的一种晶片除蜡清洗液循环系统,其特征在于:所述的加热仓(107)包括内外两层壳体组成的容纳腔体结构和设置在内外两层壳体之间的电加热器。6.根据权利要求5所述的一种晶片除蜡清洗液循环系统,其特征在于:所述的加热仓(107)的内层壳体为防腐陶瓷制成。【专利摘要】本专利技术公开了一种晶片除蜡清洗液循环系统,包括与清洗液储液仓相连接的抽吸泵,在所述的抽吸泵输出端设置有膨胀阀,所述的膨胀阀输出端通过射流泵与分离仓相连接,所述的分离仓远离所述的射流泵一侧侧壁上设置有隔板,所述的隔板为沿所述的分离仓内壁纵向排列的至少3个,所述的隔板由上向下长度逐渐增大;在所述的分离仓下部设置有输出口,所述的输出口通过管道与加热仓相连接。本专利技术通过采用射流泵加速经过降温的清洗液喷射到隔板上,使其能够更加充分的与隔板接触,实现蜡凝结收集。【IPC分类】B08B3/14【公开号】CN105057274【申请号】CN201510502859【专利技术人】张明 【申请人】天津市信拓电子科技有限公司【公开日】2015年11月18日【申请日】2015年8月15日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶片除蜡清洗液循环系统,其特征在于:包括与储液仓(101)相连接的抽吸泵(102),在所述的抽吸泵(102)输出端设置有膨胀阀(103),所述的膨胀阀(103)输出端通过射流泵与分离仓(104)相连接,所述的分离仓(104)远离所述的射流泵一侧侧壁上设置有隔板(105),所述的隔板(105)为沿所述的分离仓(104)内壁纵向排列的至少3个,所述的隔板(105)由上向下长度逐渐增大;在所述的分离仓(104)下部设置有输出口(106),所述的输出口(106)通过管道与加热仓(107)相连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张明
申请(专利权)人:天津市信拓电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:天津;12

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