一种莠去津残留药害的快速鉴定方法及其应用技术

技术编号:12295189 阅读:235 留言:0更新日期:2015-11-11 07:09
本发明专利技术属于农药检测技术领域,公开了一种莠去津残留药害的快速鉴定方法及其应用。该方法通过检测作物叶绿素荧光强度变化进行鉴定。本发明专利技术通过检测和比较作物前后两次Fv/Fm和YII,当其均出现下降时,可鉴定作物受到药害,且受害程度越严重,下降越明显,说明其生长环境中莠去津的浓度越高。且,本发明专利技术方法鉴定药害的最低浓度为0.09ppm,相比目测药害鉴定的浓度的0.9ppm,检测下限更低,具有简便、快速、准确特点,可以作为农田作物、土壤和水体中是否存在莠去津残留药害诊断的一种新手段。且本发明专利技术方法检测时间短,对于农田作物,只需1天即可鉴定得到结果,对于未栽种作物土壤或水体,只需6天即可鉴定其药害。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于农药检测
,特别涉及一种莠去津残留药害的快速鉴定方法及 其应用。
技术介绍
莠去津(atrazine)为均三嗪类除草剂,主要用于防除玉米、高粱和甘蔗等作物田 防除各种阔叶杂草及禾本科杂草。由于其对玉米、甘蔗等作物具有高度的选择性和杀草谱 广、使用方便、价格低廉等优点,成为田间普遍使用的除草剂。我国从20世纪60年代开始 引进莠去津,随着使用年限的增加,以及对这种除草剂的过度依赖及频繁使用,导致田间杂 草逐渐产生抗药性。但是,为了达到预期的防除效果,农民会不断的加大药剂使用剂量和次 数,此举最终导致更加严重的后果,除草剂的成分绝大部分都游离存在于土壤中,经常导致 后茬作物出现药害,常表现为植株生长受抑制、整株枯死,最终产量显著下降。由于除草剂 的种类较多,药害症状特别是抑制生长或植株枯死的药害症状相似,因此,在生产上仅从植 株外观形态上较难准确判断是哪种除草剂产生的残留药害。本专利技术针对莠去津,建立了一 种准确、快速的鉴定方法,对于正确选择补救药剂具有重要意义。本专利技术方法中涉及利用 IMAGING-PAM早期检测具备科学、直观、快速、简单、可靠的优点
技术实现思路
为了克服上述现有技术的缺点与不足,本专利技术的首要目的在于提供一种莠去津残 留药害的快速鉴定方法。该方法能快速、有效且不受浓度限制地鉴定作物体内莠去津的残 留药害影响,特别是对作物光合作用的影响。 本专利技术另一目的在于提供上述方法在农田作物、土壤和水体中莠去津残留药害早 期鉴定中的应用。 本专利技术的目的通过下述方案实现: -种莠去津残留药害的快速鉴定方法,该方法通过检测作物叶绿素荧光强度变化 进行鉴定。 本专利技术方法通过检测作物前后两次的荧光强度变化进行鉴定,前后两次检测的时 间间隔不小于24h。 本专利技术方法优选利用IMAGING-PAM检测仪检测作物叶绿素荧光强度变化进行鉴 定。 所述作物优选为黄瓜或豇豆。 所述检测的部位优选为叶片或茎基部。 所述的叶绿素荧光强度优选指光合参数最大光合效率(Fv/Fm)和实际光合效率 (ΠΙ)。 上述方法具体包括以下步骤: 直接检测待测作物前后两次的叶绿素荧光强度,比较前后两次的光合参数最大光 合效率(Fv/Fm)和实际光合效率(YII),鉴定待测作物的莠去津残留药害。 或将无药害作物种子,播种于待测土壤中,培养至作物长出叶片,检测作物前后两 次的叶绿素荧光强度,比较前后两次的光合参数最大光合效率(Fv/Fm)和实际光合效率 (YII),鉴定待测作物的莠去津残留药害。 或将无药害作物种子,播种于待测水中,培养至作物长出叶片,检测作物前后两 次的叶绿素荧光强度,比较前后两次的光合参数最大光合效率(Fv/Fm)和实际光合效率 (YII),鉴定待测作物的莠去津残留药害。 前后两次检测的时间间隔不小于24h。 上述的培养至作物长出叶片优选为培养5天。 所述叶绿素荧光强度优选通过IMAGING-PAM检测仪进行检测得到。 为了获得更合适的光强,测定Fv/Fm时,所述工艺条件优选为:先照射一个光强小 于1 μ moL · m 2 · s 1的测量光,再照射饱和脉冲光10000 μ moL · m 2 · s 1O 为了获得更合适的光强,测定YII时,所述工艺条件优选为:内源光化光为 133 μ moL · m 2 · s、 所述的无药害作物种子优选在播种前预先催芽露白至0. 5~1cm。 所述培养优选在光照培养箱中进行,温度优选为28/25Γ (白天/晚上)。 Fv/Fm反映了植物潜在的最大光合作用能力;YII反映了植物实际光合能力的大 小。当Fv/Fm和YII均出现下降时,可鉴定作物受到药害,且受害程度越严重,下降越明显, 说明其生长环境中莠去津的浓度越高。且,本专利技术方法鉴定药害的最低浓度为0. 09ppm,相 比目测药害鉴定的浓度的0. 9ppm,检测下限更低,具有简便、快速、准确特点,可以作为农田 作物、土壤和水体中是否存在莠去津残留药害诊断的一种新手段。 普通目测鉴定莠去津药害的现象一般为:作物下胚轴逐渐出现失绿,下胚轴近生 长点部位出现断裂,且从作物受到药害到出现上述药害现象至少需要10~11天。而本发 明方法时间短,对于农田作物,只需监测1天前后的荧光强度即可鉴定得到结果,对于未栽 种作物土壤或水体,只需6天即可鉴定其药害。 本专利技术相对于现有技术,具有如下的优点及有益效果: (1)本专利技术方法操作简便、结果可靠。 (2)本专利技术鉴定结果速度快,且鉴定下限低,可快速、准确鉴定药害。【附图说明】 图1为不同浓度莠去津处理5天对黄瓜下胚轴及根长的影响。 图2为不同浓度莠去津处理5天对黄瓜最大光合效率的影响。 图3为不同浓度莠去津处理5天对黄瓜实际光合效率的影响。 图4为不同浓度莠去津处理11天对黄瓜最大光合效率的影响。 图5为不同浓度莠去津处理11天对黄瓜实际光合效率的影响。 图6为不同浓度莠去津处理11天对豇豆下胚轴及根长的影响。 图7为不同浓度莠去津处理11天对豇豆最大光合效率的影响。 图8为不同浓度莠去津处理11天对豇豆实际光合效率的影响。【具体实施方式】 下面结合实施例和附图对本专利技术作进一步详细的描述,但本专利技术的实施方式不限 于此。 实施例1 (1)将消毒后无药害黄瓜种子放入种子发芽盒中,置于28~30°C的生化培养箱中 进行催芽,直至作物发芽芽长约〇. 5~lcm,取出备用。 (2)莠去津梯度浓度溶液的配置:利用常规完全营养液配置不同浓度梯度的莠去 津溶液 〇· 009mg a. i. /L、0. 09mg a. i. /L、0. 45mg a. i. /L、0. 9mg a. i. /L、I. 8mg a. i. /L。 (3)分别取IOOmL不同浓度的莠去津溶液,加入5粒发芽种子,空白培养液为对照, 置于光照培养箱中培养,培养条件:温度为白天/晚上:28/25°C,光照周期为:12h/12h,光 照强度为3500~40001x。 (4)培养5天后,将作物幼苗从光照培养箱中取出后暗适应15~20min,然后放入 测定箱中,采用IMAGING-ΡΑΜ检测仪测定作物叶片和茎基部荧光参数PS II最大光合效率 (Fv/Fm)、PS II实际光合效率(YII),得到最低检测下限0· 09ppm。 实施例2 (1)将消毒后无药害黄瓜种子放入种子发芽盒中,置于28~30°C的生化培养箱中 进行催芽,直至作物发芽芽长约〇. 5~lcm,取出备用。 (2)莠去津梯度浓度溶液的配置:利用完全营养液配置不同浓度梯度的莠去津溶 液 0· 009mg a. i. /L、0. 09mg a. i. /L、0. 45mg a. i. /L、0. 9mg a. i. /L、L 8mg a. i. /L0 (3)分别取IOOmL不同浓度的溶液,加入5颗发芽种子,置于光照培养箱中培养,两 组四个重复,一组培养5天,一组培养11天,培养条件:温度为白天/晚上:28/25°C,光照周 期为:12h/12h,光照强度为3500~40001x。 (4)分别培养5天和11天后,将作物幼苗从光照培养箱中取出后,量取根长,下胚 轴长度,并观察植株生长状况,暗适应15~20min,然后放入测定箱中,采用IMAGING-P本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种莠去津残留药害的快速鉴定方法,其特征在于该方法通过检测作物叶绿素荧光强度变化进行鉴定。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨彩宏冯莉田兴山岳茂峰崔烨张纯
申请(专利权)人:广东省农业科学院植物保护研究所
类型:发明
国别省市:广东;44

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