检测装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种检测装置，包括一均光元件、多个检测电极及一感光元件。均光元件具有一腔室，腔室具有一入光口及一出光口，入光口小于出光口。形成腔室的一内表面定义有一反射区及一散射区。内表面具有一中心轴及一最短曲线。最短曲线以中心轴为旋转轴旋转360度而形成内表面。最短曲线上的各点位置至一基准点的距离为r。最短曲线上的各点位置至基准点的连线与一基线的夹角为最短曲线与基线及基准点之间的关系符合及的条件。检测电极设置于入光口，感光元件设置于出光口。

【技术实现步骤摘要】
检测装置
本专利技术涉及一种检测装置，特别是一种检测待测光源特性的检测装置。
技术介绍
在制造发光电子元件之后，通常需要对发光电子元件进行检测。若是有不符合标准的发光电子元件，则可通过此检测行为加以淘汰，以确保诸多发光电子元件中没有故障的元件，也可确保此些发光电子元件的发光表现能够达到预期的标准。目前有业者利用积分球检测发光电子元件的光学特性。然而，在同时大量检测发光电子元件时，必须微型化积分球才能达成。而微型化的积分球容易造成检测时光学特性的误差。
技术实现思路
有鉴于以上的问题，本专利技术提出一种检测装置，用于在大量检测待测光源时，能够取得较小误差的光学特性。本专利技术公开一种检测装置，用以测量一待测光源。检测装置包括一均光元件、多个检测电极及一感光元件。均光元件具有一腔室。腔室具有一入光口及一出光口，入光口小于出光口。形成腔室的一内表面定义有一反射区及一散射区。内表面具有一中心轴。内表面于入光口的一入光端缘具有一第一端点。内表面于出光口的一出光端缘具有一第二端点。内表面从第一端点延伸至第二端点具有一最短曲线。最短曲线以中心轴为旋转轴旋转360度而形成内表面。最短曲线具有一基线及位于基线一端的一基准点。最短曲线上的各点位置至基准点的距离为r。最短曲线上的各点位置至基准点的连线与基线的夹角为第一端点至基准点的连线与基线的夹角为第二端点至基准点的连线与基线的夹角为最短曲线与基线及基准点之间的关系符合φout≤φ≤φin、及的条件。其中最短曲线上的各点位置远离基准点及基线的程度为f。基线所在的一直线与中心轴的夹角为θr。基准点至中心轴的垂直距离为y0。基准点至入光口所在平面的垂直距离为z0。第一端点至中心轴的垂直距离为Rin。第二端点至中心轴的垂直距离为Rout。入光口至出光口的最短距离为L。arctan为反正切函数。检测电极设置于入光口，且用以供电至待测光源。感光元件设置于出光口。根据本专利技术的检测装置，能够通过反射区的配置及内表面的形状，在检测装置的尺寸不致过大便能令待测光源的光线从入光口顺利引导至出光口，且通过散射区的配置令被引导致出光口的光线能够均匀分布。因此，即使利用多个检测装置同时检测大量的待测光源，感光元件也能够检测到均匀且强度充足的待测光源的光线，而能够取得较小误差的待测光源的光学特性。以上的关于本
技术实现思路
的说明及以下的实施方式的说明用以示范与解释本专利技术的精神与原理，并且提供本专利技术的权利要求保护范围更进一步的解释。附图说明图1为依照本专利技术的实施例的检测装置检测由工作台承载的待测光源的立体示意图。图2为图1的检测装置、待测光源及工作台的侧视剖面图。图3为图2中沿III-III线剖面的俯视剖面图。图4为图2的内表面的侧视示意图。图5为依照本专利技术的另一实施例的均光元件的侧视剖面图。图6为依照本专利技术的另一实施例的检测装置、待测光源及工作台的侧视剖面图。图7为图6中沿VII-VII线剖面的俯视剖面图。图8为图6的局部放大的侧视剖面图。图9为依照本专利技术的另一实施例的检测装置、待测光源及工作台的侧视剖面图。图10、图11、图12、图13及图14为依照本专利技术的另一实施例的均光元件的内表面的侧视剖面示意图。具体实施方式以下在实施方式中详细叙述本专利技术的详细特征以及优点，其内容足以使任何本领域中具通常知识者了解本专利技术的
技术实现思路
并据以实施，且根据本说明书所公开的内容、权利要求保护范围及附图，任何本领域中具通常知识者可轻易地理解本专利技术相关的目的及优点。以下的实施例进一步详细说明本专利技术的观点，但非以任何观点限制本专利技术的范畴。请参照图1，其依照本专利技术实施例的检测装置10检测由工作台3承载的待测光源2的立体示意图。检测装置10用以测量待测光源2。多个检测装置10能够排列成阵列而形成一检测系统1，以利同时检测由工作台3承载的多个待测光源2。待测光源2能够为发光二极管(LED)等发光电子元件。请参照图2及图3，图2是图3的检测装置10、待测光源2及工作台3的侧视剖面图，图3是图2中沿III-III线剖面的俯视剖面图。检测装置10包括一均光元件11、一第一检测电极121、一第二检测电极122及一感光元件13。均光元件11具有一腔室110。腔室110具有一入光口110a及一出光口110b。入光口110a小于出光口110b。形成腔室110的一内表面1100定义有一反射区1100a及一散射区1100b。第一检测电极121及第二检测电极122皆设置于入光口110a，且用以供电至由工作台3承载的待测光源2的二个电极2a、2b。第一检测电极121及第二检测电极122可通过金属拉线的方式制成。感光元件13设置于出光口110b。于本实施例中，反射区1100a相邻于入光口110a，散射区1100b相邻于出光口110b。散射区1100b的面积占内表面1100的面积的比例为60％以上且小于100％。或者，散射区1100b投影至中心轴C的长度占内表面1100投影至中心轴C的长度的比例为60％以上且小于100％。此时，从出光口110b离开的光线的均匀度达60％以上。反射区1100a能够将足够的光线反射至散射区1100b及出光口110b，散射区1100b能将光线散射得较为均匀。因此，设置于出光口110b的感光元件13能够获得充足且均匀的光线，而使感光元件13所取样的数据较能准确反应待测光源2的情况。请参照图2及图4，图4是图2的内表面1100的侧视示意图。内表面1100具有一中心轴C。内表面1100于入光口110a的位置具有一入光端缘1100c，入光端缘1100c具有一第一端点P1。内表面1100于出光口110b的位置具有一出光端缘1100d，出光端缘1100d具有一第二端点P2。内表面1100从第一端点P1延伸至第二端点P2具有一最短曲线B。最短曲线B以中心轴C为旋转轴旋转360度而形成内表面1100。最短曲线B具有一基线Lb及位于基线Lb一端的一基准点Pb。最短曲线B上的各点位置Pe至基准点Pb的距离为r。最短曲线B上的各点位置Pe至基准点Pb的连线与基线Lb的夹角为第一端点P1至基准点Pb的连线与基线Lb的夹角为第二端点P2至基准点Pb的连线与基线Lb的夹角为最短曲线B与基线Lb及基准点Pb之间的关系符合φout≤φ≤φin、及的条件。其中，最短曲线B上的各点位置Pe远离基准点Pb及基线Lb的程度为f，程度f愈大表示愈远。基线Lb所在的一直线Lb’与中心轴C的夹角为θr。基准点Pb至中心轴C的垂直距离为y0。基准点Pb至入光端缘1100c所在平面Sin的垂直距离为z0。第一端点P1至中心轴C的垂直距离为Rin。第二端点P2至中心轴C的垂直距离为Rout。入光端缘1100c至出光端缘1100d的最短距离为L。基准点Pb位于中心轴C时，距离y0为零。基准点Pb位于中心轴C及最短曲线B之间时，距离y0为正。中心轴C位于基准点Pb及最短曲线B之间时，距离y0为负。基准点Pb位于入光端缘1100c所在平面Sin时，距离z0为零。入光端缘1100c所在的平面Sin位于基准点Pb及出光端缘1100d所在的平面Sout之间时，距离z0为正。基准点Pb位于入光端缘1100c所在的平面Sin及出光端缘1100d所在的平面Sout之间时，距离z0为负。基线Lb平行于中心轴本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检测装置，用以测量一待测光源，该检测装置包括：一均光元件，具有一腔室，该腔室具有一入光口及一出光口，该入光口小于该出光口，形成该腔室的一内表面定义有至少一反射区及至少一散射区，该内表面具有一中心轴，该内表面于该入光口的一入光端缘具有一第一端点，该内表面于该出光口的一出光端缘具有一第二端点，该内表面从该第一端点延伸至该第二端点具有一最短曲线，该最短曲线以该中心轴为旋转轴旋转360度而形成该内表面，该最短曲线具有一基线及位于该基线一端的一基准点，该最短曲线上的各点位置至该基准点的距离为r，该最短曲线上的各点位置至该基准点的连线与该基线的夹角为该第一端点至该基准点的连线与该基线的夹角为该第二端点至该基准点的连线与该基线的夹角为且该最短曲线与该基线及该基准点之间的关系符合以下条件：以及其中，该最短曲线上的各点位置远离该基准点及该基线的程度为f，该基线所在的一直线与该中心轴的夹角为θr，该基准点至该中心轴的垂直距离为y0，该基准点至该入光端缘所在平面的垂直距离为z0，该第一端点至该中心轴的垂直距离为Rin，该第二端点至该中心轴的垂直距离为Rout，该入光端缘至该出光端缘的最短距离为L；多个检测电极，设置于该入光口，且用以供电至该待测光源；以及一感光元件，设置于该出光口。...

【技术特征摘要】
2014.12.24 TW 103145307;2014.04.11 US 61/978,5641.一种检测装置，用以测量一待测光源，该检测装置包括：一均光元件，具有一腔室，该腔室具有一入光口及一出光口，该入光口小于该出光口，形成该腔室的一内表面定义有至少一反射区及至少一散射区，该内表面具有一中心轴，该内表面于该入光口的一入光端缘具有一第一端点，该内表面于该出光口的一出光端缘具有一第二端点，该内表面从该第一端点延伸至该第二端点具有一最短曲线，该最短曲线以该中心轴为旋转轴旋转360度而形成该内表面，该最短曲线具有一基线及位于该基线一端的一基准点，该最短曲线上的各点位置至该基准点的距离为r，该最短曲线上的各点位置至该基准点的连线与该基线的夹角为该第一端点至该基准点的连线与该基线的夹角为该第二端点至该基准点的连线与该基线的夹角为且该最短曲线与该基线及该基准点之间的关系符合以下条件：以及其中，该最短曲线上的各点位置远离该基准点及该基线的程度为f，该基线所在的一直线与该中心轴的夹角为θr，该基准点至该中心轴的垂直距离为y0，该基准点至该入光端缘所在平面的垂直距离为z0，该第一端点至该中心轴的垂直距离为Rin，该第二端点至该中心轴的垂直距离为Rout，该入光端缘至该出光端缘的最短距离为L；多个检测电极，设置于该入光口，且用以供电至该待测光源；以及一感光元件，设置于该出光口。2.如权利要求1所述的检测装置，还包括一基板，设置于该均光元件及该多个检测电极之间。3.如权利要求2所述的检测装置，其中该基板具有一贯通孔，该贯通孔对应于该入光口。4.如权利要求3所述的检测装置，还包括一反射层，设置于该贯通孔的侧壁面。5.如权利要求2所述的检测装置，其中该基板沿该中心轴方向的厚度小于0.3mm。6.如权利要求2所述的检测装置，其中该待测光源沿垂直于该中心轴方向的宽度为Wy，该些检测电极沿该中心轴方向的最大厚度为T1，该基板沿该中心轴方向的厚度为T2，欲检测该待测光源所发出光线的一范围的边缘至该中心轴的角度为θ1，该待测光源沿该范围的边缘...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈銮英，郑陈嵚，陈于堂，陈奕均，彭耀祈，林晃岩，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71