一种中高温槽式集热铝基反射膜的制备方法技术

技术编号:12059662 阅读:100 留言:0更新日期:2015-09-17 09:52
本发明专利技术公开了一种中高温槽式集热铝基反射膜的制备方法,步骤如下:a、对铝基材进行清洗;b、进行钝化;c、再清洗;d、烘干;e、磁控溅射镀膜机与银靶、硅靶,抽真空至5×10-3Pa,在真空室加氩气维持压强3×10-1Pa,启银靶溅射五分钟镀膜厚100纳米,停银靶启硅靶溅射十分钟镀膜厚50纳米;f、包覆静电保护膜后包装成品。本发明专利技术的有益效果是,采用小尺寸单体镀膜工艺,更有利于高真空、高温镀膜,可根据工程情况截取相应尺寸基板进行镀膜和保护,膜层发射率可达到94%左右,重量轻,使用寿命长,适合小型槽式聚光反射板,主要应用于中温集热。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于铝材镀膜领域,具体涉及了一种中高温槽式集热铝基反射膜的制备方 法。
技术介绍
根据太阳能中高温集热系统发展的现状,各种集热和储热元件得到广泛的应用, 其中槽式集热器的聚光反射膜在整个系统中起到很重要的作用,根据材质情况,现有反射 板可分为低铁钢化玻璃镀膜、铝基镀膜反射板、不锈钢抛光板以及镀银高分子聚合物薄膜 四种原材料,钢化玻璃反射板价高,重量大,基础要求严格,除非在大型槽式集热系统中。而 不锈钢抛光板反射率不高,基本采用的很少。高分子聚合材料是最近几年从国外引进的高 反射率镀膜材料,其反射率的高低受覆膜工艺的影响较大,并且会出现膜层剥离的现象。因 此急需造价低,质量好的铝基镀膜反射板。
技术实现思路
本专利技术为了克服现有技术的不足,设计了一种中高温槽式集热铝基反射膜的制备 方法。 本专利技术采用的技术方案是,,其特征 在于:所述的制备方法的步骤如下: a、对铝基材进行清洗; b、进行钝化; c、再清洗; d、烘干; e、磁控溅射镀膜机与银靶、硅靶,抽真空至5X KT3Pa,在真空室加氩气维持压强 3 X KT1Pa,启银靶溅射五分钟镀膜厚100纳米,停银靶启硅靶溅射十分钟镀膜厚50纳米; f、包覆静电保护膜后包装成品。 本专利技术的有益效果是,采用小尺寸单体镀膜工艺,更有利于高真空、高温镀膜,可 根据工程情况截取相应尺寸基板进行镀膜和保护,膜层发射率可达到94 %左右,重量轻,使 用寿命长,适合小型槽式聚光反射板,主要应用于中温集热。集中表现在: 1、铝基板,重量轻,抗氧化,表面光滑,可根据工程情况裁剪尺寸和弯折任意角度 和弧度。 2、银反射镀膜:银反射膜层的反射率可达到99. 2%,反射率高,和铝基板结合好。 3、氧化硅镀膜:硬度高,耐磨损,抗腐蚀,耐高温且不易传热,本身具有润滑性,透 光率高。【具体实施方式】 本专利技术在具体实施时, -种中高温槽式集热铝基反射膜的制备方法,其特征在于:所述的制备方法的步 骤如下: a、对铝基材进行清洗; b、进行钝化; c、再清洗; d、烘干; e、磁控溅射镀膜机与银靶、硅靶,抽真空至5X KT3Pa,在真空室加氩气维持压强 3 X KT1Pa,启银靶溅射五分钟镀膜厚100纳米,停银靶启硅靶溅射十分钟镀膜厚50纳米; f、包覆静电保护膜后包装成品。 所述的a步骤中,清洗方式先超声波清洗30分钟,再冲洗5分钟。 所述的b步骤中,钝化的时间为6分钟。 铝基材清洗(超声波清洗30分钟)一冲洗一钝化五分钟一冲洗一烘干一镀膜一 覆保护膜(静电膜)一包装。 通过以上数据证明铝基反射膜的反射率最高。【主权项】1. ,其特征在于:所述的制备方法的步骤 如下: a、 对铝基材进行清洗; b、 进行钝化; c、 再清洗; d、 烘干; e、 磁控溅射镀膜机与银靶、硅靶,抽真空至5XKT3Pa,在真空室加氩气维持压强 3XKT1Pa,启银靶溅射五分钟镀膜厚100纳米,停银靶启硅靶溅射十分钟镀膜厚50纳米; f、 包覆静电保护膜后包装成品。2. 根据权利要求1所述的,其特征在于: 所述的a步骤中,清洗方式先超声波清洗30分钟,再冲洗5分钟。3. 根据权利要求1所述的,其特征在于: 所述的b步骤中,钝化的时间为6分钟。【专利摘要】本专利技术公开了,步骤如下:a、对铝基材进行清洗;b、进行钝化;c、再清洗;d、烘干;e、磁控溅射镀膜机与银靶、硅靶,抽真空至5×10-3Pa,在真空室加氩气维持压强3×10-1Pa,启银靶溅射五分钟镀膜厚100纳米,停银靶启硅靶溅射十分钟镀膜厚50纳米;f、包覆静电保护膜后包装成品。本专利技术的有益效果是,采用小尺寸单体镀膜工艺,更有利于高真空、高温镀膜,可根据工程情况截取相应尺寸基板进行镀膜和保护,膜层发射率可达到94%左右,重量轻,使用寿命长,适合小型槽式聚光反射板,主要应用于中温集热。【IPC分类】C23C14/35【公开号】CN104911557【申请号】CN201510390104【专利技术人】司红庆, 张少宁, 张连君 【申请人】圣春新能源科技有限公司【公开日】2015年9月16日【申请日】2015年7月6日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种中高温槽式集热铝基反射膜的制备方法,其特征在于:所述的制备方法的步骤如下:a、对铝基材进行清洗;b、进行钝化;c、再清洗;d、烘干;e、磁控溅射镀膜机与银靶、硅靶,抽真空至5×10‑3Pa,在真空室加氩气维持压强3×10‑1Pa,启银靶溅射五分钟镀膜厚100纳米,停银靶启硅靶溅射十分钟镀膜厚50纳米;f、包覆静电保护膜后包装成品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:司红庆张少宁张连君
申请(专利权)人:圣春新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:河北;13

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