等离子体处理玉米种子及配套栽培方法技术

本发明专利技术公开了一种等离子体处理玉米种子及配套栽培方法，本发明专利技术方法适宜于在北纬33°－40°、海拔700－1300米的生态区内使用。本发明专利技术的等离子体处理玉米种子的方法是采用大连博事等离子体有限公司生产的DL-2型等离子体处理机，处理剂量为1.6－2.0A，处理两次，种子流量为5.0－5.5kg/min，处理后6-12天内播种。配套本发明专利技术的栽培方法是（1）选择适宜的生育期品种；（2）合理施肥；（3）适时浇水。采用本发明专利技术的方法相比现有技术能提高玉米的单位面积产量30%以上；可节省地膜覆盖投入每亩90元；可拓宽玉米栽培的区域范围，提高生态资源的利用率，同样地力和栽培管理成本的地块，较种植杂粮莜麦每亩增收700多元。本发明专利技术是一项实用性很强的玉米增产技术。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种，本专利技术方法适宜于在北纬33°－40°、海拔700－1300米的生态区内使用。本专利技术的等离子体处理玉米种子的方法是采用大连博事等离子体有限公司生产的DL-2型等离子体处理机，处理剂量为1.6－2.0A，处理两次，种子流量为5.0－5.5kg/min，处理后6-12天内播种。配套本专利技术的栽培方法是（1）选择适宜的生育期品种；（2）合理施肥；（3）适时浇水。采用本专利技术的方法相比现有技术能提高玉米的单位面积产量30%以上；可节省地膜覆盖投入每亩90元；可拓宽玉米栽培的区域范围，提高生态资源的利用率，同样地力和栽培管理成本的地块，较种植杂粮莜麦每亩增收700多元。本专利技术是一项实用性很强的玉米增产技术。【专利说明】
本专利技术涉及玉米栽培
，具体涉及应用DL-2型等离子体处理玉米种子以及采用配套的栽培管理措施，从而达到丰产的目的。
技术介绍
等离子体是物质存在的一种状态。它是物质固体状态、液体状态、气体状态之后的第四种状态一等离子体状态。1929年科学家第一次引入“等离子体”这个名称，等离子体学科成为一门年轻的学科。等离子体技术在农业上的应用属于刚刚开始，它开辟了等离子体应用的一个新领域，也为农业增产创造了新的途径。等离子体种子处理技术的机理是通过等离子体发出的各种能量作用于种子，激发种子的潜能、提高种子的活力、增强种子的健壮度，作物生长能力得到提升。经过处理的种子更加健壮，提高种子批的整体品质，种子个体之间的差异缩小，特别是出苗率和幼苗的整齐度明显提高。试验结果表明，种子经过等离子体处理后，种子内部的活力增强，促使发芽势提高。尽管在理论上等离子体处理种子的效果是可预期的，也有一些在生产上应用的报道。然而，迄今等离子体处理种子的应用技术还不成熟，在生产上实践中并没有得到推广。其中的原因可能很多，但是，根本问题还是对等离子体处理种子的细节研究的不足。
技术实现思路
本专利技术的目是针对现有技术的不足，提供一种，本专利技术方法适宜于在北纬33° — 40°、海拔700 — 1300米的生态区内使用。采用本专利技术的方法，因等离子体处理后的玉米种子具有明显的提早成熟的特性，因此，可在原有的生态区种植生育期更长的品种或种植原有生育期的品种时不需要使用地膜，可进一步拓宽经济性好的玉米栽培区域，特别是能够显著提高玉米的单位面积产量，降低玉米生产成本，增加农业生产收入。 为实现上述目的，本专利技术是通过以下技术方案实现的。 本专利技术的，包括:(O等离子体处理种子采用大连博事等离子体有限公司生产的DL-2型等离子体处理机，处理剂量为1.6 — 2.0A，处理两次，种子流量为5.0 — 5.5kg/min，处理后6_12天内播种；(2)选择适宜的生育期品种在相同的生态区不改变栽培方式时，选择较常用生育期品种长15 - 20天左右的品种；或在相同的生态区不改变栽培方式时，选择常用生育期品种，但要延迟播种15 — 20天；或在原需要覆盖地膜才能成熟的生态区，选择常用生育期品种，不改变播种期，不需再覆盖地膜；(3)合理施肥播前施足长效的氮、磷、钾复合肥，生长期在株高115— 120cm时追施氮肥15公斤/亩，在灌浆阶段追施氮肥10公斤/亩；(4)适时浇水在生长期和灌浆阶段，如果发生干旱应及时浇水。 采用大连博事等离子体有限公司生产的DL-2型等离子体处理机处理玉米种子的方法已有报道并不少见，但是，绝大多数报道是对处理剂量和处理次数的试验研究，而忽视了玉米种子在该设备上处理时流量对处理效果的作用，从而得出等离子体处理机处理玉米种子效果不稳定的结论，使该项新型农业增产技术未能得到推广应用。 专利技术人经过多年大量的试验研究后发现，采用大连博事等离子体有限公司生产的DL-2型等离子体处理机处理玉米种子时，除等离子体处理的剂量和次数外，等离子体处理过程中的种子流量是关键因素，流量大小决定玉米处理的整体效果，即玉米种子在处理后每粒种子获得剂量的一致性，只有获得剂量是一致的，才能说是处理好了。等离子体的产生是有一定速度的，在一定的功率条件下，不可能在耀室内无限制的通过玉米种子的量，都能达到满足玉米种子处理的等离子体应有的密度条件。 研究还发现等离子体处理玉米的剂量大小造成的后果与栽培地的生产条件有密切的关系，生产条件好的环境，处理的剂量应低一点，生产条件差的环境处理剂量应大一点。从理论上推测，处理剂量的增大有利于提高玉米的抗逆性和适应性。 综合采用DL-2型等离子体处理机处理玉米种子的剂量、种子流量和次数三个因素，经过大量的试验总结出的结论是，处理剂量为1.6 — 2.0A,种子流量为5.0 — 5.5kg/min,处理两次效果最佳。 采用本专利技术的等离子体机处理玉米种子后，除有效地发挥出等离子体种子处理种子技术的机理、显著提高玉米的单位面积产量外，最为突出的变化表现为显著的早熟特性，即在相同的生态区、相同的栽培方式下可提早成熟15 - 25天。 由于本专利技术方法造成玉米的早熟特性，使得在栽培管理上就需要对现有技术进行改进。体现在:(1)在相同的生态区域下，种植生育期较长的品种:a、能确保玉米在大温差条件下灌浆成熟，降低自身消耗，增加光合产物积累，促进玉米籽粒的生长，使籽粒长度提高，成熟度提高，大幅提高产量山、充分利用自然界的光能水气热，增加光合产物积累，生育期长的品种，一般而言，生产水平较高。所以，在相同的生态区域要更换生育期较长的品种，应选择较常用品种生育期长15天以上的品种，充分发挥品种的生产力水平，进一步提高产量；(2)在相同的生态区域下，为种植丰产性能更好的生育期较长的品种，这些品种在部分生态区域必须采用地膜覆盖才能成熟，这已成为玉米增产的主要措施之一；但是，经过本专利技术方法处理后，在仍然延用相同品种时，不改变播种期，不再覆盖地膜播种也能成熟并表现出丰产性。可大幅度降低种植玉米的生产成本；(3)玉米是生态资源利用产出率较高的作物，在本专利技术方法适宜的生态区内，种植玉米是经济效益较好的作物。对原来即使采用特早熟品种也无法成熟的生态区域，采用本专利技术的方法处理特早熟品种后播种能够成熟了，因此，相当于拓宽了玉米栽培的区域范围，提高了生态资源的利用率；(4)经过本专利技术方法处理后的玉米，增强了种子的活力，提高了种子的发芽势，改变了一些代谢机制，促进了玉米早熟，因此，配套的栽培管理措施上不能延用现有的促控相结合的方法，而改进为一促到底的管理措施。在合理施肥方面，播前就应施足长效的氮、磷、钾复合肥，在株高115 — 120cm时追施氮肥15公斤/亩，在灌衆阶段如叶色淡追施氮肥10公斤/亩。提高玉米的叶绿素含量，确保玉米在用等离子体处理后光合效率提高的作用达到最佳，提高光合效率，提高作物单产。在浇水方面，当生长期和灌浆阶段，如果发生干旱应及时浇水。上述肥水管理措施归结为一点就是为了获得丰产高产，在玉米生长的关键时期保证不能出现缺肥、缺水状况。 本专利技术的有益效果采用本专利技术的方法相比现有技术具有的优点是:由于本专利技术方法造成玉米的早熟特性，对经过本专利技术方法处理的玉米种子，采用本专利技术配套的栽培措施后:(I)采用相同的品种时，试验表明，无论水浇地还是旱地，均能稳定提高玉米的单位面积产量，单位面积产本文档来自技高网...

【技术保护点】
等离子体处理玉米种子及配套栽培方法，其特征在于，等离子体处理种子　的方法是：采用大连博事等离子体有限公司生产的DL‑2型等离子体处理机，处理剂量为1.6－2.0A，处理两次，种子流量为5.0－5.5kg/min，处理后6‑12天内播种； 与等离子体处理种子配套的栽培方法是：（1）选择适宜的生育期品种　在相同的生态区不改变栽培方式时，选择较常用生育期品种长15－20天左右的品种；或在相同的生态区不改变栽培方式时，选择常用生育期品种，但要延迟播种15－20天；或在原需要覆盖地膜才能成熟的生态区，选择常用生育期品种，不改变播种期，不需再覆盖地膜；（2）合理施肥　播前施足长效的氮、磷、钾复合肥，生长期在株高115－120cm时追施氮肥15公斤/亩，在灌浆阶段追施氮肥10公斤/亩； （3）适时浇水　在生长期和灌浆阶段，如果发生干旱应及时浇水。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李永青，郭海荣，郭沛荣，李香莲，赵忠爱，
申请(专利权)人：李永青，
类型：发明
国别省市：山西;14