一种多用型放置架，包括底座(1)、安装在底座(1)中心的支撑柱(2)、安装于支撑柱(2)上的上放置台(3)和下放置台(4)，所述的上放置台(3)上均布设有一圈用于放置晒制缸(5)的上定位座(6)，所述的下放置台(4)上分别均布设有两圈用于放置晒制缸(5)的下定位座(7)，位于外圈的下定位座(7)上方的上放置台(3)边缘开设有防止上放置台(3)遮挡放置在外圈下定位座(7)上的晒制缸(5)的避让槽(8)。该多用型放置架可同时放置多个晒制缸以减少占地面积。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种用于放置晒制缸的多用型放置架。
技术介绍
对于同一酱制品在生产过程中，针对不同的工序，所需太阳照射的程度各不相同，例如，有的工序需要暴晒，有的工序需要阴凉放置。而目前，对于酱制品的晒制，一般采用晒制缸来晒制。晒制时，无论是需要暴晒的还是需要阴凉放置的，晒制缸常采用紧挨平铺的方式放置在地面上或长的载物凳上，占地面积非常大。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是，提供一种可同时放置多个晒制缸以减少占地面积的多用型放置架。为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案为：包括底座、安装在底座中心的支撑柱、安装于支撑柱上的上放置台和下放置台，所述的上放置台上均布设有一圈用于放置晒制缸的上定位座，所述的下放置台上分别均布设有两圈用于放置晒制缸的下定位座，位于外圈的下定位座上方的上放置台边缘开设有防止上放置台遮挡放置在外圈下定位座上的晒制缸的避让槽。所述的上放置台的中心也安装有用于放置晒制缸的上定位座。所述的底座的底部安装有便于推动的滚轮，所述的滚轮一左一右对称安装在底座的底部。所述的上定位座和下定位座的结构、大小相同，均由钢质圈体构成，该钢质圈体靠近中心的顶端面设有用于支撑晒制缸底部的台阶面。本技术的晒制缸通过上放置台和下放置台的设置，可使晒制缸在上下两个平台上进行晒制，且在上放置台上开设避让槽后，加上下放置台内外圈下定位座的设置，位于避让槽下方的外圈下放置台上可以放置晒制缸以接收太阳的直射，可供需要暴晒的酱制品晒制，而内圈的下定位座可放置供需要阴凉放置的酱制品晒制缸放置，这样本技术的放置架则既可用于需要暴晒的酱制品的晒制，又可用于需要阴凉放置的酱制品放置，且放置架的上下放置台均可实现晒制缸的放置，充分利用了空间，可最大数量的实现晒制缸的放置，占地面积大大减少。进一步地，所述的上放置台的中心也安装有用于放置晒制缸的上定位座，充分利用上放置台的晒制面积，进一步实现了晒制缸最大数量的晒制。进一步地，所述的底座的底部安装有便于推动的滚轮，所述的滚轮一左一右对称安装在底座的底部，滚轮设置后，可方便推动整个多用型放置架，方便了搬运。进一步地，所述的上定位座和下定位座的结构、大小相同，均由钢质圈体构成，该钢质圈体靠近中心的顶端面设有用于支撑晒制缸底部的台阶面，台阶面设置后，可支撑晒制缸底部，使晒制缸底部牢牢定位在台阶面上，不会轻易移位。【附图说明】图I是本技术多用型放置架放置有晒制缸的结构示意图。图2是本技术多用型放置架放置有晒制缸的俯视结构示意图。图3是本技术定位座（即上定位座和下定位座）的结构示意图。本技术图中所示：1底座，2支撑柱，3上放置台，4下放置台，5晒制缸，6上定位座，7下定位座，8避让槽，9滚轮，10台阶面。【具体实施方式】下面结合附图对本技术做进一步的详细说明。如图所示，本技术的多用型放置架，包括底座1、安装在底座I中心的支撑柱2、安装于支撑柱2上的上放置台3和下放置台4。所述的上放置台3上均布设有一圈用于放置晒制缸5的上定位座6，在本实施例中，该圈上的上定位座的数量为四个，成90度均布。所述的下放置台4上分别均布设有两圈用于放置晒制缸5的下定位座7，其中一圈靠内设置，而另一圈靠外设置，该两圈上的下定位座的数量均为四个，每圈上的下定位座成90度均布设置，且内圈上的每个下定位座均位于外圈上相邻的两个下定位座之间。为使下放置台外圈上的晒制缸能实现暴晒，位于外圈的下定位座7上方的上放置台3边缘开设有防止上放置台3遮挡放置在外圈下定位座7上的晒制缸5的避让槽8。在本实施例中，所述的避让槽采用圆润度高的弧形槽，且加工也简单、方便。在本实施例中，所述的上放置台3的中心也安装有用于放置晒制缸5的上定位座6。所述的底座I的底部安装有便于推动的滚轮9，所述的滚轮9 一左一右对称安装在底座I的底部。所述的上定位座6和下定位座7的结构、大小相同，均由钢质圈体构成，该钢质圈体靠近中心的顶端面设有用于支撑晒制缸5底部的台阶面10。 本技术的多用型放置架因设置有上放置台和下放置台，可双层放置晒制缸，加上上放置台上避让槽的设置，可使下放置台外圈上的晒制缸实现暴晒，而内圈上的晒制缸因上放置台的遮挡，可实现晒制缸的阴凉放置。故本技术的多用型放置架既可用于酱制品的暴晒，又可用于酱制品的阴凉放置，还可充分利用空间，尽最大数量的放置晒制缸，减少了占地面积。【主权项】1.一种多用型放置架，其特征在于:包括底座(I)、安装在底座(I)中心的支撑柱(2)、安装于支撑柱(2)上的上放置台(3)和下放置台(4)，所述的上放置台(3)上均布设有一圈用于放置晒制缸(5)的上定位座(6)，所述的下放置台(4)上分别均布设有两圈用于放置晒制缸(5)的下定位座(7)，位于外圈的下定位座(7)上方的上放置台(3)边缘开设有防止上放置台(3)遮挡放置在外圈下定位座(7)上的晒制缸(5)的避让槽(8)。2.根据权利要求1所述的多用型放置架，其特征在于:所述的上放置台(3)的中心也安装有用于放置晒制缸(5)的上定位座(6)。3.根据权利要求1所述的多用型放置架，其特征在于:所述的底座(I)的底部安装有便于推动的滚轮(9)，所述的滚轮(9) 一左一右对称安装在底座(I)的底部。4.根据权利要求1所述的多用型放置架，其特征在于:所述的上定位座(6)和下定位座(7)的结构、大小相同，均由钢质圈体构成，该钢质圈体靠近中心的顶端面设有用于支撑晒制缸(5)底部的台阶面(10)。【专利摘要】一种多用型放置架，包括底座(1)、安装在底座(1)中心的支撑柱(2)、安装于支撑柱(2)上的上放置台(3)和下放置台(4)，所述的上放置台(3)上均布设有一圈用于放置晒制缸(5)的上定位座(6)，所述的下放置台(4)上分别均布设有两圈用于放置晒制缸(5)的下定位座(7)，位于外圈的下定位座(7)上方的上放置台(3)边缘开设有防止上放置台(3)遮挡放置在外圈下定位座(7)上的晒制缸(5)的避让槽(8)。该多用型放置架可同时放置多个晒制缸以减少占地面积。【IPC分类】A47G29-14【公开号】CN204580835【申请号】CN201520275259【专利技术人】李志良 【申请人】永新县枧田酱制品有限公司【公开日】2015年8月26日【申请日】2015年4月30日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种多用型放置架，其特征在于：包括底座(1)、安装在底座(1)中心的支撑柱(2)、安装于支撑柱(2)上的上放置台(3)和下放置台(4)，所述的上放置台(3)上均布设有一圈用于放置晒制缸(5)的上定位座(6)，所述的下放置台(4)上分别均布设有两圈用于放置晒制缸(5)的下定位座(7)，位于外圈的下定位座(7)上方的上放置台(3)边缘开设有防止上放置台(3)遮挡放置在外圈下定位座(7)上的晒制缸(5)的避让槽(8)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李志良，
申请(专利权)人：永新县枧田酱制品有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36
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