熔体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种熔体，包括呈片状设置的熔体本体，所述熔体本体上开设有若干散热孔，所述熔体本体的中部开设有熔断狭，其技术要点在于：所述熔体本体上还开设了熔断孔，所述熔断孔开设在熔断狭的一侧，所述熔断孔的面积为熔断狭的0.1~0.3倍，旨在提供一种熔断速度快的熔体。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种熔断体配件，更具体地说，它涉及一种熔体。
技术介绍
熔体是大功率熔体本体中用以监测电流量的重要部件，当流经熔体的电流过量时，熔体过热烧断从而断开电路，保证用电安全。熔体的中部通常开设并排的矩形熔断狭，从而保证在通过熔体的电流过高时，熔体能及时烧断，一般性的，在熔体上还均匀开设了散热孔用于降低或改善熔体本体的温升和功耗。目前，市场上的(申请号为CN201410379068.5的中国专利公开了一种熔断器)，它包括绝缘管体，绝缘管体内设置有熔体，所述熔体两端分别连接有接线端子，接线端子的接线端伸出绝缘管体，所述每个接线端子上分别套设有用于固定接线端子的定位垫片，每个定位垫片贴合在绝缘管体管口，所述绝缘管体上设置有压紧定位垫片并封闭绝缘管体管口的外端帽。上述专利公开了熔体的结构，通常为片状导电金属，其上开设了多个散热孔，然而这种熔体的结构比较均匀，在电流增加时，温度的上升与电流的增长并非同一速率，其中温度的上升速度略小于电流，两者之间存在时间差，所以导致在电流过载时，不能迅速、及时地断开，存在安全隐患。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种熔断速度快的熔体。为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案:一种熔体，包括呈片状设置的熔体本体，所述熔体本体上开设有若干散热孔，所述熔体本体的中部开设有熔断狭，其中:所述熔体本体上还开设了熔断孔，所述熔断孔开设在熔断狭的一侧，所述熔断孔的面积为熔断狭的0.1-0.3倍。通过采用上述技术方案，所述熔断狭侧面的熔断孔，增加了熔断狭处的电流密度，在过载电流过高时，其加速了熔体的冶金效应，确保了所述熔体可以及时熔断，有效提高了熔体的熔断反应速度，其安全性能较普通的熔体高出很多。本技术进一步设置为:所述熔断孔的面积为熔断狭的0.15倍。通过采用上述技术方案，经试验证明，在熔断孔面积为熔断狭的0.15倍时，熔体上的过载电流达到1.6倍即会发生熔断，熔体的熔断效果最佳。本技术进一步设置为:所述熔断狭远离熔断孔的侧边呈凹陷状设置。通过采用上述技术方案，所述熔断狭的长度变长，改善和提高了熔体本体的分断能力。本技术进一步设置为:所述散热孔设置为椭圆形，且散热孔的长轴指向熔断狭。通过采用上述技术方案，椭圆形的散热孔与通常的菱形、原形相比较，电流线更加均匀流畅，有利于熔体的散热，从而更好的降低、改善了熔体的温升和功耗。【附图说明】图1为本技术熔体实施例的结构示意图。附图标记:1、熔体本体；2、散热孔；3、熔断狭；4、熔断孔。【具体实施方式】参照图1对本技术熔体本体实施例做进一步说明。一种熔体，包括呈片状设置的熔体本体1，所述熔体本体I上开设有若干散热孔2，所述熔体本体的中部开设有熔断狭3，该熔断狭3即使熔体本体I上电流过载发生熔断的地方，其中:所述熔体本体I上还开设了熔断孔4，所述熔断孔4开设在熔断狭3的一侧，所述熔断孔4的面积为熔断狭3的0.1-0.3倍。上述结构的原理在于:所述熔断狭3侧面的熔断孔4，增加了熔断狭3处的电流密度，在过载电流过高时，其加速了熔体的冶金效应，确保了所述熔体可以及时熔断，有效提高了熔体的熔断反应速度，其安全性能较普通的熔体高出很多，且经试验证明，在熔断孔4面积为熔断狭3的0.1倍时，过载电流为额定过载电流的2.2倍，其熔断时间小于20毫秒，而熔断孔4面积为熔断狭3的0.3倍时，过载电流为过载电流的1.1倍，其熔断时间小于20毫秒，显著高出10倍额定电流熔断时间小于20毫秒的国际标准。优选的，所述熔断孔4的面积为熔断狭3的0.15倍。经试验证明，在熔断孔4面积为熔断狭3的0.15倍时，熔体上的过载电流达到1.6倍熔断时间即小于20毫秒，熔体的熔断效果最佳，既不会过快导致误断，又保证了熔断速度。本技术还设置了:所述熔断狭3远离熔断孔4的侧边设置为弧形。所述散热孔设置为椭圆形，且散热孔的长轴指向熔断狭3，所述熔断狭3的长度变长，改善和提高了熔体本体的分断能力；椭圆形的散热孔与通常的菱形、原形相比较，电流线更加均匀流畅，有利于熔体的散热，从而更好的降低、改善了熔体的温升和功耗。以上所述仅是本技术的优选实施方式，本技术的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本技术思路下的技术方案均属于本技术的保护范围。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。【主权项】1.一种熔体，包括呈片状设置的熔体本体，所述熔体本体上开设有若干散热孔，所述熔体本体的中部开设有熔断狭，其特征在于:所述熔体本体上还开设了熔断孔，所述熔断孔开设在熔断狭的一侧，所述熔断孔的面积为熔断狭的0.1-0.3倍。2.根据权利要求1所述的熔体，其特征在于:所述熔断孔的面积为熔断狭的0.15倍。3.根据权利要求1所述的熔体，其特征在于:所述熔断狭远离熔断孔的侧边呈凹陷状设置。4.根据权利要求1所述的熔体，其特征在于:所述散热孔设置为椭圆形，且散热孔的长轴指向熔断狭。【专利摘要】本技术公开了一种熔体，包括呈片状设置的熔体本体，所述熔体本体上开设有若干散热孔，所述熔体本体的中部开设有熔断狭，其技术要点在于：所述熔体本体上还开设了熔断孔，所述熔断孔开设在熔断狭的一侧，所述熔断孔的面积为熔断狭的0.1~0.3倍，旨在提供一种熔断速度快的熔体。【IPC分类】H01H85-11【公开号】CN204558407【申请号】CN201520300509【专利技术人】黄旭雄 【申请人】温州三实电器有限公司【公开日】2015年8月12日【申请日】2015年5月9日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种熔体，包括呈片状设置的熔体本体，所述熔体本体上开设有若干散热孔，所述熔体本体的中部开设有熔断狭，其特征在于：所述熔体本体上还开设了熔断孔，所述熔断孔开设在熔断狭的一侧，所述熔断孔的面积为熔断狭的0.1~0.3倍。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄旭雄，
申请(专利权)人：温州三实电器有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33