一种P型太阳能电池片制造技术

技术编号:11891390 阅读:105 留言:0更新日期:2015-08-14 21:00
本实用新型专利技术提供一种P型太阳能电池片,P型硅片、PN结、N型硅片及电极,其特征在于:所述P型硅片具有正面和背面,正面上设有多晶绒面结构,背面为平面结构,所述PN结和所述N型硅片依次镀在所述P型硅片正面上,所述电极依次穿过P型硅片、PN结和N型硅片形成电极回路,所述P型硅片的厚度为150微米~200微米,所述PN结的厚度为0.3微米~0.5微米,所述N型硅片的厚度为50微米~70微米,本实用新型专利技术P型硅片的多晶绒面结构,并在P型硅片与N型硅片之间形成一层PN结,由于多晶绒面结构的发射率的发射效率高,致使少子载流子寿命高,提高了光电转换效率、降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

:本技术涉及太阳能电池,尤其是一种P型太阳能电池片
技术介绍
:传统的太阳能电池通常是采用通过恒温,氧化,低温扩散,恒温扩散,高温扩散,降温等方法在硅片的正面和背面都制备银电极,然而这种太阳能电池仍然存在光电转换效率较低、生产效率低、成本高等缺点的问题。因此,本技术在此提出一种改进的一种P型太阳能电池片。
技术实现思路
:针对现有技术中存在的缺陷,本技术的目的就是提供一种能够降低生产成本、转换效率高的一种P型太阳能电池片。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种P型太阳能电池片,P型硅片、PN结、N型硅片及电极,其特征在于:所述P型硅片具有正面和背面,正面上设有多晶绒面结构,背面为平面结构,所述PN结和所述N型硅片依次镀在所述P型硅片正面上,所述电极依次穿过P型硅片、PN结和N型硅片形成电极回路,所述P型硅片的厚度为150微米?200微米,所述PN结的厚度为0.3微米?0.5微米,所述N型硅片的厚度为50微米?70微米。采用以上技术方案,本技术P型硅片的多晶绒面结构,并在P型硅片与N型硅片之间形成一层PN结,由于多晶绒面结构的发射率的发射效率高,致使少子载流子寿命高,提高本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种P型太阳能电池片,P型硅片(1)、PN结(2)、N型硅片(3)及电极(4),其特征在于:所述P型硅片(1)具有正面和背面,正面上设有多晶绒面结构,背面为平面结构,所述PN结(2)和所述N型硅片(3)依次镀在所述P型硅片(1)正面上,所述电极(4)依次穿过P型硅片(1)、PN结(2)和N型硅片(3)形成电极回路,所述P型硅片的厚度为150微米~200微米,所述PN结(2)的厚度为0.3微米~0.5微米,所述N型硅片(3)的厚度为50微米~70微米。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈德榜
申请(专利权)人:温州海旭科技有限公司
类型:新型
国别省市:浙江;33

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