一种平面推力瓦磨削加工工装制造技术

技术编号:11851258 阅读:116 留言:0更新日期:2015-08-07 20:38
本实用新型专利技术涉及一种平面推力瓦磨削加工工装,其包括平板、螺栓,平板的上平面与下平面的平面度的精度高于待加工的平面推力瓦的推力面的平面度精度,平板的上平面与下平面的平行度精度高于平面推力瓦的推力面与非推力面的平行度精度,平板垂直设有下部带沉孔的通孔,通孔与平面推力瓦底部的定位立柱相匹配,通孔的数量与一组平面推力瓦的推力瓦数量相同,平面推力瓦底部的定位立柱置于平板通孔中,并通过螺栓固定,螺栓的底部置于沉孔内。本实用新型专利技术采用将一组平面推力瓦的推力面向上安装于平板后,再将平板置于磨床工作台面,对一组平面推力瓦同时进行磨削加工,从而保证了一组平面推力瓦尺寸一致。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种平面推力瓦磨削加工的工装。
技术介绍
电机上机架一般采用一组平面推力瓦支撑转子,平面推力瓦经长时间使用,都有不同程度的磨损,造成整组推力瓦厚度不均匀,这样会导致每个推力瓦受力不均匀,引起部分推力瓦运行时发热,而且还会影响电机转子的垂直度,导致电机振动等问题的发生。现有技术维修时是将单个平面推力瓦底部的定位立柱装夹于专用模具中,用数控磨床逐个加工平面推力瓦的推力面,然后分别测量厚度,这种加工方法对设备要求高,加工难度大,检测精度要求尚。
技术实现思路
本技术的目的在于克服以上缺陷,提供一种多个推力瓦同时整体加工的平面推力瓦面磨削加工的工装。本技术的目的通过下述技术方案予以实现的:一种平面推力瓦磨削加工工装,其包括平板、螺栓,所述平板的上平面与下平面的平面度的精度高于待加工的平面推力瓦的推力面的平面度精度,所述平板的上平面与下平面的平行度精度高于平面推力瓦的推力面与非推力面的平行度精度,所述平板垂直设有下部带沉孔的通孔,所述通孔与平面推力瓦底部的定位立柱相匹配,所述通孔的数量与一组平面推力瓦的推力瓦数量相同,平面推力瓦底部的定位立柱置于平板通孔中,并通过螺栓固定,螺栓的底部置于沉孔内。本技术的技术效果是:本技术采用将一组平面推力瓦的推力面向上安装于平板后,再将平板置于磨床工作台面,对一组平面推力瓦同时进行磨削加工,从而保证了一组平面推力瓦尺寸一致。【附图说明】图1为本技术结构示意图;图2为图1的俯视图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例对本技术作进一步的描述。参见附图,一种平面推力瓦磨削加工工装,其包括平板1、螺栓2,所述平板I的上平面与下平面的平面度的精度高于待加工的平面推力瓦3的推力面的平面度精度,所述平板I的上平面与下平面的平行度精度高于平面推力瓦3的推力面与非推力面的平行度精度。所述平板I垂直设有下部带沉孔1-2的通孔1-1,所述通孔1-1与平面推力瓦3底部的定位立柱3-1相匹配,所述通孔1-1的数量与一组平面推力瓦3的推力瓦数量相同,平面推力瓦3底部的定位立柱3-1置于通孔1-1中,并通过螺栓2固定,螺栓2的底部置于沉孔1-2内。将一组平面推力瓦3的推力面向上安装于平板I后,再将平板I置于磨床工作台面,对一组平面推力瓦3同时进行磨削加工。【主权项】1.一种平面推力瓦磨削加工工装,其特征在于,其包括平板、螺栓,所述平板的上平面与下平面的平面度的精度高于待加工的平面推力瓦的推力面的平面度精度,所述平板的上平面与下平面的平行度精度高于平面推力瓦的推力面与非推力面的平行度精度,所述平板垂直设有下部带沉孔的通孔,所述通孔与平面推力瓦底部的定位立柱相匹配,所述通孔的数量与一组平面推力瓦的推力瓦数量相同,平面推力瓦底部的定位立柱置于平板通孔中,并通过螺栓固定,螺栓的底部置于沉孔内。【专利摘要】本技术涉及一种平面推力瓦磨削加工工装,其包括平板、螺栓,平板的上平面与下平面的平面度的精度高于待加工的平面推力瓦的推力面的平面度精度,平板的上平面与下平面的平行度精度高于平面推力瓦的推力面与非推力面的平行度精度,平板垂直设有下部带沉孔的通孔,通孔与平面推力瓦底部的定位立柱相匹配,通孔的数量与一组平面推力瓦的推力瓦数量相同,平面推力瓦底部的定位立柱置于平板通孔中,并通过螺栓固定,螺栓的底部置于沉孔内。本技术采用将一组平面推力瓦的推力面向上安装于平板后,再将平板置于磨床工作台面,对一组平面推力瓦同时进行磨削加工,从而保证了一组平面推力瓦尺寸一致。【IPC分类】B24B41-06【公开号】CN204525169【申请号】CN201520220273【专利技术人】伍卫, 彭韬, 田强, 旷治, 李新明 【申请人】湘电集团有限公司【公开日】2015年8月5日【申请日】2015年4月14日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平面推力瓦磨削加工工装,其特征在于,其包括平板、螺栓,所述平板的上平面与下平面的平面度的精度高于待加工的平面推力瓦的推力面的平面度精度,所述平板的上平面与下平面的平行度精度高于平面推力瓦的推力面与非推力面的平行度精度,所述平板垂直设有下部带沉孔的通孔,所述通孔与平面推力瓦底部的定位立柱相匹配,所述通孔的数量与一组平面推力瓦的推力瓦数量相同,平面推力瓦底部的定位立柱置于平板通孔中,并通过螺栓固定,螺栓的底部置于沉孔内。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:伍卫彭韬田强旷治李新明
申请(专利权)人:湘电集团有限公司
类型:新型
国别省市:湖南;43

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