【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镀膜设备
，具体属于一种具有磁力导向真空镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜技术作为薄膜设备的一种重要手段，在现代微电子技术和微器件设备中占有特殊重要的地位，这种技术是指在真空环境下利用物理或化学手段在工件表面沉积一层具有特殊用途膜层的表面处理方法。镀膜设备是比较常用的设备，尤其在半导体器件工艺的电极制作工艺中更是应用广泛。真空镀膜机分为常温镀膜及高温镀膜，在高温镀膜的工况条件下，需要在真空镀膜箱中对被镀基片加热。现在用于真空镀膜的加热装置多种多样，但是现有用于真空镀膜的加热装置大多有加热效率不高，被镀基片受热不均等问题；要保证镀膜工艺的顺利进行及设备的安全运行。常用的观察窗一般采用挡板来保护观察玻璃不被污染。但由于结构简单，在镀膜过程中，仍然会有少量沉积物附着在观察玻璃上。同时，在长期使用观察窗观察镀膜实时情况后，观察玻璃会被沉积上污染物变得模糊不清，甚至无法观察真空腔室内的工作情况。在这种情况下，往往需要拆卸观察窗，卸下观察玻璃进行清理。由于观察窗直接连接真空腔室，频繁的拆卸会导致该部位密封性能变差，从而影响真空腔室的真空度及镀膜的质量。并...
【技术保护点】
一种具有磁力导向真空镀膜装置，包括固定台，固定台上设有固定罩，其特征在于：所述的固定罩内设有固定架，固定架上端设有多个用于固定晶体谐振器托盘的夹具，多个夹具围绕圆周均匀分布，晶体谐振器托盘在多个夹具中呈伞形分布，固定架下端固装于固定台上，在固定架下端部中间设有接料板，在固定架外围上端部设有弧形放电管为铜管制成，放电管通过支撑杆支撑于固定台上，支撑杆下端部为绝缘塑料，接料板连接电源负极，放电管连接电源正极，通过放电电子束轰击接料板上镀膜材料使其蒸发进行镀膜；在固定台上端面和固定罩顶面分别设有磁极相对的磁铁块；所述的固定罩外侧设有液压升降缸控制其升降开启，所述的固定台下端连通抽...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：达令，项钰，
申请(专利权)人：安庆市晶科电子有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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