本发明专利技术公开了一种阵列基板及制作方法、显示装置，其中阵列基板包括：基板，像素单元，以矩阵形式布设在所述基板上，所述像素单元包括交叉设置的数据线和扫描线，所述扫描线与所述数据线同层设置且材质相同，且所述数据线在与所述扫描线的交叉处断开；第一绝缘层设置于所述数据线和所述扫描线远离所述基板的一侧，所述第一绝缘层定义多个第一过孔；触控电极和触控走线，形成在所述第一绝缘层远离所述基板的一侧；第一跨桥线，所述第一跨桥线与所述触控走线同层设置且材质相同，所述第一跨桥线通过所述第一过孔连接相邻断开的数据线。本发明专利技术实施例将所述扫描线与所述数据线同层设置，相对于现有技术减少了一层金属层的设置，从而达到了降低了生产成本、减小基板厚度的目的。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术实施例涉及液晶显示器
，尤其涉及一种阵列基板及制作方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示屏，英文通称为LCD (Liquid Crystal Display)，是属于平面显示器的一种。随着科技的发展，LCD目前科技信息产品也朝着轻、薄、短、小的目标发展，无论是直角显示、低耗电量、体积小、还是零辐射等优点，都能让使用者享受最佳的视觉环境。具有触控功能的显示器是基于功能丰富化的技术产生的，比较常见的触控技术有In-cell触控技术和On-cell触控技术。其中，In-cell触控技术是指将触控面板功能嵌入到液晶显示面板内部的方法，On-cell触控技术是指将部分触控电极结构嵌入到彩膜基板和偏光板之间，另一部分嵌入到彩膜基板与阵列基板之间的方法。由于In-cell触控技术能够使显示器更轻薄，因此更被关注。在现有技术中，如图1所示，具有触控功能的阵列基板，其制程主要包括以下步骤:S1、在基板11上形成一层遮光层12 ;S2、在所述遮光层12上方形成缓冲层118，在所述缓冲层118上方形成有源层13 ;S3、进行CHD沟道掺杂；S4、进行ND-N型沟道掺杂；S5、在所述有源层13上方形成栅绝缘层14，在所述栅绝缘层14上方形成第一金属层15，采用构图工艺刻蚀形成栅极和扫描线；se、进行ro-p型沟道掺杂；S7、在所述栅极和扫描线上方形成层间绝缘层16 ;S8、在所述层间绝缘层16上方形成第二金属层17，采用构图工艺刻蚀形成源极、漏极和数据线；S9、在所述源极、漏极和数据线上方形成平坦化层18 ;S10、在所述平坦化层18上方形成第三金属层19，采用构图工艺刻蚀形成触控走线，并在所述触控走线上方第一绝缘层110 ;S11、在所述第一绝缘层110上方形成触控电极层，采用构图工艺刻蚀形成触控电极111 ;S12、在所述触控电极112上方形成第二绝缘层113，采用构图工艺刻蚀形成贯穿第二绝缘层113的第一过孔114、同时贯穿第二绝缘层113和第一绝缘层110的第二过孔115、及同时贯穿第二绝缘层113、第一绝缘层110和平坦化层18的第三过孔116 ;S13、在所述第二绝缘层113上方形成像素电极117。上述现有技术中具有触控功能的阵列基板相比于没有集成触控功能的阵列基板，需要增设一层用于刻蚀触控走线的第三金属层，由于第三金属层的设置导致生产成本增加、基板厚度增厚。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种阵列基板及制作方法、显示装置，相比现有技术减少了一层金属层的设置，从而达到了降低了生产成本、减小基板厚度的目的。第一方面，本专利技术实施例提供了一种阵列基板，包括:基板；像素单元，以矩阵形式布设在所述基板上，所述像素单元包括交叉设置的数据线和扫描线，所述扫描线与所述数据线同层设置且材质相同，且所述数据线在与所述扫描线的交叉处断开；第一绝缘层设置于所述数据线和所述扫描线远离所述基板的一侧，所述第一绝缘层定义多个过孔；触控电极和触控走线，形成在所述第一绝缘层远离所述基板的一侧；第一跨桥线，所述第一跨桥线与所述触控走线同层设置且材质相同，所述第一跨桥线通过所述第一过孔连接相邻断开的数据线。第二方面，本专利技术实施例还提供一种显示装置，包括本专利技术第一方面所提供的阵列基板。第三方面，本专利技术实施例还提供一种阵列基板的制造方法，包括:提供一基板；在所述基板上形成第一金属层，并采用构图工艺在所述第一金属层上形成扫描线、数据线和漏极的图案，所述数据线在与所述扫描线的交叉处断开；在所述第一金属层上形成第一绝缘层，并刻蚀所述第一绝缘层形成多个第一过孔，所述第一过孔暴露所述数据线的断开端；在所述平坦化层上形成第二金属层，并采用构图工艺形成在所述第二金属层上触控走线和第一跨桥线，所述第一跨桥线线通过第一过孔连接相邻的两个断开端；在所述第二金属层上形成第二绝缘层；在所述第二绝缘层上形成触控电极材料层，并采用构图工艺刻蚀形成触控电极的图案； 在所述触控电极上形成第三绝缘层；在所述第三绝缘层上形成像素电极材料层，并采用构图工艺刻蚀形成像素电极的图案。本专利技术实施例通过将所述扫描线与所述数据线同层设置，相对于现有技术减少了一层金属层的设置，从而达到了降低了生产成本、减小基板厚度的目的。【附图说明】图1为现有技术中提供的阵列基板的结构示意图；图2A为本专利技术实施例一提供的阵列基板的俯视图；图2B为本专利技术实施例一提供的阵列基板的A-A’剖视图；图2C为本专利技术实施例一提供的阵列基板中扫描线与数据线同层设置时位置分布示意图；图2D为本专利技术实施例一提供的阵列基板中多晶硅层第一种结构示意图；图2E为本专利技术实施例一提供的阵列基板中多晶硅层第二种结构示意图；图3A为本专利技术实施例二提供的阵列基板中第一跨桥线与触控走线同层设置时第一种位置分布不意图；图3B为本专利技术实施例二提供的阵列基板的剖视图；图4A为本专利技术实施例三提供的阵列基板中第一跨桥线与触控走线同层设置时第二种位置分布示意图；图4B为本专利技术实施例三提供的阵列基板的第一种剖视图；图4C为本专利技术实施例三提供的阵列基板的第二种剖视图；图5A为本专利技术实施例四提供的阵列基板的第一种剖视图；图5B为本专利技术实施例四提供的阵列基板的第二种剖视图；图6为本专利技术实施例五提供的显示装置的结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。实施例一图2A为本专利技术实施例一提供的阵列基板的俯视图，图2B为本专利技术实施例一提供的阵列基板的剖视图，结合图2A和图2B所示，具体包括:基板21 ;像素单元22，以矩阵形式布设在所述基板21上，所述像素单元22包括交叉设置的数据线221和扫描线222，所述扫描线222与所述数据线221同层设置且材质相同。具体的，如图2C所示，可将数据线221沿第一方向设置，将所述扫描线222沿第二方向设置，且所述数据线221在与所述扫描线222的交叉处断开。第一绝缘层23，设置于所述数据线221和所述扫描线222远离所述基板21的一侧，所述第一绝缘层23定义多个第一过孔24。触控电极25和触控走线26，形成在所述第一绝缘层23远离所述基板21的一侧。第一跨桥线27，所述第一跨桥线27与所述触控走线26同层设置且材质相同，所述第一跨桥线27通过所述第一过孔24连接相邻断开的数据线221。在制作时，在基板21上形成第一金属层，并采用构图工艺对所述第一金属层刻蚀形成扫描线222、数据线221、栅极201、源极202和漏极203的图案，其中所述扫描线222沿第一方向延伸，所述数据线221沿第二方向延伸，并且使所述数据线221在与所述扫描线222的交叉处断开，形成如图2C所示的图案。在所述第一金属层上形成第一绝缘层23，并刻蚀所述第一绝缘层23形成多个第一过孔24，所述第一过孔24暴露所述数据线221的断开端，其中第一绝缘层23可采用有机膜材料形成。在所述第一绝缘层23上形成第二金属层，并采用构图工艺在所述第二金属层上形成触控走线26和第一跨桥线27，其中触控走线26沿第二方向延伸，且为了增大开口率，所述触控走线26在透光方向上与所述数本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；像素单元，以矩阵形式布设在所述基板上，所述像素单元包括交叉设置的数据线和扫描线，所述扫描线与所述数据线同层设置且材质相同，且所述数据线在与所述扫描线的交叉处断开；第一绝缘层设置于所述数据线和所述扫描线远离所述基板的一侧，所述第一绝缘层定义多个第一过孔；触控电极和触控走线，形成在所述第一绝缘层远离所述基板的一侧；第一跨桥线，所述第一跨桥线与所述触控走线同层设置且材质相同，所述第一跨桥线通过所述第一过孔连接相邻断开的数据线。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：蓝学新，文亮，
申请(专利权)人：厦门天马微电子有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
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