一种密封结构及使用该密封结构的展柜制造技术

本实用新型专利技术涉及一种密封结构及使用该密封结构的展柜，密封结构包括设在第一密封件上的密封圈槽和设在第二密封件上的条状的密封凸台，密封凸台置入密封圈槽对第一密封件和第二密封件进行密封，第一密封件和第二密封件之间设有用于调节密封圈槽中的密封圈的压缩量的伸缩调节机构。本实用新型专利技术可根据需要设定密封凸台对密封圈的压缩量，在保证展柜的密封性能的前提下，使密封圈的压缩量在合适的范围，展柜打开后，密封圈能够快速恢复，密封圈不易失效。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种密封结构及使用该密封结构的展柜。
技术介绍
展柜为文物展示和保存提供独立的密封空间，展柜的密封直接影响着展柜内微环境调控的效果。例如，公布号为CN 101720180 A的中国专利技术专利申请公开了一种密封结构，如图1所示，该密封结构包括设置在第一密封件89上的凹形的密封圈槽90、设置在第二密封件91上的密封凸台92，本申请中，第一密封件89为密封箱的箱盖，第二密封件91为密封箱的箱体，密封圈槽90中设有密封圈93，在第一密封件、第二密封件合上时，条形的密封凸台置于凹形的密封圈槽内，实现两密封件的密封。通常情况下，在第一密封件、第二密封件合上时，条形的密封凸台与密封圈之间产生很大的压力，使密封圈的变形量很大，往往达到密封圈的变形极限，在第一密封件、第二密封件打开时，密封圈的变形很难恢复。密封圈长期在较大的压缩力作用下，就会失去收缩变形能力，造成密封结构的密封效果失效，在管道密封结构中，密封结构失效就会出现液体外漏的现象，在文物保护展柜结构中，一旦密封结构失效，展柜内的微环境就会受到影响，而影响展柜内文物的保存。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种密封结构，用以解决现有技术中密封结构的密封圈易失效的技术问题。本技术还提供一种使用该密封结构的展柜。为实现上述目的，本技术采用如下技术方案：一种密封结构，包括设在第一密封件上的密封圈槽和设在第二密封件上的条状的密封凸台，密封凸台置入密封圈槽对第一密封件和第二密封件进行密封，第一密封件和第二密封件之间设有用于调节密封圈槽中的密封圈的压缩量的伸缩调节机构。所述密封圈槽中的密封圈的截面形状为圆环形。所述密封圈槽为收口槽。一种展柜，包括底座和盖体，底座和盖体之间设有密封结构，所述密封结构包括密封圈槽、条状的密封凸台，所述密封圈槽和密封凸台两者中的一个设在底座上，另一个设在盖体上，底座和盖体之间设有用于调节密封圈槽中的密封圈的压缩量的伸缩调节机构。所述密封圈槽中的密封圈的截面形状为圆环形。所述密封圈槽为收口槽。所述盖体包括玻璃罩和盖体边框，盖体边框上设有安装槽，玻璃罩的侧边安装在安装槽中。本技术的有益技术效果为：在第一密封件、第二密封件之间设置伸缩调节机构，伸缩调节机构可调节密封圈的压缩量，可根据需要设定密封凸台对密封圈的压缩量，在保证展柜的密封性能的前提下，使密封圈的压缩量在控制在合适的范围，密封圈的压缩变形量不会超出密封圈的压缩极限，第一、第二密封件打开后，密封圈能够快速恢复形状，密封圈不易失效。密封圈的截面形状为圆环形，具有空心结构，在密封凸台挤压密封圈时，密封圈很容易变形，在密封结构打开时，密封圈容易恢复。密封圈槽为收口槽，密封圈置于密封圈槽中后在自重的作用下不会从密封圈槽中落出。附图说明图1是
技术介绍
中一种密封箱的密封结构的结构示意图；图2是本技术密封结构的实施例1的结构示意图；图3是本技术展柜的实施例1处于开启状态下的结构示意图；图4是本技术展柜的实施例1处于关闭状态下的结构示意图；图5是本技术展柜的盖体边框的结构示意图；图6是图5中A-A的剖视图；图7是本技术展柜的底座边框的结构示意图；图8是图7中B-B的剖视图；图中：89、第一密封件，90、密封圈槽，91、第二密封件，92、密封凸台，93、密封圈，1、密封圈槽， 2、密封凸台， 3、密封圈，4、安装槽，5、盖体，6、底座，7、盖体边框，8、底座边框，9、丝杠顶杆。具体实施方式本技术的密封结构的具体实施例1，如图2所示，密封结构包括设置在第一密封件上的密封圈槽1、设置在第二密封件上的条状的密封凸台2，本实施例中，第一密封件为展柜的盖体5，第二密封件为展柜的底座6；密封圈槽1中设置有密封圈3，密封圈槽1和密封凸台2为周向封闭结构，密封圈3的截面形状为环形，密封圈内部具有空心结构；密封结构密封时，密封凸台伸入密封圈槽中，密封凸台2挤压密封圈3，空心的密封圈3易变形，在密封结构打开时，密封圈3易于恢复。第一密封件和第二密封件之间设有伸缩调节机构，在第一密封件和第二密封件密封时，密封凸台2挤压密封圈3，伸缩调节机构通过调节密封凸台2伸入密封圈槽1中的长度，进而调节密封圈3的压缩量。在本实施例中，密封圈槽和密封凸台上下设置，密封圈3置于密封圈槽中，密封圈槽为收口槽，防止密封圈3在自重的作用下从密封圈槽中落出，密封圈置于密封圈槽中防止外界灰尘污染。在其他的实施例中，密封圈槽可以为开口槽，密封圈3的外表面与密封圈槽内表面贴近配合防止密封圈从密封圈槽中落出。在本技术密封结构的其他实施例中，密封结构可设置在密封箱或者密封管道上，第一密封件和第二密封件可沿上下方向设置，也可沿水平方向设置，伸缩调节结构根据需要调节密封圈的压缩量。本技术使用上述密封结构的展柜的具体实施例1，如图2-8所示，展柜包括盖体5、底座6和密封结构，密封结构位于盖体和底座之间；盖体5包括玻璃罩和盖体边框7，盖体边框7上设有安装槽4，玻璃罩安装在安装槽4中，玻璃罩通过玻璃胶固定在安装槽4中；底座6的顶端设有底座边框8，密封凸台设置在底座边框8的上侧。密封结构具体如上述，为避免重复，因此不做详细的描述，密封圈槽1位于盖体边框7的下侧，密封凸台2位于底座边框8的上侧，密封圈槽1和密封凸台2周向封闭。本实施例中，伸缩调节机构采用螺旋升降调节，包括四个丝杠顶杆9，丝杠顶杆9分别设置在展柜的四角，丝杠顶杆9连接在盖体和底座之间，丝杠顶杆9螺旋升降，调节密封凸台伸入密封圈槽中的长度，调节密封凸台对密封圈的压缩量。在其他实施例中，伸缩调节机构也可采用液压机构、气压机构进行调节。本技术可根据需要调节丝杠顶杆9升降，在保证密封结构的密封效果的前提下，调节密封凸台2压入密封圈槽1中的长度，进而调节密封凸台2对密封圈3的压缩量。本技术使用上述密封结构的展柜的具体实施例2，与实施例1不同的是，密封圈槽1位于底座边框上，密封凸台位于盖体边框上。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种密封结构，包括设在第一密封件上的密封圈槽和设在第二密封件上的条状的密封凸台，密封凸台置入密封圈槽对第一密封件和第二密封件进行密封，其特征在于：第一密封件和第二密封件之间设有用于调节密封圈槽中的密封圈的压缩量的伸缩调节机构。

【技术特征摘要】
1.一种密封结构，包括设在第一密封件上的密封圈槽和设在第二密封件上的条状的密封凸台，密封凸台置入密封圈槽对第一密封件和第二密封件进行密封，其特征在于：第一密封件和第二密封件之间设有用于调节密封圈槽中的密封圈的压缩量的伸缩调节机构。
2.根据权利要求1所述的密封结构，其特征在于：所述密封圈槽中的密封圈的截面形状为圆环形。
3.根据权利要求1所述的密封结构，其特征在于：所述密封圈槽为收口槽。
4.一种展柜，包括底座和盖体，底座和盖体之间设有密封结构，所述密封结...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘永红，张晓军，杜向辉，王新，刘汉林，时迎冬，李红民，
申请(专利权)人：凯迈洛阳航空防护装备有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41