本发明专利技术提供了一种双面硬化膜与包含该双面硬化膜的电容式触摸屏。该双面硬化膜包括：第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层，PET基材层设置在第一硬涂层的表面上；第二硬涂层设置在PET基材层的远离第一硬涂层的表面上，其中，第二硬涂层的厚度为1.5～2.5μm。该双面硬化膜第二硬涂层的厚度较小，这样能够有效地减小第二硬涂层在高温下的变形，减少刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而避免蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，有效改善了电容式触摸屏的立体纹，进而满足了客户的需求。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及触摸屏领域，具体而言，涉及一种双面硬化膜与包括该双面硬化膜的 电容式触摸屏。
技术介绍
电容式触摸屏是一块四层复合玻璃屏，一般包括由上至下设置的：基板、感应层、 OCA胶层与显示屏，其中，感应层中包含基材与设置在基材表面上的ITO导电层。 目前，上述的基材为双面硬化膜，如图1所示，该膜包括：第一硬涂层10'、PET基材 层20'、第二硬涂层30'与保护膜40'，PET基材层20'设置在第二硬涂层30'的表面上，第 一硬涂层10'设置在PET基材层20'的远离第二硬涂层30'的表面上，保护膜40'设置在 第二硬涂层30'的远离PET基材层20'的表面上。 上述双硬化膜使得ITO导电层的刻蚀一般采用油墨网印和黄光蚀刻，因为双面硬 化膜在溅射过程中需要镀一层Nb2O5，该镀膜层在经过上述油墨网印和黄光蚀刻后易被镭 射，，蚀刻后需高温烘烤lh。在烘烤时，第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层由于具有较大 的收缩率而发生收缩，ITO导电层被蚀刻的纹路会因为第一硬涂层、PET基材层或第二硬涂 层的收缩而变形，使得蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，立体纹会逐渐显露。目前， 常规的第一硬涂层与第二硬涂层的厚度达到4~5ym，有些甚至6~7ym，第一硬涂层与 第二硬涂层的厚度增加加剧了第一硬涂层与第二硬涂层的收缩，使得立体纹更加明显；另 外，上述双面硬化膜的雾度一般为0. 3~0. 5 %，不能对立体纹进行有效遮掩，并且保护膜 的厚度也较小，一般为50ym，也不能对立体纹进行有效遮掩。由此可见，现有技术的电容式 触摸屏具有明显的立体纹，无法满足部分客户需求。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种双面硬化膜与包含该双面硬化膜的电容式触摸 屏，以解决现有技术中双面硬化膜的立体纹较明显的问题。 为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种双面硬化膜，该双面硬化 膜包括：第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层，上述PET基材层设置在上述第一硬涂层的 表面上；上述第二硬涂层设置在上述PET基材层的远离上述第一硬涂层的表面上，其中，上 述第二硬涂层的厚度为1. 5~2. 5ym。 进一步地，上述第二硬涂层的厚度为1. 5~2. 0ym，优选为I. 8ym。 进一步地，上述第一硬涂层的厚度为1. 5~2. 5ym，优选为L5~2. 0ym，更优选 为I. 8ym〇 进一步地，上述第二硬涂层包括第二涂层主体和分散在上述第二涂层主体中的第 二氧化物粒子，优选上述第二涂层主体为丙烯酸酯聚合物层。 进一步地，上述第二氧化物粒子的含量为1~20wt%，优选为1~8wt%。 进一步地，上述第一硬涂层包括第一涂层主体和分散在上述第一涂层主体中的第 一氧化物粒子，优选上述第一涂层主体为丙烯酸酯聚合物层。进一步地，上述第一氧化物粒子的含量为1~20wt%，优选为1~8wt%。 进一步地，上述第二氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒子，上述第 一氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMM粒子。 进一步地，上述PET基材层机械拉伸方向的收缩率为0.0001~0.5%，垂直于机 械拉伸方向的收缩率为0. 0001~0. 2%，优选上述PET基材层机械拉伸方向的收缩率为 0. 0001~0. 4%，优选上述垂直于机械拉伸方向的收缩率为0. 0001~0. 1%。 进一步地，上述PET基材层的折射率为1.63~1.65,优选上述PET基材层的厚度 为 100 ~150ym。 进一步地，上述双面硬化膜还包括保护膜，上述保护膜设置在上述第二硬涂层的 远离上述PET基材层的表面上，上述保护膜的厚度为30~80ym，优选为50ym。 根据本专利技术的另一方面，提供了一种电容式触摸屏，该电容式触摸屏包括ITO导 电膜与双面硬化膜，上述ITO导电膜设置在上述双面硬化膜的表面上，其中，双面硬化膜为 上述的双面硬化膜。 应用本专利技术的技术方案，双面硬化膜的第二硬涂层的厚度较小，这样能够有效地 减小第二硬涂层在高温下的变形，减少刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而避 免蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，有效改善了电容式触摸屏的立体纹，进而满足 了客户的需求。【附图说明】 构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示 意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中： 图1示出了现有技术中一种双面硬化膜的结构剖面示意图； 图2示出了本申请一种典型实施例中的双面硬化膜的结构剖面示意图；以及 图3示出了本申请一种优选实施例的双面硬化膜的结构剖面示意图。【具体实施方式】 需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述【具体实施方式】，而非意图限制根 据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式 也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语"包含"和/或"包 括"时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。 为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如"在……之上"、"在……上方"、 "在……上表面"、"上面的"等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特 征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位 之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为"在其他器 件或构造上方"或"在其他器件或构造之上"的器件之后将被定位为"在其他器件或构造下 方"或"在其他器件或构造之下"。因而，示例性术语"在……上方"可以包括"在……上方" 和"在……下方"两种方位。该器件也可以其他不同方式定位（旋转90度或处于其他方 位），并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。根据本专利技术的一方面，本申请提供了一种双面硬化膜，如图2所示，该双面硬化膜 包括：第一硬涂层KKPET基材层20与第二硬涂层30,上述PET基材层20设置在上述第一 硬涂层10的表面上；上述第二硬涂层30设置在上述PET基材层20的远离上述第一硬涂层 10的表面上，上述第二硬涂层30的厚度为1. 5~2. 5ym。 该双面硬化膜的第二硬涂层30的厚度较小，这样能够有效地减小第二硬涂层30 在高温下的变形，减少刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而避免蚀刻凹坑与ITO 导电层的色差变得明显，有效改善了电容式触摸屏的立体纹，进而满足了客户的需求。 为了进一步减小刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而更加有效地减少 电容式触摸屏的立体纹数量，优选上述第二硬涂层30的厚度为1. 5~2. 0ym;更优选上述 第二硬涂层30的厚度为I. 8ym。本申请技术人员在对影响立体纹的因素进行研宄时，意外发现不仅上述第二硬涂 层的厚度对立体纹数量多少产生重要影响，而且第一硬涂层10的厚度也会对立体纹的数 量产生影响，因此为了利用第一硬涂层10进一步减小刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形 程度，进而更加有效地减少电容式触摸屏的立体纹数量，本申请优选上述第一硬涂层10的 厚度为1. 5~2. 5ym，优选上述第一硬涂层10的厚度为1. 5~2. 0ym;更优选上述第一硬 涂层10的厚度为1.8ym。本申请的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种双面硬化膜，包括：第一硬涂层(10)；PET基材层(20)，所述PET基材层(20)设置在所述第一硬涂层(10)的表面上；第二硬涂层(30)，所述第二硬涂层(30)设置在所述PET基材层(20)的远离所述第一硬涂层(10)的表面上，其特征在于，所述第二硬涂层(30)的厚度为1.5～2.5μm。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐金龙，翁畅健，陈庆松，
申请(专利权)人：张家港康得新光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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