一种掩模板框架对位孔结构制造技术

本实用新型专利技术公开一种掩模板框架对位孔结构，自上而下包括掩模板对位孔与掩模板框架对位孔，所述掩模板对位孔的孔径小于掩模板框架对位孔的孔径，掩模板框架对位孔的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔的底部的形状为锥形面或者圆弧形面；所述掩模板框架对位孔结构还包括设置在掩模板对位孔上方的照射光源。本实用新型专利技术提供一种掩模板框架对位孔结构。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及OLED制造领域，特别是关于一种掩模板框架对位孔结构。
技术介绍
有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting D1des，简称0LED)显示器已经成为平板显示的热门产品，其属于自发光器件，外观轻薄，功耗低，视角宽，屏幕响应快，是满足未来对显示器功能要求的技术，具有很高的市场潜力。在制作有机小分子发光二极管过程中，目前大多采用的技术是真空蒸镀，在OLED器件蒸镀过程中，用到掩模板，其焊接在掩模板框架上。掩模板框架在使用过程中，通过掩模板框架对位孔与对位掩模板对位孔实现对位。在实际操作中发现，对位的准确性较低，并常常发生由于对位不准而引发的品质不良问题。
技术实现思路
有鉴于此，本技术为解决上述技术问题，提供一种掩模板框架对位孔结构。本技术的目的通过以下技术方案实现:一种掩模板框架对位孔结构，位于掩模板和掩模板框架上，自上而下包括掩模板对位孔与掩模板框架对位孔，所述掩模板对位孔的孔径小于掩模板框架对位孔的孔径，掩模板框架对位孔的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔的底部的形状为锥形面或者圆弧形面；所述掩模板框架对位孔结构还包括设置在掩模板对位孔上方的照射光源。所述掩模板对位孔的中心线与掩模板框架对位孔的中心线重合。本技术相较于现有技术的有益效果是:由于掩模板对位孔的孔径小于掩模板框架对位孔的孔径，掩模板框架对位孔的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔的底部的形状为锥形面或者圆弧形面，当照射光源照射在对位孔时，光线到达对位孔底部粗糙面时，由于内壁粗糙表面对光线的漫反射及掩膜板对反射光线的阻挡作用，使得光接收器接收到的光强度大幅降低，从而使得对位孔和对位孔周围生成的的图像具有较大的亮度差异。利用该亮度差可以更容易区分对位孔，从而降低对位孔的对位难度。【附图说明】利用附图对本技术作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本技术的任何限制。图1是本技术的实施例1的掩模板框架对位孔结构的整体结构图。图2是本技术的实施例2的掩模板框架对位孔结构的整体结构图。【具体实施方式】为了便于本领域技术人员理解，下面将结合附图以及实施例对本技术作进一步详细描述。请参照图1，本技术实施例1包括:—种掩模板框架对位孔结构，位于掩模板I和掩模板框架2上，自上而下包括掩模板对位孔11与掩模板框架对位孔21，所述掩模板对位孔11的孔径小于掩模板框架对位孔21的孔径，掩模板框架对位孔21的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔21的底部的形状为锥形面；所述掩模板框架对位孔结构还包括设置在掩模板对位孔上方的照射光源3。所述掩模板对位孔11的中心线与掩模板框架对位孔21的中心线重合。本实施例1相较于现有技术的有益效果是:由于掩模板对位孔的孔径小于掩模板框架对位孔的孔径，掩模板框架对位孔的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔的底部的形状为锥形面或者圆弧形面，当照射光源照射在对位孔时，光线到达对位孔底部粗糙面时，由于内壁粗糙表面对光线的漫反射及掩膜板对反射光线的阻挡作用，使得光接收器接收到的光强度大幅降低，从而使得对位孔和对位孔周围生成的的图像具有较大的亮度差异。，利用该亮度差可以更容易区分对位孔，从而降低对位孔的对位难度。请参照图2，本技术实施例2包括:一种掩模板框架对位孔结构，位于掩模板4和掩模板框架5上，自上而下包括掩模板对位孔41与掩模板框架对位孔51，所述掩模板对位孔41的孔径小于掩模板框架对位孔51的孔径，掩模板框架对位孔51的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔51的底部的形状为圆弧形面；所述掩模板框架对位孔结构还包括设置在掩模板对位孔上方的照射光源6。所述掩模板对位孔41的中心线与掩模板框架对位孔51的中心线重合。本实施例2相较于现有技术的有益效果是:由于掩模板对位孔的孔径小于掩模板框架对位孔的孔径，掩模板框架对位孔的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔的底部的形状为锥形面或者圆弧形面，当照射光源照射在对位孔时，光线到达对位孔底部粗糙面时，由于内壁粗糙表面对光线的漫反射及掩膜板对反射光线的阻挡作用，使得光接收器接收到的光强度大幅降低，从而使得对位孔和对位孔周围生成的的图像具有较大的亮度差异。利用该亮度差可以更容易区分对位孔，从而降低对位孔的对位难度。最后应当说明的是，以上实施例说明本技术的技术方案，而非对本技术保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本技术作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本技术的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本技术技术方案的实质和范围。【主权项】1.一种掩模板框架对位孔结构，位于掩模板和掩模板框架上，其特征在于，自上而下包括掩模板对位孔与掩模板框架对位孔，所述掩模板对位孔的孔径小于掩模板框架对位孔的孔径，掩模板框架对位孔的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔的底部的形状为锥形面或者圆弧形面。2.根据权利要求1所述的掩模板框架对位孔结构，其特征在于，所述掩模板对位孔的中心线与掩模板框架对位孔的中心线重合。【专利摘要】本技术公开一种掩模板框架对位孔结构，自上而下包括掩模板对位孔与掩模板框架对位孔，所述掩模板对位孔的孔径小于掩模板框架对位孔的孔径，掩模板框架对位孔的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔的底部的形状为锥形面或者圆弧形面；所述掩模板框架对位孔结构还包括设置在掩模板对位孔上方的照射光源。本技术提供一种掩模板框架对位孔结构。【IPC分类】H01L51-56, C23C14-24, C23C14-04【公开号】CN204434718【申请号】CN201420816686【专利技术人】王红英, 吴俊雄, 冉应刚, 柯贤军, 苏君海, 黄亚清, 李建华 【申请人】信利（惠州）智能显示有限公司【公开日】2015年7月1日【申请日】2014年12月22日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模板框架对位孔结构，位于掩模板和掩模板框架上，其特征在于，自上而下包括掩模板对位孔与掩模板框架对位孔，所述掩模板对位孔的孔径小于掩模板框架对位孔的孔径，掩模板框架对位孔的底部为粗糙面，掩模板框架对位孔的底部的形状为锥形面或者圆弧形面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王红英，吴俊雄，冉应刚，柯贤军，苏君海，黄亚清，李建华，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44