光取向设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种光取向设备。所述光取向设备包括：多个承载基台，每个承载基台用于承载基板；曝光装置，所述曝光装置用于对处于其照射范围内的基板进行曝光；驱动机构，所述驱动机构用于驱动所述曝光装置移动，使所述曝光装置的照射范围依次经过多个承载基台上的基板；装卸载装置，用于将位于所述曝光装置的照射范围外的承载基台上的已完成曝光的基板卸载，以及，向位于所述曝光装置的照射范围外的承载基台上装载新的基板。上述光取向设备减少了完成对一个基板的曝光所需的时间，从而提高了生产效率，增加了产能；同时，还提高了曝光装置的利用率。

【技术实现步骤摘要】

本技术设及液晶显示
，具体地，设及一种光取向设备。
技术介绍
液晶显示面板一般包括阵列基板、彩膜基板，W及设置在阵列基板和彩膜基板之 间的液晶。其中，阵列基板和彩膜基板均包括取向层，其用于限定液晶分子的排布，使液晶 分子在未处于电场中时，按照预设的初始方向排布。 目前，取向层一般可W通过对聚酷亚胺膜（PI膜）进行摩擦或者曝光制备，即所谓 "摩擦取向"和"光取向"。其中，光取向是利用紫外光照射，引发PI膜中的聚酷亚胺分子发 生光致聚合、光致异构或光致分解反应，产生各向异性，从而诱导液晶分子取向。在光取向 工艺中，PI膜不与其它介质接触，因此，不会产生摩擦取向工艺中存在的碎屑污染和静电击 穿等问题。 图1示出了一种现有的通过光取向工艺制备取向层的光取向设备，如图1所示，该 光取向设备包括承载基台1、曝光装置2、驱动机构（图中未示出）和装卸载装置4;其中， 承载基台1用于承载基板S，曝光装置2用于对放置在承载基台1上的基板S进行曝光，驱 动机构用于驱动承载基台1移动，装卸载装置4用于向承载基台1上装载基板S，W及，将基 板S从承载基台1上卸载。 具体地，在上述光取向设备制备取向层时，首先，在第一阶段，装卸载装置4将制 备有PI膜的基板S装载到承载基台1上，并检测基板S是否被准确放置，若否，则对基板S 的位置进行校正；在该第一阶段，使用遮光装置将曝光装置2的出光区遮蔽，避免出现基板 S的部分区域被曝光，而其余区域未被曝光的现象，从而避免影响曝光工艺的均匀性。在第 二阶段，遮光装置从曝光装置2的出光区移开，并在之后，驱动机构驱动承载基台1由初始 位置1-0移动至结束位置1-1 ;在该过程中，曝光装置2对基板S的各区域进行曝光，使基 板S上的PI膜发生光致聚合、光致异构或光致分解反应，产生表面的各向异性。在第=阶 段，使驱动机构位于初始位置1-0,由装卸载装置4将基板S从承载基台1上卸载。 在采用上述光取向设备制备取向层的过程中，装载和卸载基板S时，检测基板S是 否被准确放置时，W及，在遮光装置遮蔽曝光装置2的出光区和从曝光装置2的出光区移开 的过程中，曝光装置2无法照射基板S，对基板S进行曝光；该就使得制备取向层的每个周 期内，进行曝光的时间所占的比例较少，从而导致曝光装置2的利用率不高。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种光取向设 备，其可W减少完成对一个基板的曝光所需的时间，从而提高生产效率，W及提高曝光装置 的利用率。[000引为实现本技术的目的而提供一种光取向设备，包括；多个承载基台，每个承 载基台用于承载基板；曝光装置，用于对处于其照射范围内的基板进行曝光；驱动机构，用 于驱动所述曝光装置移动，使所述曝光装置的照射范围依次经过多个承载基台上的基板； 装卸载装置，用于将位于所述曝光装置的照射范围外的承载基台上的已完成曝光的基板卸 载，W及，向位于所述曝光装置的照射范围外的承载基台上装载新的基板。 其中，所述多个承载基台排列成一行。 其中，所述装卸载装置包括装载装置和卸载装置；所述卸载装置用于将位于所述 曝光装置的照射范围外的承载基台上的已完成曝光的基板卸载；所述装载装置用于向位于 所述曝光装置的照射范围外的承载基台上装载新的基板。 其中，所述光取向设备还包括遮光装置，所述遮光装置用于在预设时刻运动至所 述曝光装置的出光区，使相应的基板脱离所述曝光装置的照射范围。 可替代地，所述曝光装置包括光源、反光镜和反光镜驱动机构，所述反光镜驱动机 构用于驱动反光镜在第一位置和第二位置间运动，所述反光镜在第一位置用于将所述光源 发出的射向非出光区的光反射向出光区，在第二位置用于将所述出光区遮挡。 其中，所述曝光装置的出光区在垂直于其运动方向上的尺寸不小于所述基板的对 角线的长度。 其中，所述曝光装置的出光区在垂直于其运动方向上的尺寸不大于5米。 其中，所述光源包括至少一个灯组，每个灯组的长度不小于所述基板的对角线的 长度。 其中，每个灯组内的灯的数量的范围为1~50个。 其中，所述装卸载装置的数量与所述承载基台的数量相等，且二者一一对应。 本技术具有W下有益效果： 本技术提供的光取向设备，其驱动机构驱动曝光装置依次对多个承载基台上 的基板进行曝光；并且，在曝光装置对基板曝光时，装卸载装置将已完成曝光的基板从承载 基台上卸载，并在曝光装置下一次掠过该承载基台之前，向该承载基台上装载新的基板，从 而使曝光装置可W直接对该承载基台上的基板进行曝光，而无需等待装卸载装置卸载和装 载基板，从而可W减少完成一个基板的曝光所需的时间，提高生产效率，增加产能。同时，在 装卸载装置卸载和装载基板时，曝光装置仍用于对其他基板的曝光，与现有技术相比，提高 了曝光装置的利用率。【附图说明】 附图是用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面 的【具体实施方式】一起用于解释本技术，但并不构成对本技术的限制。在附图中： 图1为一种现有的光取向设备的示意图； 图2为本技术实施方式提供的光取向设备的示意图； 图3为承载基台的数量为4个的示意图； 图4为遮光装置的示意图； 图5为曝光装置的示意图； 图6为本实施方式与现有技术的曝光均一性的示意图； 图7为灯组的第一种结构的示意图；[002引图8为灯组的第二种结构的示意图； 图9为灯组的第S种结构的示意图。 其中，附图标记； 1 ;承载基台；2 ;曝光装置；4 ;装卸载装置；5 ;遮光装置；6 ;闽口；7 ;摄像头；1-0 ; 承载基台的初始位置；1-1 ;承载基台的结束位置；2-0 ;曝光装置的初始位置；2-1 ;曝光装 置的第一位置；2-2 ;曝光装置的第二位置；40 ;装载装置；41 ;卸载装置；20 ;光源；21 ;反 光镜；200 ;灯组；S;基板。【具体实施方式】 W下结合附图对本技术的【具体实施方式】进行详细说明。应当理解的是，此处 所描述的【具体实施方式】仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。 本技术提供一种光取向设备的实施方式，图2为本技术实施方式提供的 光取向设备的示意图。如图2所示，在本实施方式中，所述光取向设备包括；多个承载基台 1，每个承载基台1用于承载基板S;曝光装置2,用于对处于其照射范围内的基板S进行曝 光；驱动机构（图中未示出），用于驱动所述曝光装置2移动，使所述曝光装置2的照射范 围依次经过多个承载基台1上的基板S，即：使多个承载基台1上的基板S依次进入所述曝 光装置2的照射范围，并依次脱离所述曝光装置2的照射范围；装卸载装置4,用于将位于 所述曝光装置2的照射范围外的承载基台1上的已完成曝光的基板S卸载，W及，向位于所 述曝光装置2的照射范围外的承载当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光取向设备，包括多个承载基台，每个承载基台用于承载基板，其特征在于，所述光取向设备还包括：曝光装置，用于对处于其照射范围内的基板进行曝光；驱动机构，用于驱动所述曝光装置移动，使所述曝光装置的照射范围依次经过多个承载基台上的基板；装卸载装置，用于将位于所述曝光装置的照射范围外的承载基台上的已完成曝光的基板卸载，以及，向位于所述曝光装置的照射范围外的承载基台上装载新的基板。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：肖印，刘锋，邓金阳，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51