全息记录装置和全息记录方法制造方法及图纸

技术编号:11513145 阅读:65 留言:0更新日期:2015-05-27 20:11
本发明专利技术公开了一种全息记录装置和全息记录方法,所述全息记录装置包括光调制单元和物体成像单元,所述光调制单元用于产生入射光,并将所述入射光引导至所述物体成像单元,所述物体成像单元包括用于放置物体的空腔,所述空腔内部为反射面,所述空腔设置有用于使所述物体成像的成像孔、以及至少一个能够使所述入射光进入所述空腔的入光孔,以使得所述物体在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置成像。本发明专利技术中的物体成像单元不受制造工艺的限制和影响,能够有效降低像差,提高成像的质量,得到宽视角、失真小的全息图。此外,本发明专利技术特有的光路设计可以实现一步全息记录,使记录过程更加高效简便。

【技术实现步骤摘要】
全息记录装置和全息记录方法
本专利技术涉及全息显示
,尤其涉及一种全息记录装置和全息记录方法。
技术介绍
在记录全息图时,如果物体靠近记录介质,则不便引入参考光,因此,通常采用成像的方式产生像光,然后再将像光与参考光进行干涉完成全息图的记录过程。像面全息图的记录方式通常有两种,一种方式是采用透镜成像的方法,另一种是采用两步记录的方法。图1是透镜成像方法的示意图。透镜成像方法是利用透镜2对物体1成像产生像光,然后在全息干板3上记录像光和参考光的干涉条纹来实现像面全息图的记录过程。这种方法是一步全息记录方法,不需要复杂的光路,然而,由于透镜制造工艺和孔径的限制,这种方法记录的像面全息图可能会产生失真,并且视场角较小。图2a-图2b是两步记录方法的示意图。两步记录法通常先对物体1记录一张菲涅尔全息图H1,然后用参考光的共轭光(图2b中所示的再现光)照明全息图H1,再现物像4,物像4的像光与参考光叠加,得到像面全息图H2。这种方法包括两次记录过程和一次再现过程,操作复杂,并且噪声较大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种全息记录装置和全息记录方法,以简单高效地实现像面全息图记录,并提高成像质量。为解决上述技术问题,作为本专利技术的第一个方面,提供了一种全息记录装置,包括光调制单元和物体成像单元,所述光调制单元用于产生入射光,并将所述入射光引导至所述物体成像单元,所述物体成像单元包括用于放置物体的空腔,所述空腔内部为反射面,所述空腔设置有用于使所述物体成像的成像孔、以及至少一个能够使所述入射光进入所述空腔的入光孔,以使得所述物体在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置成像。优选地,所述光调制单元能够利用所述入射光生成与所述入射光干涉的参考光,所述物体成像单元包括反射面相对设置的上抛物镜和下抛物镜,所述上抛物镜和所述下抛物镜共同形成所述空腔,所述入射光通过所述入光孔照射到所述物体上,所述物体成像时产生的像光能够与所述参考光在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置进行干涉。优选地,所述成像孔位于所述上抛物镜的顶端。优选地,所述入光孔中设置有扩束镜,所述扩束镜用于对照射到所述入光孔中的入射光进行扩束,以使得所述入射光充满所述空腔。优选地,所述全息记录装置还包括记录单元,所述记录单元包括全息干板,所述全息干板设置在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置,所述像光和所述参考光在所述全息干板上进行干涉。优选地,所述全息干板包括透明的基板以及设置在所述基板上的感光材料。优选地,所述光调制单元包括激光器和第一分束镜,所述激光器发出的光通过所述第一分束镜后产生用于照射所述物体的入射光以及所述参考光。优选地,所述光调制单元还包括第一反射镜,所述第一反射镜用于调整所述参考光的传播方向,以使得所述参考光能够与所述像光在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置进行干涉。优选地,所述光调制单元还包括空间滤波器,所述空间滤波器设置在所述第一分束镜和所述第一反射镜之间,所述空间滤波器用于滤除所述参考光中的噪声。优选地,所述物体成像单元中设置有两个所述入光孔,两个所述入光孔分别位于所述成像孔的两侧,所述光调制单元还包括第二分束镜、第二反射镜和第三反射镜,所述第二分束镜用于将所述入射光分为两束光,所述第二反射镜和所述第三反射镜分别用于调整上述两束光的入射方向,以使得上述两束光分别照射到两个所述入光孔中。优选地,所述第一分束镜和所述第二分束镜为可变分束镜,所述第一反射镜、所述第二反射镜和所述第三反射镜为准直反射镜。作为本专利技术的第二个方面,还提供了一种利用上述全息记录装置的全息记录方法,所述全息记录方法用于像面全息图的记录,所述全息记录方法包括以下步骤:将待成像的物体置于所述物体成像单元的空腔中;利用所述光调制单元提供入射光,使所述入射光通过所述入光孔照射到所述物体上;照射到所述物体上的入射光经过所述空腔内部的反射面反射后在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置形成物像。优选地,所述全息记录方法还包括:利用所述光调制单元生成与所述入射光干涉的参考光;在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置设置全息干板;使所述物体成像过程中产生的像光与所述参考光在所述全息干板上进行干涉,记录干涉条纹。本专利技术中的物体成像单元不受制造工艺的限制和影响,能够有效降低像差,提高成像的质量,得到宽视角、失真小的全息图。此外,本专利技术特有的光路设计可以实现一步全息记录,使记录过程更加高效简便。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术,但并不构成对本专利技术的限制。图1是透镜成像方法的示意图;图2a-图2b是两步记录方法的示意图;图3是本专利技术实施例所提供的全息记录装置的示意图;图4a-图4b是双抛物镜面成像原理示意图。在附图中,1-物体;2-透镜;3-全息干板;4-物像;5-上抛物镜;6-下抛物镜;7-成像孔;8-入光孔;9-扩束镜;10-激光器;11-第一分束镜;12-第一反射镜;13-空间滤波器;14-第二分束镜;15-第二反射镜;16-第三反射镜。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术,并不用于限制本专利技术。本专利技术首先提供了一种全息记录装置,所述全息记录装置包括光调制单元和物体成像单元,所述光调制单元用于产生入射光,并将所述入射光引导至所述物体成像单元。所述物体成像单元包括用于放置物体的空腔,所述空腔内部为反射面,所述空腔设置有用于使所述物体成像的成像孔、以及至少一个能够使所述入射光进入所述空腔的入光孔,以使得所述物体在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置成像。本专利技术中的物体成像单元是指能够使物体在光线照射下成像的单元,并且,成像过程中产生的像光能够与参考光干涉,完成像面全息图的记录。本专利技术中的物体成像单元不受制造工艺的限制和影响,能够有效降低像差,提高成像的质量,得到宽视角、失真小的全息图。此外,本专利技术特有的光路设计可以实现一步全息记录,使记录过程更加高效简便。进一步地,所述光调制单元能够利用所述入射光生成与所述入射光干涉的参考光。作为本专利技术的一种实施方式,如图3所示,所述物体成像单元包括反射面相对设置的上抛物镜5和下抛物镜6,其中,上抛物镜5和下抛物镜6的内凹的表面为镜面,上抛物镜5和下抛物镜6共同形成所述空腔。成像孔7和入光孔8既可以设置在上抛物镜5上,也可以设置在下抛物镜6上,或者,成像孔7和入光孔8可以分别设置在不同的抛物镜上,只要满足使物体1成像的条件即可。所述入射光通过入光孔8照射到物体1上,物体1成像时产生的像光能够与所述参考光在所述空腔外部对应于成像孔7的位置进行干涉。图4a-图4b是双抛物镜面成像原理示意图。将物体1放入下抛物镜6的底部,盖上上抛物镜5,在入射光的照射下,物体1上的一个点反射出的多条光线,经过上下抛物镜的多次反射作用后汇聚在所述空腔外部对应于成像孔7的位置,形成像点,物体1上的物点都能实现此成像过程,并最终在所述空腔外部对应于成像孔7的位置形成物像4。本专利技术中的双抛物镜结构不会受到制造工艺的限制和影响,与采用透镜成像相比,能够有效降低像差,提高成像的质量,得到宽视角、失真小的全息图。此外,本专利技术特有的光路设计可以实现一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全息记录装置,其特征在于,包括光调制单元和物体成像单元,所述光调制单元用于产生入射光,并将所述入射光引导至所述物体成像单元,所述物体成像单元包括用于放置物体的空腔,所述空腔内部为反射面,所述空腔设置有用于使所述物体成像的成像孔、以及至少一个能够使所述入射光进入所述空腔的入光孔,以使得所述物体在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置成像。

【技术特征摘要】
1.一种全息记录装置,其特征在于,包括光调制单元和物体成像单元,所述光调制单元用于产生入射光,并将所述入射光引导至所述物体成像单元,所述物体成像单元包括用于放置物体的空腔,所述空腔内部为反射面,所述空腔设置有用于使所述物体成像的成像孔、以及至少一个能够使所述入射光进入所述空腔的入光孔,以使得所述物体在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置成像,所述光调制单元能够利用所述入射光生成与所述入射光干涉的参考光,所述物体成像单元包括反射面相对设置的上抛物镜和下抛物镜,所述上抛物镜和所述下抛物镜共同形成所述空腔,所述入射光通过所述入光孔照射到所述物体上,所述物体成像时产生的像光能够与所述参考光在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置进行干涉,所述光调制单元包括激光器和第一分束镜,所述激光器发出的光通过所述第一分束镜后产生用于照射所述物体的入射光以及所述参考光,所述光调制单元还包括第一反射镜,所述第一反射镜用于调整所述参考光的传播方向,以使得所述参考光能够与所述像光在所述空腔外部对应于所述成像孔的位置进行干涉,所述物体成像单元中设置有两个所述入光孔,两个所述入光孔分别位于所述成像孔的两侧,所述光调制单元还包括第二分束镜、第二反射镜和第三反射镜,所述第二分束镜用于将所述入射光分为两束光,所述第二反射镜和所述第三反射镜分别用于调整上述两束光的入射方向,以使得上述两束光分别照射到两个所述入光孔中。2.根据权利要求1所述的全息记录装置,其特征在于,所述成像孔位于所述上抛物镜的顶端。3.根据权利要求1所述的全息记录装置,其特征在于,所述入光孔中设置有扩束镜,所述扩束镜用于对...

【专利技术属性】
技术研发人员:牛贝武乃福魏伟王涛
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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